JPS6036573A - 無機物質用表面処理剤 - Google Patents

無機物質用表面処理剤

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JPS6036573A
JPS6036573A JP58146029A JP14602983A JPS6036573A JP S6036573 A JPS6036573 A JP S6036573A JP 58146029 A JP58146029 A JP 58146029A JP 14602983 A JP14602983 A JP 14602983A JP S6036573 A JPS6036573 A JP S6036573A
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alkylene
glycolate
inorganic substance
acid
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JP58146029A
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Tetsuhiro Inoue
井上　徹裕
Koji Tsuriga
釣賀　宏二
Masashi Harada
昌史 原田
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Original Assignee
Adeka Argus Chemical Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、無機物質用表面処理剤、詳しくは、特定の金
属グリコレート化合物を含有する無機物質用表面処理剤
に関する。
無機物質は古くから重合体に対する充填剤、Ｄｎ料、補
強剤として配合使用されている。無機物質の表面は本質
的に親水性であるために水に濡れやすく、また水を良く
吸収する。しかし無機物質と重合体との間の親和性は本
質的に限度があり、従って無機物質を重合体に高充填す
る場合、特に衝撃強度等の機械的強度及び加工性をひど
（損なうこととなる。また無機物質を有機液体中に分散
させる際にも一般に分散性が劣るという不都合がある。
かかる不都合を改善するために無機物質の表面を有機チ
タネート類、有機ジルコニウム等で改質する方法が提案
されている。例えば、特公昭４９−−３９１６９号公報
にはジアルコキシ・ジアシルチタネートまたはトリアル
コキシ・モノアシルチタネートで無機物質を処理する方
法、特公昭５５−−４６６６０号公報にはモノアルコキ
シ・１−リアシルチタネート等で充填剤を処理する方法
等が提案されている。
しかしながら、上記有機チタネート等で処理された無機
物質を充填した重合体といえども衝撃強度等の機械的強
度および加工性が充分満足されたものとならず、また上
記有機チクネー１−等は湿分に対して不安定であり、そ
の使用に当たり制限がある等の不都合がある。
本発明者等は、かかる不都合を克服すべく鋭意研究を進
めた結果、無機物質をある特定の金属グリコレート化合
物で処理した場合には、この表面の改質された無機物質
は重合体に高充填しても衝撃強度等の機械的強度および
加工性の低下を木質的に損なうことがなく、しかも該金
属グリコレート化合物は湿分に対して安定であることを
見い出し本発明に到達した。
即ち、本発明は、次の一般式（Ｉ）で表される化合物の
少なくとも一種を含有する無り物質用表面処理剤を提供
するものである。
〔式中、Ｍｅば錫、チタン、ジルコニウム又はアルミニ
ウムを示し、Ｍｅが錫、チタン又はジルコニウムの時ｍ
ば１を示し、肋がアルミニウムの時ｍは０を示す。Ｒは
長鎖アルキル基を示し、ｘｉ及び１ Ｘ２は各々−Ｒ＋　、−０ＲＩ　、−０ＣＲｔ　、−５
Ｒｔ、−３（ＣＨｚ　）ｎｃＯＯＲ＋　、−０５Ｏ２−
Ｒｔ、ＲＩ ０　Ｏ １１１ あるいはＸＩ及びｘ２は共同して を示す。Ｒ１はアルキル基、アルケニル基又はアリール
基を示し、Ｒ２はアルキレン基を示し、Ｒ３は水素原子
、アルキル基、アルケニル基又はアリール基を示す。ｒ
はＯ又は１を示す。）本発明においで用いられる前記一
般式ＣＩ）で表される化合物において、Ｒで表される長
鎖アルキル基としてはオクチル、デシル、１・°デシル
、テトラテシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタ
デシル、ノナデシル、エイコシル、ヘンエイコシル、ト
コシル、トリツクル、テトラコシル、ベンタコシル、ヘ
キサデシル、ヘプタデシル、オフタコシル、ノナコシル
、トリアコンチル、トドリアコンチル、テトラトリアコ
ンチル、ヘキサ１−リアコンチル、オクタトリアコンチ
ル、テトラコンチル、トチトラコンチル等の０８〜Ｃ５
Ｏのアルキル基があげられ、特にＣｔＯ以上のものが好
ましい。
Ｒ１及びＲ３で表されるアルキル基としてはメチル、エ
チル、プロピル、ブチル、アミル、ヘキシル、ヘプチル
、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、
トリデシル、テ１−ラデシル、ペンタデシル、ヘキサデ
シル、ヘプタデシル、オクタデシル、シクロペンチル、
シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、ヘ
ンシル等があげられる。
Ｒ１及びＲ３で表されるアルケニル基としてはビニル、
プロペニル、ヘキセニル、ドデセニル、ヘキサデセニル
、ヘプタデセニル、オクタデセニル等があげられる。
Ｒ１及びＲ３で表されるアリール基としてはフェニル、
ナフチル、トリル、プロピルフェニル、ブチルフェニル
、ヘキシルフェニル、オクチルフェニル、ノニルフェニ
ル、ドデシルフェニル等力あげられる。
Ｒ２で表されるアルキレン基としてはメチレン、エチレ
ン、１．２−プロピレン、■、３−プロピレン、■、２
−ブチレン、１，４−ブチレン、１．２−デシレン、■
、２−ドデシレン、１．２−オクタデシルン等があげら
れる。
又、これらの有機基はハロゲン原子、アミノ基、ニトロ
基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、エポキシ基、アルコ
キシ基、アルキルメルカプト基、エステル基又はシアノ
基で置換され、あるいは酸素、硫黄、窒素のようなヘテ
ロ原子を鎖中に含んでいてもよい。
本発明で用いられる前記一般式ＣＩ）で表される化合物
は、例えば、金属低級アルコキサイドと、長鎖１，２−
グリコール（Ｈ−Ｘｉ及び／又はＨ−Ｘ２で表される化
合物）を反応させることによって容易に製造することが
できる。
また、Ｈ−Ｘｌ又はＨ−Ｘ　２で表される化合物として
は、Ｒ，ＯＨで表されるアルコール又はフェノール、Ｈ
ＯＯＣＲｌで表されるカルボン酸、Ｈ３ＲＩで表される
メルカプタン、Ｈ３Ｒ２ＣＯＯＲ１で表されるメルカプ
ト酸エステル、Ｈ３Ｒ２００ＣＲＩで表されるメルカプ
トアルコールエステル、ｌＳＯ３Ｒ１で表されるスルホ
ン酸、Ｒ１ ００ で表されるピロホスフェートがあげられる。
そして、上記アルコール又は上記フェノールとしてはメ
チルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコー
ル、イソプロピルアルコール、メチルアルコール、オク
チルアルコール、ノニルアルコール、デシルアルコール
、ドデシルアルコール、トリデシルアルコール、テトラ
デシルアルコ−Ｊｌｚ、ヘキサテシルアルコール、オク
タデシルアルコール、ビニルアルコール、オレイルアル
コール、シクロヘキシルアルコール、ヘンシルアルコー
ル、フェノール、ブチルフェノール、オクチルフェノー
ル、ノニルフェノール、ドデシルフェノール等があげら
れる。
上記カルボン酸としては、脂肪族及び芳香族カルボン酸
が包含され、直鎖又は分枝、飽和又は不飽和、置換又は
非置換のカルボン酸があり、例えばステアリン酸、イソ
ステアリン酸、パルミチン酸、ワシルイン酸、リルイン
酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、オレイン酸、カプロン
酸、カプリン酸、２−エチルヘキシル酸、ネオデカン酸
、安息香酸、パーフルオロオクチル酸、アクリル酸、メ
タクリル酸、モノアルキルフタル酸、ｐ−アミノ安息香
酸、アミノカプリル酸、アミノプロピオン酸、エポキシ
ステアリン酸等があげられる。
上記メルカプタンとしては例えば、オクチルメルカプタ
ン、ドデシルメルカプクン、ステアリルメルカプタン、
ベンジルメルカプタン等があげられる。
上記メルカプト酸エステルとしては、イソオクチルチオ
グリコレート、２−エチルへキシルチオグリコレート、
デシルチオグリコレート、ドデシルチオグリコレート、
ミリスチルチオグリコレート、ステアリルチオグリコレ
ート、インオクチルメルカプトプロピオネート等があげ
られる。
上記メルカプトアルコールエステル”としては例えばメ
ルカプトエチルオレート、メルカプトエチルラウレート
、メルカプトエチルステアレート等があげられる。
上記スルポン酸としてはベンゼンスルホン酸、ドデシル
ベンゼンスルホン酸、ｐ−アミノベンゼンスルホン酸、
オクタデカンスルホン酸等があげられる。
上記ホスファイト、ホスフェ−１・またはピロホスフェ
ートとしては、ジプチル−、シアミル−。
ジヘキシルー、ジオクチル−、ジテトラデシルー、ジヘ
キサデシルー、ジオククデシルー、ジフェニル−、ジキ
シリルー、ビス（ドデシルフェニル）−、ジベンジル−
ホスファイト、ホスフェートまたはピロボスフェートが
あげられる。
本発明で用いられる前記一般式ＣＩ）で表される金属長
鎖グリコレート化合物の具体例を次に示す。
イソプロポキシ・イソステアロイルオキシチタン・Ｃ１
２，１４アルキレングリコレート、イソプロポキシ・イ
ソステアロイルオキシチタン・０１６゜１８アルキレン
グリコレート、ジイソステアロイルオキシチタン・Ｃ１
６，１８アルキレングリコレート、ジイソプロポキシチ
タン・Ｃ１，Ｇ＋　１８アルキレングリコレート、チタ
ン・ビス（Ｃ１６，ｉｓアルキレングリコレート）、イ
ソプロポキシ・オレオイルオキシチタン・ＣＩＧ、１８
アルキレングリコレ−１〜、イソプロポキシ・アクリロ
イルオキシチタン・ＣＩ２．１４アルキレングリコレ−
１−、イソプロポキシ・ジイソオクチル燐酸チタン・Ｃ
Ｉｏ、１２アルキレングリコレート、メトキシ・イソス
テアロイルオキシチタン・ＣＩ２．１４アルギレングリ
コレート、イソプロポキシ・ドデシルベンゼンスルホン
酸チタン・ＣＩＥｉ、１８アルキレングリコレート、エ
トキシ・ジオクチルピロ燐酸チタン・ＣＩｆ；、１８ア
ルキレングリコレート、イソプロポキシ・チオドデシル
チタン・ＣＩＧアルキレングリコレート、メトキシ・チ
オオクチルチタン・Ｃ１８アルキレングリコレート、エ
トキシ・２−エチルへキシルチオグリコレートチタン・
Ｃ２０〜３０アルキレングリコレート、チタン・β−オ
キシプロピオネ−１−・ＣＩＯアルキレングリコレート
、チタン・オキシアセテート・Ｃ３０〜４ｏアルキレン
グリコレート、イソプロポキシ・オレオイルオキシエチ
ルチオチタン・Ｃ３０アルキレングリコレート、イソプ
ロポキシ・ステアリルオキシチタン・Ｃ２０アルキレン
グリコレート、オクチル錫メトキシ・ＣＩＧ、１８アル
キレングリコレート、メトキシ・イソステアロイルオキ
シ錫・・ＣＩＧ、１８アルキレングリコレート、ジブト
キシ錫・Ｃ１８アルキレングリコレ−１へ、メ１〜キシ
錫オレート・Ｃ１２，１４アルキレングリコレート、イ
ソプロポキシ錫ドデシルベ＋ゼンスルホネート・ＣｔＺ
アルキレングリコレート、ブチル錫ジオクチルピロホス
フェート・ＣＩ２．１４アルキレングリコレート、ブト
キシ・　（ブトキシカルボニルエチル）錫・Ｃ１６アル
キレングリコレート、イソプロポキシ・メチル錫・Ｃ１
１ｌｉ、１８アルキレングリコレート、メチル錫イソオ
クトエート・ＣＩ６〜２０アルキレングリコレート、錫
β−オキシプロピオネート・Ｃ１８アルキレングリコレ
ート、オクチル錫・２−エチルへキシルチオグリコレー
ト・ｃｉｅ、１８アルキレングリコレート、ブチル錫Ｆ
デシルメルカプタイド・ＣＩＧ、１８アルキレングリコ
レート、錫・オキシアセテート・ＣＩＧ、１８アルキレ
ングリコレート、ジオクチル錫・Ｃ２０アルキレングリ
コレート、ジブチル錫・ＣＩＧアルキレングリコレート
、ステアリルオキシジルコニウム・イソステアレー１−
・Ｃ１Ｂアルキレングリコレート、２−エチルへキシル
オキシジルコニウム・イソステアレート・ＣＩＯアルキ
レングリコレート、イソプロポキシジルコニウム・イソ
ステアレート・Ｃ１２アルキレングリコレート、工１−
キシジルコニウム・カブリレート・ＣＩ４アルキレング
リコレ−Ｉ・、イソプロポキシジルコニウム・イソステ
アレー１・・ｃｔ６アルキレングリコレート、ジブトキ
シジルコニウム・ｃｔｅ、ｔ８アルキレングリコレート
、ジブトキシジルコニウム・オレート・ＣＩ２〜１Ｇア
ルキレングリコレート、メトキシジルコニウム・イソオ
クトエート・ＣＩ６．ｔｓアルキレングリコレ−１・、
メトキシジルコニウム・ジオクチルピロポスフェート・
ＣＩＧ、１８アルキレングリコレ−１−、ジルコニウム
・β−オキシプロピオネート・ＣＩＥｉ、１Ｂアルキレ
ングリコレート、イソプロポキシジルコニウム・ドデシ
ルメルカプタイド・ＣＩ２．＋４アルキレングリコレ−
１−、エトキシジルコニウム・ドデシルベンゼンスルホ
ン酸ト・ＣＩＯアルキレングリコレート、イソプロポキ
シアルミニウム・ＣＩ２、１４アルキレングリコレート
、第２ブ１−キシアルミニウム・ＣｔＣ，比アルキレン
グリコレート、アルミニウム・イソステアレート・Ｃ１
２，＋４アルキレングリコレート、アルミニウム・イソ
プロピルマレート・ＣＩＧ、１８アルキレングリコレ−
１−ｌｔ−ブトキシアルミニウム・ＣＩＧ、１８アルキ
レングリコレート１、アルミニウム・アミノアセテート
・Ｃ１０，１８アルキレングリコレート等があげられる
。
本発明の無機物質用表面処理剤は、前記一般式（１）で
表される金属グリコレート化合物の少なくとも一種を含
有するものであり、この本発明の無機物質用表面処理剤
で無機物質の表面を処理することによって該無機物質が
充填された重合体の成型体の衝撃強度等の機械的性質の
低下及び加工性の低下を本質的に損なうことがないとい
う顕著な効果あるいは該無機物質を有機媒体に分散させ
る場合の分散性を向上させるという顕著な効果を発揮す
る。
前記一般式（Ｔ）で表される金属グリコレート化合物の
少なくとも一種を含有する本発明の無機物質用表面処理
剤による無機物質の表面改質において、上記金属グリコ
レ−１・化合物は無機物質１００重量部に対して少なく
とも０．１重量部以上、好ましくは０．５〜１０重量部
使用される。上記金属グリコレート化合物を含有する本
発明の無機物質用表面処理剤により無機物質表面を改質
処理することにより、無機物質表面に存在する反応性の
水酸基及び／又は吸着水と上記金属グリコレ−１〜化合
物の間で反応が起こり、この反応により無機物質と上記
金属グリコレ−１〜化合物の間に結合が生じ、無機物質
上に有機疏水性表面層が形成されるために無機物質が有
機媒体（低分子量液体又は高分子量重合体固体）と濡れ
易くなり、凝集無機物質が容易に個々の粒子に分散し、
均質な分散体が得られるようになる。
本発明の無機物質用表面処理剤で処理される無機物質は
、その表面に反応性の水酸基及び／又は吸着水を有する
ことが必要である。このような無機物質としては金属、
クレー、カーホンブラ・ツク、炭酸カルシウム、硫酸バ
リウム、シリカ、雲母、水酸化アルミニウム、γ−−ア
ルミナ、水酸化マグネシウム、ケイ酸カルシウム、ケイ
酸アルミニウム、タルク、ガラス、石英、ヒル石、アス
へスト、亜鉛、マグネシウム、鉛、カルシウム、アルミ
ニウムの金属化合物、鉄くず、硫黄、二酸化チタン、酸
化鉄、フェライト、クロム酸亜鉛、酸化亜鉛、ウルトラ
マリンブルー等があげられる。これらの無機物質の形状
は特に制限さるものではなく、また粒径は１ｍｍ以下、
好ましくは０．１〜５００μの範囲内のものが用いられ
る。
本発明の金属グリコレ−１−化合物を含有する無機物質
用表面処理剤による無機物質の表面改質は、本発明の無
機物質用表面処理剤と無機物質を乾式または湿式法にて
混合すれば良いが、湿式法が均一混合の点からより好ま
しい。
湿式処理の際に、本発明の無機物質用表面処理剤に含有
される金属グリコレート化合物と反応しないナフサ、ヘ
キサン、ヘプタン、オクタン、オクテン、ベンゼン、１
−ルエン、ギシレン等の炭化水素又はトリクロルエチレ
ン等の塩素化炭化水素が用いられる。
混合温度は特に制限されるものではないが、無機物質と
金属グリコレ−１・化合物の間の反応が起こるように選
ばれる。
乾式混合では、例えばヘンシェルミキサー、オハートミ
キザー、ワーリングブレンダー等で混合するのが好まし
い。
以上のようにして本発明の無機物質用表面処理剤により
表面改質された無機物質はそのままで重合体用充填剤と
して、または該表面改質された無機物質の存在下に重合
を行うとか、あるいはその他の用途に用いることができ
る。しかしながら、無機物質を重合体用充填剤として用
いる場合には、本発明の無機物質用表面処理剤、未改質
無機物質および重合体を直接混合することもできる。
上記重合体としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、
ポリブテン−１、ポリスチレン、八ＢＳ、ポリ塩化ビニ
ル、ポリカーボネート、ポリフェニレンオキシ１−、ナ
イロン樹脂、ポリエステル樹脂、不飽和ポリエステル樹
脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、尿素樹脂、ゴム等
の重合体を用いることができる。
本発明の無機物質用表面処理剤で表面改質された無機物
質又は本発明の無機物質用表面処理剤及び未改質無機物
質と重合体との混合は、一般に重合体の二次転位温度よ
り高い温度、好ましくは重合体が低溶融粘度状態になる
温度、例えば低密度ポリエチレンでは１６０〜２３０℃
、高密度ポリエチレンでは１９０〜２５０℃、ポリスチ
レンでは２２０〜２６０　℃、またポリプロピレンでは
２２０〜２９０℃の温度範囲で行うのが最も良好な加工
性が得られる。他の重合体に混合する温度は当業者にと
って周知であり、公知の文献を参考にして決められる。
また混合には種々の混合装置、例えば二本ロールミル、
パンハリーミキサー、二重同心スクリュー、対向または
共同転対スクリュー及びＺＳＫ型ウェつザー等が用いら
れる。
充填剤、顔料、補強剤としての無機物質の量は、重合体
の種類及び最終化成物の必要とする物性等によって異な
るが、一般に重合体１００部当たり無機物質１０〜３０
００部、好ましくは２０〜２０００部、最も好ましくば
２ｏ〜２５０部を使用することができる。
本発明の無機物質用表面処理剤によって表面改質された
無機物質は重合体または有機媒体への親和性が改善され
ている結果、 （１）有機媒体へ無機物質を分散させた分散体のレオロ
ジー性、特に粘度の低下効果が著しいため、有機媒体中
への無機分散体の充填率をより高くすることが可能にな
る。
（２）無機物質と重合体の親和性が向上しているので、
重合体の強度及びその他の物理的物性が改良される。
（３）無機物質の分散性が改良されているために分散が
効果的に行われ、所要量を低下させることが可能になる
。
（４）重合体中への無機物質の高充填が可能となる。
（５）無機物質の高充填により重合体の難燃性、焼却性
の改善ができる。
（６）無機物質を分散させるに要する混合時間が短くな
る。
というような効果が達成される。
以下に実施例により本発明を更に詳細に説明するが、本
発明はこれらの実施例により制限されるものではない。
実施例１ 攪拌機、蒸留塔および凝縮器を備えた三ツロ反応フラス
コに２８４ｇ　（１モル）のテトライソプロピルチタネ
ート、３００ｇのトルエンおよび２７２ｇ（１モル）の
ＣＩＥｉ、　１８アルキレングリコールを仕込み、これ
を６０　”ｃに昇温し、１時間反応した。冷却し、２８
４ｇ（１モル）のイソステアリン酸を加え、２時間反応
した。次いで、１００’ｃ　／　Ｂ　ｍｍＨｇｍＨｇ下
域時間減圧処理イソプロパツール及び塩トルエンを行い
、褐色粘稠液体を（Ｍた。
この液体は、赤外分析によりイソプロポキシ・イソステ
アロイルオキシチタン・ＣＩＧ、１８アルキレングリコ
レートであることを確認した。〔νｃ”。
９９０ｃｍ”’Ｉ　） 実施例２ 攪拌機、蒸留塔および凝縮器を備えた三ツロ反応フラス
コに３３８ｇ（１モル）のモノオクチル錫トリクロライ
ド及び５００ｇのキシレンを仕込み、これに、２０〜４
０°Ｃで１時間を要して５８０ｇ（３モル）の２８％す
１〜リウムメｌ〜キサイド−メタノール溶液を滴下した
。１時間攪拌後２１５ｇ（１モル）のＣ１２，１４アル
キレングリコール１５００　ｇのキシレン溶液を１時間
を要して滴下した。さらに１時間攪拌後、生成した食塩
を濾過により除去した後、１００℃／　３　ｍｍ１１ｇ
下１時間減圧処理し、脱メタノール及び脱キシレンを行
い、黄色粘稠液体を得た。この液体は、赤外分析により
メトキシ・オクチル多易・ＣＩ２，１４アルキレングリ
コールであることを確認した。
−Ｃ 実施例３ 攪拌機、蒸留塔および７ｆ縮器を備えた三ツロ反応フラ
スコに２３３ｇ　（１モル）のジルコニウムテトラクロ
ライドと５００ｇのキシレンを仕込み、これに、２０〜
４０℃で１時間を要して７７２ｇ　（４モル）の２８％
ナトリウムメトキサイド−メタノール溶液を滴下した。
１時間攪拌後２０２ｇ（１モル）のＣ１０アルキレング
リコール１５００ｇのキシレン溶液を１時間を要して滴
下した。
さらに１時間攪拌後、１４４ｇ（１モル）のイソオクチ
ル酸を加え、２時間反応した。生成した食塩を濾過によ
り除去した後、１００°（／　３　ｍｍ１１ｇ下１時間
減圧処理し、脱メタノール及び脱キシレンを行い、淡褐
色活劇液体を得た。この液体は、赤外分析によりメトキ
シジルコニウム・イソオクトエート・ＣＩＯアルキレン
グリコレートであることを確認した。〔シｃ−ｏ　１５
５０ｃｍ−］　。
実施例４ 攪拌機、蒸留塔および凝縮器を備えた三ツロ反応フラス
コに２０４ｇ　（１モル）のトリイソプロポキシアルミ
ニウムと５００ｇのキシレンを仕込み、これに、３４２
ｇ（１モル）のＣ２０〜２４のアルキレングリコレール
／　６００　ｇのキシレン溶液を３０分を要して滴下し
た。１時間攪拌後１００℃／　８　ｍｍ１１ｇの条件下
でキシレン及び生成したイソプロパロールを溜去し、淡
黄色、半固体の生成物を得た。この生成物は、赤外分析
によりイソブト１ホキシアルミニウム・Ｃ２０〜２斗ア
ルキレングリコレートであることを確認した。
実施例５ 平均粒径１．８μの炭酸カルシウム１００ｇに対して、
イソプロポキシ・イソステア０イルオキシチタン・Ｃ１
Ｇ、＋８アルキレングリコレートを所定量（０，５ｇ、
Ｉｇまたは２ｇ）添加し、均一に混合して処理品（表面
改質された炭酸カルシウム）を得た。低密度ポリエチレ
ン１００重量部に、」二記処理品を第１表に示ず量添加
し、ヘンシェルミキサーでトライブレンドし、１７０°
Ｃの二本ロールミルで１０分間混練して粉砕した。次い
で、粉砕物を１７０’Ｃでプレス成型した。このように
して得られた成型板の抗張力、伸び、ＭＦＩを測定した
。その結果を第１表に示す。なお、比較のためイソプロ
ピル・トリ　（イソステアロイル）・チタネートを使用
した試験も行った。
第　１　表 ＊１　；イソプロピル・トリ　（イソステアロイル）・
チタネート処理品 ＊２　；イソプロポキシ・イソステアロイルオキシチタ
ン・ＣＩＧ、＋８アルキレングリコレ一ト処理品 実施例６ 平均粒径１．７μのタルク１００ｇに対して、第２表に
示す表面処理剤１ｇを添加し、均一に混合して処理品（
表面改質されたタルク）を得た。ポリプロピレン１００
重量部に、上記処理品を第２表に示す量添加し、ヘンシ
ェルミキサーでトライブレンドした後１７７°Ｃの二本
ロールミルで１０分間混練した。次いで、２００　’Ｃ
１５，１Ｋｇ　／　ｃｔの条件下で射出成型し、試片を
作成した。この試片の抗張力、伸び、及びＭＦＩを測定
した。その結果を第２表に示す。
第　２　表 （第２表の続き） （第２表の続き） 実施例７ 平均粒径１μの水酸化アルミニウム１００ｇに第３表に
示す表面処理剤１ｇを添加し、均一に混合して処理品（
表面改質された水酸化アルミニウム）を得た。高密度ポ
リエチレン１００重量部に、上記処理品を第３表に示ず
量添加し、ヘンシェルミキサーでトライブレンドした後
、３分母イクル、ラム圧４　Ｋｇ　／　ｃｔ、９０℃の
条件下バンバリーミキサ−で混合した。次いで、２００
°Ｃ１３００ＫＢ／ｃｒｙの条件下で射出成型し、試片
を作成した。
この試片のシャルピー衝撃強度（ノソチイ」）及びＭＦ
Ｉを測定した。その結果を第３表に示す。
第　３　表 （第３表の続き） （第３表の続き） 実施例８ 炭酸カルシウム１００重量部に第４表に示す表面処理剤
０．７または１．４重量部を添加し均一に混合して処理
品（表面改質された炭酸カルシウム）を得た。次いで、
この処理品７０重量部及び流動パラフィン３０重量部を
とり均一に分散させ、２５°Ｃにおける粘度を測定した
。その結果を第４表に示す。尚、未処理の炭酸カルシウ
ムを用いた場合は」：１の割合でも均一に分散しなかっ
た。
第　４　表 （第４表の続き） （第４表の続き） （第４表の続き） 実施例９ アルキレングリコレールのｔＭ＆の影響をみるために式 ％式％（７ で表される化合物を用い、実施例６と同様の試験を行っ
た。
その結果を第５表に示す。
第　５　表

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 次の一般式（Ｉ）で表される化合物の少なくとも一種を
    含有する無機物質用表面処理剤。 〔式中、Ｍｅは錫、チタン、ジルコニウム又はアルミニ
    ウムを示し、Ｍｅが錫、チタン又はジルコニウムの時ｍ
    は１を示し、Ｍｅがアルミニウムの時ｍは０を示す。Ｒ
    は長鎖アルキル基を示し、Ｘｌ及び１ Ｘ２は各１−Ｒ，、−ＯＲ，、−０ＣＲ，、−３Ｒ，、
    −３（ＣＨ２）ｎｃＯＯＲ＋　、−０５Ｏ２−Ｒ１。 ＲＩ ／ 一５Ｒ２０ＣＯＲＩ　、−０−Ｐ　又は１１　＼ （０）ｊ　０Ｒ３ ００ １１１ あるいはＸｌ及びＸ２は共同して を示す。Ｒ１はアルキル基、アルケニル基又はアリール
    基を示し、Ｒ２はアルキレン基を示し、Ｒ３は水素原子
    、アルキル基、アルケニル基又はアリール基を示す。ｒ
    は０又は１を示す。）
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