JPS59196368A - 無機物質用表面処理剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、無機物質用表面処理剤、詳、シ＜は、特定の
β−ジケトネート化合物を含有する無機物質用表面処理
剤に関する。

無機物質は古くから重合体に対する充填剤、顔料、補強
剤として配合使用されている。無機物質の表面は本質的
に親水性であるために水に濡れやすく、また水を良（吸
収する。しかし無機物質と重合体との間の親和性は本質
的に限度があり、従って無機物質を重合体に高充填する
場合、特に衝撃強度等の機械的強度及び加工性をひどく
損なうこととなる。また無機物質を有機液体中に分散さ
せる際にも一般に分散性が劣るという不都合がある。か
かる不都合を改善するために無機物質の表面を有機チタ
ネート類、有機ジルコニウム等で改質する方法が提案さ
れている。例えば、特公昭４９−３９１６９号公報には
ジアルコキシ・ジアシルチタネートまたはトリアルコキ
シ・モノアシルチタネートで無機物質を処理する方法、
特公昭５５−−４６６６０号公報にはモノアルコキシ・
トリアジルチタネート等で充填剤を処理する方法等が提
案されている。

しかしながら、上記有機チタネート等で処理された無機
物質を充填した重合体といえども衝撃強度等の機械的強
度および加工性が充分満足されたものとならず、また上
記有機チタネート等は湿分に対して不安定であり、その
使用に当たり制限がある等の不都合がある。

本発明者等は、かかる不都合を克服すべく鋭意研究を進
めた結果、無機物質をある特定のβ−ジケトネート化合
物で処理した場合には、この表面の改質された無機物質
は重合体に高充填しても衝撃強度等の機械的強度および
加工性の低下を本質的に損なうことがな（、しかも該β
−ジケトネート化合物は湿分に対して安定であることを
見い出し本発明に到達した。

即ち、本発明は、次の一般式ＣＩ）で表される化合物の
少なくとも一種を含有する無機物質用表面処理剤を提供
するものである。

〔式中、Ｍｅはチタン、錫またはジルコニウムを示し、
Ｒ１はアルキル基またはアルコキシカルボニルアルキル
基を示し、Ｒ２はアルキル基またはアルケニル基を示し
、Ｒ３はアルキレン基を示し、へはアルキル基またはア
リール基を示し、Ｒ５は水素原子、１ アルキル基または一−Ｃ−を示し、Ｒ６はアルキル基、
了り−ル基または一〇−Ｒ２を示し、Ｘは１ −　ＯＣ−Ｒ７、−５−Ｒ２、−３Ｒ３ＣＯＯＲ２、−
３Ｒ３０ＣＯＲ７、−０−Ｓ　Ｏ２−Ｒ７、示し、ｌは
０または１を示し、ｍは０〜２を示し、ｎは０または１
を示し、ｑは１または２を示し、ｐはθ〜２を示す。但
し！十ｍ＋ｎ＋ｐ＋ｑはｎ＝０の時４であり、ｎ＝１の
時３であり、またｎ＝Ｑの時ｍ及びｐは１または２を示
し、ｎ＝１の時ｍ及びｐはＯまたは１を示す。Ｒ７はア
ルキル基、アルケニル基または了り−ル基を示し、Ｒ８
ハ水素原子、アルキル基、アルケニル基またはアリール
基を示し、ｒは０または１を示す。〕本発明において用
いられる前記一般式〔Ｉ〕で表される化合物において、
Ｒ１，Ｒ２，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６゜Ｒ７及びＲ８で示され
るアルキル基としてはメチル、エチル、プロピル、ブチ
ル、アミル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、
デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデ
シル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オ
クタデシル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロ
ヘプチル、シクロオクチル、ベンジル等があげられる。

Ｒ２、Ｒ７及びＲ８で示されるアルケニル基としてはビ
ニル、プロペニル、ヘキセニル、ドデセニル、ヘキサデ
シル、ヘプタデセニル、オクタデセニル等があげられる
。

Ｒ４，Ｒ６、Ｒ７及びＲ８で示されるアリール基として
はフェニル、ナフチル、トリル、ブチルフェニル八へキ
シルフェニル、オクチルフェニル、ノニルフェニル、ド
デシルフェニル等があげられる。

Ｒ３で示されるアルキレン基としてはエチレン、１．２
−プロピレン、１，３−プロピレン、１゜２−ブチレン
、１，４−ブチレン等があげられる。

Ｒ１で示されるアルコキシカルボニルアルキル基として
はメトキシカルボニルエチル、イソプロポキシカルボニ
ルエチル、メトキシカルボニルエチル、オクトキシカル
ボニルエチル等があげられる。

又、これらの有機基はハロゲン原子、アミノ基、ニトロ
基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、エポキシ基、アルコ
キシ基、アルキルメルカプト基、エステル基又はシアノ
基で置換され、あるいは酸素、硫黄、窒素のようなヘテ
ロ原子を鎖中に含んでいてもよい。

本発明で用いられる前記一般式（１）で表される化合物
は、例えば、（ＲｘｉＭｅ（ＯＲ２）　４−１Ｔ：表さ
れる金属アルコキサイドと、 ５ ル化合物及びＨＯ−Ｒ３−ＣＯＯＨ及び／またはＸ−Ｈ
で表される化合物とを反応させることによって容易に製
造することができる。

５ ル化合物としては、例えば、アセト酢酸あるいはベンゾ
イル酢酸−エチル、−ブチル、−ヘキシル、−オクチル
、−イソオクチル、−２−エチルヘキシル、−デシル、
−イソデシル、−ドデシル。

−テトラデシル、−ヘキサデシル、−オレイル及び−オ
クタデシル等のβ−ケト酸エステル、及び、アセチルア
セトン、ベンゾイルアセトン、ステアロイルアセトン、
ステアロイル・ベンゾイルメタン、ヘキサノイル・ベン
ゾイルメタン、プロピオニル・ステアロイルメタン、ヘ
キサノイル・オレオイルメタン、イソヘプクノイルアセ
トン、イソバレロイル・バレロイルメタン、イソバレロ
イル・オレオイルメタン、イソブタノイル・ヘプタノイ
ルメタン、ステアロイル・カプロイルメタン、ジベンゾ
イルメタン、ベンゾイル・ラウロイルメタン、ジベンゾ
イルメタン、ベンゾイル・オクタノイルメタン、第３ブ
チルベンゾイル・ベンゾイルメタン、ジベンゾイル・ア
セチルメタン等のβ−ジケトンがあげられる。

また、Ｘ−Ｈで表される化合物としてはＲ７−Ｃ００Ｈ
で表されるカルボン酸、Ｒ３−８２で表されるメルカプ
タン、ＨＳ　Ｒ３ＣＯＯＲ２で表されるメルカプト酸エ
ステル、−Ｓ　Ｒ３０ＣＯＲ？で表されるメルカプトア
ルコールエステル、ＨＳ　０３−Ｒ７で表されるスルホ
ン酸、 そして、Ｒ７ＣＯＯＨで表されるカルボン酸としては、
脂肪族及び芳香族カルボン酸が包含され、直鎖又は分枝
、飽和又は不飽和、置換又は非置換のカルボン酸があり
、例えばステアリン酸、イソステアリン酸、パルミチン
酸、ワシルイン酸、リルイン酸、ラウリン酸、ミリスチ
ン酸、オレイン酸、カプロン酸、カプリン酸、２−エチ
ルヘキシル酸、ネオデカン酸、安息香酸、パーフルオロ
オクチル酸、アクリル酸、メタクリル酸、モノアルキル
フタル酸、ｐ−アミノ安息香酸、アミノカプリル酸、ア
ミノプロピオン酸、エポキシステアリン酸等があげられ
る。

Ｒ３−Ｒ２で表されるメルカプクンとしては例えば、オ
クチルメルカプタン、ドデシルメルカプタン、ステアリ
ルメルカプタン、ベンジルメルカプタン等があげられる
。

ＨＳ　Ｒ３ＣＯＯＲ２で表されるメルカプト酸エステル
としては、イソオクチルチオグリコレート、２−エチル
へキシルチオグリコレート、デシルチオグリコレート、
ドデシルチオグリコレート、ミリスチルチオグリコレー
ト、ステアリルチオグリコレート、インオクチルメルカ
プトプロピオネート等があげられる。

ＨＳ　Ｒ３０ＣＯＲ７で表されるメルカプトアルコール
エステルとしては例えばメルカプトエチルオレート、メ
ルカプトエチルラウレート、メルカプトエチルステアレ
ート、等があげられる。

ＨＳ　Ｏ３−Ｒ７で表されるスルホン酸としてはベンゼ
ンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ｐ−アミ
ノベンゼンスルホン酸、オクタデカンスルホン酸等があ
げられる。

れるホスファイト、ホスフェートまたはピロホスフェー
トとしては、ジブチル−、シアミル−、ジヘキシルー、
ジオクチル−、ジテトラデシルー。

ジヘキサデシルー、ジオクタデシル−、ジフェニル−、
ジキシリルー、ビス（ドデシルフェニル）−、ジベンジ
ル−ホスファイト、ホスフェートまたはピロホスフェー
トがあげられる。

また、ＨＯ−Ｒ３−ＣＯＯＨで表されるヒドロキシカル
ボン酸としてはグリコール酸、β−ヒドロキシプロピオ
ン酸等があげられる。

本発明で用いられる前記一般式（１）で表されるβ−ジ
ケトネート化合物の具体例を次に示す。

イソプロピル・イソステアロイル・ビス（ステアロイル
・ベンゾイルメタン）・チタネート、イソプロピル・イ
ソステアロイル・ビス（アセト酢酸ステアリル）・チタ
ネート、イソプロピル・ジ（イソステアロイル）・アセ
ト酢酸イソデシル・チタネート、イソプロピル・ジ（イ
ソステアロイル）・　（ステアロイル・ベンゾイルメタ
ン）・チタネート、イソプロピル・ジ（イソステアロイ
ル）・　（ジＣ５〜１１混合アルカノイルメクン）・チ
タネート、イソプロピル・アクリロイル・イソステアロ
イル・　（ステアロイル・ベンゾイルメタン）・チタネ
ート、イソプロピル・アセチルアセトン・ビス（ジイソ
オクチル燐酸）・チタネート、イソプロピル・ジ（イソ
ステアロイル）・　（ヘキサノイル・ベンゾイルメタン
）・チタネート、メチル・ジ（イソステアロイル）・　
（プロピオニル・ステアロイルメタン）・チタネート、
イソプロピル・オレオイル・ビス（ヘキサノイル・オレ
オイルメタン）・チタネート、イソプロピル・イソステ
アロイル・ビス（イソヘプタノイルアセトン）・チタネ
ート、イソプロピル・イソステアロイル・ビス（ヘンジ
イルアセトン）・チクネート、イソプロピル・ジ（イソ
ステアロイル）・アセチルアセトン・チタネート、ジ（
イソプロピル）・イソステアロイル・アセト酢酸オレイ
ル・チタネート、イソプロピル・ドデシルベンゼンスル
ホン酸・ビス（イソバレロイル・バレロイルメタン）・
チタネート、エチル・ビス（ジオクチルビロリン酸）・
　（イソバレロイル・オレオイルメタン）・チタネート
、イソプロピル・チオドデシル・ビス（イソブタノイル
・ヘプタノイルメタン）・チタネート、メチル・ビス（
チオオクチル）・ステアロイルアセトン・チタネート、
エチル・２−エチルへキシルチオグリコレート・ビス（
アセチルアセトン）・チタネート、チタン・ビス（アセ
ト酢酸ステアリル）・β−オキシプロピオネート、チタ
ン・ビス（ベンゾイル・ステアロイルメタン）・β−オ
キシプロピオネート、エトキシチタン・アセト酢酸オレ
イル・グリコレート、イソプロポキシチタン・ヘキサノ
イルアセトン・β−オキシプロピオネート、イソプロピ
ル・オレオイルオキシエチルチオ・ビス（ベンゾイル・
ステアロイルメタン）・チタネート等のチタン化合物；
メトキシ・オクチル錫・アセト酢酸ステアリル・イソス
テアレート、メトキシ・オクチル錫・　（ステアロイル
・ベンゾイルメタン）・イソステアレート、ジブトキシ
錫・　（カプロイル・・ステアロイルメタン）・オレー
ト、イソプロポキシ錫・ビス（ジバレロ゛イルメタン）
・ドデシルベンゼンスルホネート、メトキシ・ブチル錫
・アセチルアセトン・ジオクチルピロホスフェート、ブ
トキシ・　（ブトキシカルボニルエチル）錫・ステアロ
イルアセトン・イソステアレー１−、イソプロポキシ・
メチル錫・ベンゾイル酢酸オレイル・イソオクトエート
、オクチル錫・アセト酢酸ステアリル・β−オキシプロ
ピオネート、メトキシ・オクチル錫・アセト酢酸ステア
リル・２−エチルへキシルチオグリコレート、エトキシ
・ブチル錫・　（ステアロイル・ベンゾイルメタン）・
ドデシルメルカプタイド、エトキシ錫・　（ベンゾイル
・ドデカノイルメタン）・グリコレート、メトキシ錫・
アセト酢酸オレイル・β−オキシプロピオネート等の錫
化合物； ステアリル・ジ（イソステアロイル）・ジベンゾイルメ
タン・ジルコネート、２−エチルヘキシル・ジ（イソス
テアロイル）・ジベンゾイルメタン・ジルコネート、イ
ソプロピル・ジ（イソステアロイル）・イソヘプタノイ
ルアセトン・ジルコネート、エチル・カプリロイル・ビ
ス（ヘプタノイル・ステアロイルメタン）・ジルコネー
ト、イソプロピル・イソステアロイル・ビス（イソへブ
タノイル・オクタノイルメタン）・ジルコネート、ジブ
チル・オレオイル・ステアロイルアセトン・ジルコネー
ト、メチル・ステアロイルアセトン・ビス（イソオクタ
ノイル）・ジルコネート、イソプロピル・イソステアロ
イル・ビス（アセト酢酸オレイル）・ジルコネート、ジ
メチルオレイル・アセチルアセトン・ジルコネート、メ
チル・アセト酢酸オクチル・ビス（ジオクチルピロ燐酸
）・ジルコネート、ジルコニウム・アセト酢酸ドデシル
・イソステアレート・β−オキシプロピオネート、ジイ
ソプロピル・チオドデシル・アセト酢酸オクチル・ジル
コネート、エトキシジルコニウム・ステアロイルアセト
ン・β−オキシプロピオネート、ブトキシジルコニウム
・　（ベンゾイル・オクタノイルメタン）・β−オキシ
プロピオネート、イソプロポキシジルコニウム・アセト
酢酸トリデシル・グリコレート、エトキシジルコニウム
・ビス（ステアロイル・ベンゾイルメタン）・ドデシル
ベンゼンスルホネート等のジルコニウム化合物があげら
れる。

本発明の無機物質用表面処理剤は、前記一般式［Ｉ）で
表されるβ−ジケトネート化合物の少なくとも一種を含
有するものであり、この本発明の無機物質用表面処理剤
で無機物質の表面を処理することによって該無機物質が
充填された重合体の成型体の衝撃強度等の機械的性質の
低下及び加工性の低下を本質的に損なうことがないとい
う顕著な効果あるいは該無機物質を有機媒体に分散させ
る場合の分散性を向上させるという顕著な効果を発揮す
る。

前記一般式（１）で表されるβ−ジケトネート化合物の
少なくとも一種を含有する本発明の無機物質用表面処理
剤による無機物質の表面改質において、上記β−ジケト
ネート化合物は無機物質１００重量部に対して少なくと
も０．１重量部以上、好マＬ　＜　ハ０．５〜１０重量
部使用される。上記β−ジケトネート化合物を含有する
本発明の無機物質用表面処理剤により無機物質表面を改
質処理することにより、無機物質表面に存在する反応性
の水酸基及び／又は吸着水と上記β−ジケトネート化合
物の間で反応が起こり、この反応により無機物質と上記
β−ジケトネート化合物の間に結合が生じ、無機物質上
に有機疏水性表面層が形成されるために無機物質が有機
媒体（低分子量液体又は高分子量重合体固体）と濡れ易
くなり、凝集無機物質が容易に個々の粒子に分散し、均
質な分散体が得られるようになる。

本発明の無機物質用表面処理剤で処理される無機物質は
、その表面に反応性の水酸基及び／又は吸着水を有する
ことが必要である。このような無機物質としては金属、
クレー、カーボンブランク、炭酸カルシウム、硫酸バリ
ウム、シリカ、雲母、水酸化アルミニウム、Ｔ−アルミ
ナ、水酸化マグネシウム、ケイ酸カルシウム、ケイ酸ア
ルミニウム、タルク、ガラス、石英、ヒル石、アスベス
ト、亜鉛、マグネシウム、鉛、カルシウム、アルミニウ
ムの金属化合物、鉄くず、硫黄、二酸化チタン、酸化鉄
、フェライト、クロム酸亜鉛、酸化亜鉛、ウルトラマリ
ンブルー等があげられる。これらの無機物質の形状は特
に制限さるものではなく、また粒径は１ｍｍ以下、好ま
しくは０．１〜５００μの範囲内のものが用いられる。

本発明のβ−ジケトネート化合物を含有する無機物質用
表面処理剤による無機物質の表面改質は、本発明の無機
物質用表面処理剤と無機物質を乾式または湿式法にて混
合すれば良いが、湿式法が均一混合の点からより好まし
い。

湿式処理の際に、本発明の無機物質用表面処理剤に含有
されるβ−ジケトネート化合物と反応しないナフサ、ヘ
キサン、ヘプタン、オクタン、オクテン、ヘンゼン、ト
ルエン、キシレン等の炭化水素又はトリクロルエチレン
等の塩素化炭化水素が用いられる。

混合温度は特に制限されるものではないが、無機物質と
β−ジケトネート化合物の間の反応が起こるように選ば
れる。

乾式混合では、例えばヘンシェルミキサー、オバートミ
キサー、ワーリングブレンダー等で混合するのが好まし
い。

以上のようにして本発明の無機物質用表面処理剤により
表面改質された無機物質はそのままで重合体用充填剤と
して、または該表面改質された無機物質の存在下に重合
を行うとか、あるいはその他の用途に用いることができ
る。しかしながら、無機物質を重合体用充填剤として用
いる場合には、本発明の無機物質用表面処理剤、未改質
無機物質および重合体を直接混合することもできる。

上記重合体としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、
ポリブテン−１、ポリスチレン、ＡＢＳ、ポリ塩化ビニ
ル、ポリカーボネート、ポリフェニレンオキシド、ナイ
ロン樹脂、ポリエステル樹脂、不飽和ポリエステル樹脂
、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、尿素樹脂、ゴム等の
重合体を用いることができる。

本発明の無機物質用表面処理剤で表面改質された無機物
質又は本発明の無機物質用表面処理剤及び未改質無機物
質と重合体との混合は、一般に重合体の二次転位温度よ
り高い温度、好ましくは重合体が低溶融粘度状態になる
温度、例えば低密度ポリエチレンでは１６０〜２３０℃
、高密度ポリエチレンでは１９０〜２５０℃、ポリスチ
レンでは２２０〜２６０℃、またポリプロピレンでは２
２０〜２９０℃の温度範囲で行うのが最も良好な加工性
が得られる。他の重合体に混合する温度は当業者にとっ
て周知であり、公知の文献を参考にして決められる。ま
た混合には種々の混合装置、例えば二本ロールミル、バ
ンバリーミキサ−１二重同心スクリュー、対向または共
回転対スクリュー及びＺＳＫ型ウエつサー等が用いられ
る。

充填剤、顔料、補強剤としての無機物質の量は、重合体
の種類及び最終生成物の必要とする物性等によって異な
るが、一般に重合体１００部当たり無機物質１０〜３０
００部、好ましくは２０〜２０００部、最も好ましくは
２０〜２５０部を使用することができる。

本発明の無機物質用表面処理剤によって表面改質された
無機物質は重合体または有機媒体への親和性が改善され
ている結果、 （１）有機媒体へ無機物質を分散させた分散体のレオロ
ジー性、特に粘度の低下効果が著しいため、有機媒体中
への無機分散体の充填率をより高くすることが可能にな
る。

（２）無機物質と重合体の親和性が向上しているので、
重合体の強度及びその他の物理的物性が改良される。

（３）無機物質の分散性が改良されているために分散が
効果的に行われ、所要量を低下させることが可能になる
。

（４）重合体中への無機物質の高充填が可能となる。

（５）無機物質の高充填により重合体の難燃性、焼却性
の改善ができる。

（６）無機物質を分散させるに要する混合時間が短くな
る。

というような効果が達成される。

以下に実施例により本発明を更に詳細に説明するが、本
発明はこれらの実施例により制限されるものではない。

実施例１ 攪拌機、蒸留塔および凝縮器を備えた三ツロ反応フラス
コに２８．４ｇ（０，１モル）のテトライソプロピルチ
タネートと６０．、ｇの１，２−ジクロルエタンを仕込
み、これに、２０〜４０“Ｃで１時間を要して７７．２
ｇ（０，２モル）のステアロイルベンゾイルメタン／１
４０ｇの１，２−ジクロルエタン溶液を滴下した。１時
間攪拌後２８．４ｇ（０゜１モル）のイソステアリン酸
を加え、２時間反応した。次いで、１００°Ｃ／　８　
ｍｍＨｇｍＨｇ下域時間減圧処理イソプロパツール及び
脱１．２−ジクロルエタンを行い、黒褐色粘稠液体を得
た。この液体は、赤外分析によりイソプロピル・イソス
テアロイル・ビス（ステアロイル・ベンゾイルメタン）
・チタネートであることを確認した。〔シＣ−０１６０
０ｃｍ−１．１５５０ｃｍ’、１５１０ｃｍ−１）実施
例２ 攪拌機、蒸留塔および凝縮器を備えた三ツロ反応フラス
コに３３．８ｇ（０，１モル）のモノオクチル錫トリク
ロライドと１５０ｇのキシレンを仕込み、これに、２０
〜４０℃で１時間を要して５８ｇ（０，３モル）の２８
％ナトリウムメトキサイド−メタノール溶液を滴下した
。１時間攪拌後３５゜４ｇ（０，１モル）のアセト酢酸
ステアリル１５０ｇのキシレン溶液を１時間を要して滴
下した。さらに１時間攪拌後、２８．４ｇ（０，１モル
）のイソステアリン酸を加え、２時間反応した。生成し
た食塩を濾過により除去した後、１００℃／８ｍｍｌ（
ｇ下１時間減圧処理し、脱メタノール及び脱キシレンを
行い、黄色粘稠液体を得た。この液体は、赤外分析によ
りメトキシ・オクチル錫・アセト酢酸ステアリル・イソ
ステアレー１・であることを確認した。　〔νｃ＝ｏ　
　　１６１０ｃｍ−’　、　　１５９０ｃｍ−１、１５
６０ｃｍ’：１ 実施例３ 攪拌機、蒸留塔および凝縮器を備えた三ツロ反応フラス
コに２３．３ｇ（０，１モル）のジルコニウムテトラク
ロライドと１００ｇのキシレンを仕込み、これに、２０
〜４０℃で１時間を要して７７゜２ｇ（０，４モル）の
２８％ナトリウムメトキサイド−メタノール溶液を滴下
した。１時間攪拌後３３．８ｇ（０，１モル）のステア
ロイルアセトン１５０ｇのキシレン溶液を１時間を要し
て滴下した。

さらに１時間攪拌後、２８．８ｇ（０，２モル）のイソ
オクチル酸を加え、２時間反応した。生成した食塩を濾
過により除去した後、１００℃／　Ｂ　ｍｍＨｇｍＨｇ
下域時間減圧処理メタノール及び脱キシレンを行い、淡
褐色粘稠液体を得た。この液体は、赤外分析によりメチ
ル・ステアロイルアセトン・ビス（イソオクタノイル）
・ジルコネートであることを確認した。〔νｃ＝ｏ　　
　１５５０ｃｍ−”、１４６０ｃｍ’　、　　１４２０
ｃｍ−’　）実施例４ 平均粒径１．８μの炭酸カルシウム１００ｇに対して、
イソプロピル・イソステアロイル・ビス（ステアロイル
・ベンゾイルメタン）・チタネートを所定量（０，５ｇ
、Ｉｇまたは２ｇ）添加し、均一に混合して処理品（表
面改質された炭酸カルシウム）を得た。低密度ポリエチ
レン１００重量部に、上記処理品を第１表に示す量添加
し、ヘンシェルミキサーでトライブレンドし、１７０°
Ｃの二本ロールミルで１０分間混練して粉砕した。次い
で、粉砕物を１７０℃でプレス成型した。このようにし
て得られた成型板の抗張力、伸び、ＭＦＩを測定した。

その結果を第１表に示す。なお、比較のためイソプロピ
ル・トリ　（イソステアロイル）・チタネー１−を使用
した試験も行った。

第　　　１　　　表 ＊１　；イソプロピル・トリ　（イソステアロイル）・
チタネート処理品 ＊２１＊３１＊４　　；イソプロピル・イソステアロイ
ル・ビス（ステアロイル・ベンゾイ ルメタン）・チタネート処理品 実施例５ 平均粒径１．７μのタルク１００ｇに対して、第２表に
示す表面処理剤１ｇを添加し、均一に混合して処理品（
表面改質されたタルク）・を得た。ポリプロピレンｉｏ
ｏＭ量部に、上記処理品を第２表に示す量添加し、ヘン
シェルミキサーでトライブレンドした後１７７℃の二本
ロールミルで１０分間混練した。次いで、２００℃、５
．１　Ｋｇ　／　Ｃ％の条件下で射出成型し、試片を作
成した。この試片の抗張力、伸び、及びＭＦＩを測定し
た。その結果を第２表に示す。

第　　　２　　　表 （第２表の続き） （第２表の続き） 実施例６ 平均粒径１μの水酸化アルミニウム１００ｇに第３表に
示す表面処理剤１ｇを添加し、均一に混合して処理品（
表面改質された水酸化アルミニウム）を得た。高密度ポ
リエチレン１００重量部に、上記処理品を第３表に示す
量添加し、ヘンシェルミキサーでトライブレンドした後
、３分サイクル、ラム圧４　Ｋｇ／　ｃｒａ、９０℃の
条件下バンバリーミキサ−で混合した。次いで、２００
℃、３００Ｋｇ／ｃＪの条件下で射出成型し、試片を作
成した。

この試片のシャルピー衝撃強度（ノツチ付）及びＭＦＩ
を測定した。その結果を第３表に示す。

第　　　３　　　表 （第３表の続き） （第３表の続き） 実施例７ 炭酸カルシウム１００重量部に第４表に示す表面処理剤
０．７または１．４５重量部を添加し均一に混合して処
理品（表面改質された炭酸カルシウム）を得た。次いで
、この処理品７０重量部及び流動パラフィン３０重量部
をとり均一に分散させ、２５℃における粘度を測定した
。その結果を第４表に示す。尚、未処理の炭酸カルシウ
ムを用いた場合は１：１の割合でも均一に分散しなかっ
た。

第　　　４　　　表 （第４表の続き） （第４表の続き）

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 次の一般式（１）で表される化合物の少なくとも一種を
   含有する無機物質用表面処理剤。 〔式中、Ｍｅはチタン、錫またはジルコニウムを示し、
   Ｒ１はアルキル基またはアルコキシカルボニルアルキル
   基を示し、Ｒ２はアルキル基またはアルケニル基を示し
   、Ｒ３はアルキレン基を示し、−はアルキル基またはア
   リール基を示し、Ｒ５は水素原子、アルキル基またはセ
   ー６一を示し、Ｒ６はアルキル基、アリール基または一
   〇−Ｒ２を示し、Ｘは１ −ｏＣ−Ｒ７、−５−Ｒ２、−３Ｒ３ＣＯＯＲ２、−３
   Ｒ３０ＣＯＲ７、−〇　−Ｓ　Ｏ２−Ｒ７、示し、ｌは
   ０または１を示し、ｍは０〜２を示し、ｎは０または１
   を示し、ｑは１または２を示し、ｐは０〜２を示す。但
   しβ＋ｍ＋ｎ＋ｐ＋ｑはｎ＝０の時４であり、ｎ＝１の
   時３であり、またｎ＝０の時ｍ及びｐは１または２を示
   し、ｎ＝１の時ｍ及びｐはＯまたは１を示す。Ｒ７はア
   ルキル基、アルケニル基またはアリール基を示し、Ｒ８
   は水素原子、アルキル基、アルケニル基またはアリール
   基を示し、ｒはＯまたは１を示す。〕