JPS6035994B2 - 複合部材の製造方法 - Google Patents

複合部材の製造方法

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JPS6035994B2
JPS6035994B2 JP8445278A JP8445278A JPS6035994B2 JP S6035994 B2 JPS6035994 B2 JP S6035994B2 JP 8445278 A JP8445278 A JP 8445278A JP 8445278 A JP8445278 A JP 8445278A JP S6035994 B2 JPS6035994 B2 JP S6035994B2
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JP
Japan
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base material
coating layer
vapor
deposited coating
composite member
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Expired
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JP8445278A
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JPS5511179A (en
Inventor
忠之 清水
常盛 吉田
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Nippon Pillar Packing Co Ltd
Original Assignee
Nippon Pillar Packing Co Ltd
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Publication date
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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/04Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C16/042Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は化学蒸着によって、母材の任意表面のみに、硬
質の蒸着被覆層を形成した複合部材の製造方法に関する
ものである。
気相めつきの一種である化学蒸着(ChemicalV
aporDep()sition,以下「CVD」とい
う。
)法の発展は、近年特に著しく、通常のめつき法で得ら
れない金属、合金、非金属、それらの酸化物、炭化物、
窒化物、ほう化物、ケィ化物等の如く、耐食、耐熱、耐
摩耗性にすぐれた材料を母材の表面に被覆することが出
来るようになった。しかし一方では、CVD法の唯一の
致命的な欠点として、マスキングの困難性があった。C
VD法によって得られる蒸着被覆層を母材表面の全面に
渡って形成されるときは、このようなマスキングの課題
はさほど生じないが、母村表面の任意の表面部分のみに
蒸着被覆層を形成したときは、係るマスキングの技術的
課題が生じる。一般産業において切望されるのは、母材
表面の全面に渡って蒸着被覆層を形成した複合部村(こ
のような複合部材は、例えば、パイプ等の如く用途が比
較的限定されているようである。)にあるのではなく、
所望する母材の任意表面のみに蒸着被覆層を設けた複合
部材にあり、この複合部材を用いることによって各種の
用途例えば密封装置の摺動材、ベアリング材等への途が
開かれている。しかし現状において母材表面の任意表面
のみに蒸着被覆層を設けた複合部材はなく、またこのよ
うな複合部材を得るための適切なマスキング技術もなく
製造することができなたった。その理由として、CVD
法では、少なくとも100000以上の高温雰囲気中で
蒸着するため、高温となった母材をマスクするための適
切なマスキング剤、例えばペイントスプレーが無いこと
、および何んらかの方法で母材にマスクをしたとしても
、その一部が蒸着被覆層となる反応性化合物ペーパーの
強い浸透力が原因して、蒸管被覆層の境界線が不明瞭で
あったり、予期しない部分に蒸着被覆層の盛り上がりや
、はみ出しが生じたり、また、母材とマスキング材とが
蒸着によって接合されること等があった。従って出来た
複合部材は外観が悪く、また種々の産業用途に供せられ
た場合、性能にも悪影響を及ぼす。本発明は前述した事
情に鑑みなされたものである。
以下、本発明を好適な実施例と、それに至るまでの研究
過程とを図面に基づいて詳細に説明する。
第1図は、本発明に係るCVD装置を示し、第2図は第
1図における要部を拡大した図である。
反応炉容器1は、その側壁に巻かれた加熱用高周波コイ
ル2を具備し、反応ガスの出入口となる関口部3,4が
形成されている。そして反応炉容器1の内部空間には、
支柱5によって保持された設置板6を設け、この設置板
6上にはCVD法によって蒸着被覆層が形成される母材
7をのせ、かつ母材7に蒸着被覆層を形成しようとする
任意表面9のみを露出させるように母材7の他の表面部
を包囲するマスキング部材8,8aを設ける。本発明に
おいて母材7の所望する任意表面9のみに蒸着被覆層を
形成せしめた複合部材を得るためには、第2図に示す如
く、母材7とマスキング部材8との位置的関係が重要と
なる。つまり任意表面9と隣接する他の表面10とで構
成される縁部を削りとってテーパ面11を形成せしめる
ことと、さらに隙間Cが重要であり、二次的にテーパ面
11の角度Qoとテーパ面11の高さ1、母材7の任意
表面9とマスキング部村8との高さh等が要因としてあ
げられる。本発明者らの幾多の研究により、結果的には
、本発明に係る製造方法によって第3図で示した複合部
材12が得られた。この複合部材12は、蒸着被覆層1
3が他の表面10に盛り上がりやはみ出しがなく任意表
面9に沿って平坦に形成された。特にテーパ面11の部
分では、蒸着被覆層13の厚さが一様に変化し、外観か
らの観察では他の表面10に沿って直線状に蒸着被覆層
13が形成されていることが確認された。尚、本発明者
らが本発明に至る初期の研究実験例を第4図、第5図、
第6図に示した。
第4図のa図は、母材7にマスキング部材8との隙間(
第2図における隙間Cの意)を小さくして欧め込んだ場
合を示すものである。
そしてCVD法によって母村7の任意表面9に蒸着被覆
層13を形成すると第4図のb図に示す如く、母材7と
マスキング部材8とが共に被覆されてしまう。そしてマ
スキング部村8を母材7からぬき出しが困難となり、ま
た、ぬき出せたとしても黍着被覆層13が割れ、予期し
ない部分が破損したり、ひびが入る。そこで第5図のa
図に示すように母材7とマスキング部材8との隙間Cが
大きくなるように配置して行なった結果、第4図のb図
で示した欠点はなくせたが、第5図のb図で示すように
出来た蒸着被覆層13は母材7の任意表面9からはみ出
し、盛り上がって形成され、隣接する他の表面10の綾
部にも蒸着被覆層13が形成される。そこでさらに研究
を重ね、第6図のa図で示すように母材7の任意表面9
と隣接する他の表面10とで構成される縁部を削りとり
、450の角度をもつテーパ面11を形成せしめ、CV
D法により、蒸着被覆層13を被覆させた結果を第6図
のb図で示す。この第6図のb図でわかるように、第5
図のb図における、はみ出しや盛り上がりを水さくする
ことが出来たが、まだ蒸着被覆層13は、その綾部にお
いてダレが生じており、母材7の任意表面9のみに相当
する面積に蒸着被覆されておらず、他の表面1川こも盛
り上がり等の現象がみられた。そしてこのような種々の
研究過程を経た後、第2図と第3図で示した好適な実施
例に基づき、本発明が創作されたのである。以上の如く
詳述したことで理解されるように本発明の製造方法によ
れば母村の任意表面の面取り角度Qを小さくして、テー
パ面を形成し、このテーパ面とマスキソグ部材との間に
概ね、クサビ状の空間部を予め形成しておき、CVD法
によって、蒸着被覆層は第3図で示したようにテーパ面
の部分においては厚さが一様に変化し、隣接する他の表
面へのはみ出しや、盛り上がりをなくすことが出釆、外
観のよい、複合部材を得た。尚、第2図における各部分
の好ましい数値を示すと、角度Qは400禾満がよく、
特に50<Q<30o程度が好ましく、隙間Cは0.1
肌〜1.0肋の範囲がよい。またhを0〜1柳、1を1
柳〜3肌程度にしたときが最も好ましいことがわかった
。さらに本発明においては、母材、蒸着被覆層となる材
料、マスキング部材等の材料を特に限定するものではな
い。しかし、本発明者らが、当面の用途目的の例として
流体密封装置(特にメカニカルシール)、スラストベア
リング等の摺動材に適用されることを想定していたので
、本発明の実施例および文発明に至る研究実験例に於て
、最も多く用いた材料としては、母材をカーボン、マス
キング部材もカーボンを用い、蒸着被覆層は、炭化ケイ
素(sic)であった。
そして炭化ケイ素の葵着被覆層となすために、反応ガス
として、含ケイ素化合物(例えばsic14)と含炭素
化合物(例えばcc14)を用いた。また母材の形状と
しては、前述の用途例を踏えて、断面が矩形の円環状母
材を主として用いた。特にメカニカルシールやスラスト
ベアリングにおいては、回転軸が貫通する円環状母材の
内面部に蒸着被覆層の盛り上がりや、はみ出しがあると
取付時或いは運転時に蒸着被覆層が欠けたり、クラック
を生じることになる。本発明は係る欠点をも解決するも
のである。従って本発明は産業上、多大の貢献をなすも
のと信じる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明に係る装置の概略図、第2図は第1図
の要部拡大図、第3図は本発明に係る複合部材、第4図
と第5図と第6図における各a図とb図は何れも本発明
に至るまでの研究実験例の説明図である。 7・・・・・・母材、8,8a…・・・マスキング部材
、9・・・・・・任意表面、10・・・…他の表面、1
1…・・・ナ−パ面、12・・…・複合部材、13・・
…・蒸着被覆層、C……隙間、Q・・・・・・角度。 第1図 第2図 第3図 第4図 第5図 第6図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 蒸着被覆層を形成しようとする母材の任意表面にあ
    つて、この任意表面の縁部にテーパ面を設け、この任意
    表面に隣接する他の表面の近傍に位置し、かつ他の表面
    と適宜な隙間を有するマスキング部材と前記テーパ面と
    によつてクサビ状の空間部を予め形成しておき、化学蒸
    着によつて、母材の任意表面のみに蒸着被覆層を形成せ
    しめることを特徴とする複合部材の製造方法。 2 母材は略矩形の断面かつ円環体のカーボン材料から
    なり、蒸着被覆層が炭化ケイ素である前記特許請求の範
    囲第1項記載の複合部材の製造方法。
JP8445278A 1978-07-10 1978-07-10 複合部材の製造方法 Expired JPS6035994B2 (ja)

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US4963393A (en) * 1989-09-07 1990-10-16 Cvd Incorporated Method to prevent backside growth on substrates in a vapor deposition system
US6228297B1 (en) * 1998-05-05 2001-05-08 Rohm And Haas Company Method for producing free-standing silicon carbide articles

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