JPS6035316A - 薄膜磁気ヘッド - Google Patents
薄膜磁気ヘッドInfo
- Publication number
- JPS6035316A JPS6035316A JP14293583A JP14293583A JPS6035316A JP S6035316 A JPS6035316 A JP S6035316A JP 14293583 A JP14293583 A JP 14293583A JP 14293583 A JP14293583 A JP 14293583A JP S6035316 A JPS6035316 A JP S6035316A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- layer
- magnetic material
- thin film
- soft
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3109—Details
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は磁気ディスク装置等に用いられる薄膜磁気ヘッ
ドに関するものである。この薄膜磁気へラドは、周波数
特性が優れており、半導体テクノロジーに基づく製造プ
ロセスが適用される為、精度の高い山気ヘッドを低価格
で生産可能であるなど、今後の磁気ヘッドの主流になる
と考えられる。
ドに関するものである。この薄膜磁気へラドは、周波数
特性が優れており、半導体テクノロジーに基づく製造プ
ロセスが適用される為、精度の高い山気ヘッドを低価格
で生産可能であるなど、今後の磁気ヘッドの主流になる
と考えられる。
第１図は、この様な薄膜磁気ヘッドの概略断面図を示す
ものである。ここで、基板１１上に絶縁層１２を介して
、−下部磁性体層１３が形成され、その後、ギャップと
なる絶縁層１４、コイル１５、コイルの段差解消層１６
が形成され、ついで上部磁性体層１７およびオーバーコ
ート層１８が形成されている。
ものである。ここで、基板１１上に絶縁層１２を介して
、−下部磁性体層１３が形成され、その後、ギャップと
なる絶縁層１４、コイル１５、コイルの段差解消層１６
が形成され、ついで上部磁性体層１７およびオーバーコ
ート層１８が形成されている。
ところで、前述の様な構造を府下る薄膜磁気ヘッドにお
いては従来、同一の軟磁性体材料で上部および下部磁性
体層１７．１３が形成されており上部磁性体層１７が第
１図中、矢印で示したＡ部、Ａ′部で段差を経験する為
、上部磁性体層１７の磁気特性Ｔなわち保磁力Ｈｃ、透
磁率μが下部磁性体層１３に比して劣化し、しかもＡ部
、Ａ′部では膜厚が小さくなる為磁気的飽和が前記上部
磁性体層１７中で生じ、書込み／読み出し効率が大幅に
低下することが指摘されていた。
いては従来、同一の軟磁性体材料で上部および下部磁性
体層１７．１３が形成されており上部磁性体層１７が第
１図中、矢印で示したＡ部、Ａ′部で段差を経験する為
、上部磁性体層１７の磁気特性Ｔなわち保磁力Ｈｃ、透
磁率μが下部磁性体層１３に比して劣化し、しかもＡ部
、Ａ′部では膜厚が小さくなる為磁気的飽和が前記上部
磁性体層１７中で生じ、書込み／読み出し効率が大幅に
低下することが指摘されていた。
その為、従来上部磁性体層１７の膜厚Ｔ′を下部磁性体
層１３の膜厚Ｔに比較して少なくても３０〜４０％厚く
し、へ部戸いしはＡ′部での前述した上Ｓ磁性体層１７
の磁気特性の劣化の影響を最小限とした薄膜磁気ヘッド
が用いられていた。しかしながら、この様な薄１１！４
磁気ヘッ白こおいては、その製造方法としてスパッタ法
等で上部磁性体Ｒ１７ｆ成Ｔ軟磁性体を成膜し、その後
ドライエツチング法で所定形状の上部磁性体層１７を構
成する方法の場合においては、その膜厚が厚い為、成膜
およびエツチングに多大の時間を要し、薄膜磁気ヘッド
の作業性、低価格性を大幅に損なうという欠点があった
。
層１３の膜厚Ｔに比較して少なくても３０〜４０％厚く
し、へ部戸いしはＡ′部での前述した上Ｓ磁性体層１７
の磁気特性の劣化の影響を最小限とした薄膜磁気ヘッド
が用いられていた。しかしながら、この様な薄１１！４
磁気ヘッ白こおいては、その製造方法としてスパッタ法
等で上部磁性体Ｒ１７ｆ成Ｔ軟磁性体を成膜し、その後
ドライエツチング法で所定形状の上部磁性体層１７を構
成する方法の場合においては、その膜厚が厚い為、成膜
およびエツチングに多大の時間を要し、薄膜磁気ヘッド
の作業性、低価格性を大幅に損なうという欠点があった
。
更に、エツチング時間が長い為、フォトレジストパター
ンの膜厚を厚く形成せざるそえず高アスペクト比のフォ
トレジストパターンの形成が必須の条件となっており、
プロセス上大きな問題であった。又、フォトレジストパ
ターンの後退現象の影響も顕著となり、特に狭トラツク
幅の高記録密度用薄膜磁気ヘッドでは所定のトラック幅
を精度良く実現Ｔるのが困難になるなどプロセス上の太
きな欠点を崩していた。
ンの膜厚を厚く形成せざるそえず高アスペクト比のフォ
トレジストパターンの形成が必須の条件となっており、
プロセス上大きな問題であった。又、フォトレジストパ
ターンの後退現象の影響も顕著となり、特に狭トラツク
幅の高記録密度用薄膜磁気ヘッドでは所定のトラック幅
を精度良く実現Ｔるのが困難になるなどプロセス上の太
きな欠点を崩していた。
一層、メッキフレーム法により上部磁性体層１７を形成
する場合においては、メッキフレームとな６フオトレジ
ストパターンの高さを太きくせねばならす、この方法に
おいても、高アスペクト比のフォトレジストパターンを
いかに形成するかがプロセス上大谷な問題となっていた
。又、メッキに要する時間も長時間となり、作業性にか
けるという欠点があった。更に、メッキ時間が長いとい
うこ占は、メッキ中の組成ズレの可能性が大きくなるこ
とをも意味しており、メッキ中の組成コントロールを一
層厳密に行なう必要が生じ、製造プロセスに大きな負担
をかけるという欠点を有していた。
する場合においては、メッキフレームとな６フオトレジ
ストパターンの高さを太きくせねばならす、この方法に
おいても、高アスペクト比のフォトレジストパターンを
いかに形成するかがプロセス上大谷な問題となっていた
。又、メッキに要する時間も長時間となり、作業性にか
けるという欠点があった。更に、メッキ時間が長いとい
うこ占は、メッキ中の組成ズレの可能性が大きくなるこ
とをも意味しており、メッキ中の組成コントロールを一
層厳密に行なう必要が生じ、製造プロセスに大きな負担
をかけるという欠点を有していた。
以上、述べて来たように、上部磁性体層１７の膜厚を太
きくＴ／、）ことにより、段差部での上部磁性体層１７
の磁気特性劣化の影響を抑制することは製造プロセス上
、極めて重要なＩＪ題であり、プロセスの作業性、昇現
性等の観点、あるいは、生産コストの観点から見ると大
きな開切であった。
きくＴ／、）ことにより、段差部での上部磁性体層１７
の磁気特性劣化の影響を抑制することは製造プロセス上
、極めて重要なＩＪ題であり、プロセスの作業性、昇現
性等の観点、あるいは、生産コストの観点から見ると大
きな開切であった。
本発明は以上の点に鑑み、前述した製造プロセス上の匪
々の問題を解決し、安価で、優れた書込み／読出し効率
を有する薄膜磁気ヘッドを提供下るものである。
々の問題を解決し、安価で、優れた書込み／読出し効率
を有する薄膜磁気ヘッドを提供下るものである。
本発明は軟磁性体より取る下部磁性層と上部磁性層の間
ζこ導体より成るコイルを挾んで成る薄膜イみ気ヘッド
において、前記下部磁性体層を成Ｔ第１の軟磁性体の保
磁力１７１ｃ 、透磁率μおよび飽和磁束密度Ｂと、前
記上部磁性体層を成丁第２の軟磁性体の保磁力Ｈ’ｃ、
透磁率μ′および飽和磁束密度Ｂ′とがＦＬｃ≧１−１
’ｃ、μ＜ ｔｔ’およびＢ ＜ Ｂ部なる関係を有し
ていることを特徴とする薄膜磁気ヘッドであり、このよ
うな構底ヲとることにより製造の容易なしかも優れた書
込み／読出し効率を有する薄膜磁気ヘッドが得られる。
ζこ導体より成るコイルを挾んで成る薄膜イみ気ヘッド
において、前記下部磁性体層を成Ｔ第１の軟磁性体の保
磁力１７１ｃ 、透磁率μおよび飽和磁束密度Ｂと、前
記上部磁性体層を成丁第２の軟磁性体の保磁力Ｈ’ｃ、
透磁率μ′および飽和磁束密度Ｂ′とがＦＬｃ≧１−１
’ｃ、μ＜ ｔｔ’およびＢ ＜ Ｂ部なる関係を有し
ていることを特徴とする薄膜磁気ヘッドであり、このよ
うな構底ヲとることにより製造の容易なしかも優れた書
込み／読出し効率を有する薄膜磁気ヘッドが得られる。
以下、２１３２図を参照しながら本発明を説明する。
第２図において、基板２１上Ｇこ絶縁層２２を介して第
１の軟磁性体より成る膜厚Ｔの下部磁性体層２３をフォ
トエツチング技術等を用いて形成し、その後キャップと
なる絶縁層２４、導体より成るコイル２５、あるいはコ
イルの段差解消層２６を形成した後、第２の軟磁性体よ
り成る膜厚Ｔ’（’ｌｖ≦Ｔ）ｒ、ｉ’る上部磁性体層
２７が形成され、その後オーバーコート層２８が成膜さ
れている。ここで前記上部磁性体層２７は前記下部磁性
体層２３を成す、保磁力Ｈｃ、透磁率μ、飽和磁束密度
Ｂなる第１の軟磁性体に対して、保磁力Ｈｃ’、−透磁
率μ′および飽和磁束密度Ｂ’がＨＣ′≦１−１ｃ、μ
′〉μ、Ｂ部 ＞Ｂなる関係を有する第２の軟磁性体に
より構成されている。
１の軟磁性体より成る膜厚Ｔの下部磁性体層２３をフォ
トエツチング技術等を用いて形成し、その後キャップと
なる絶縁層２４、導体より成るコイル２５、あるいはコ
イルの段差解消層２６を形成した後、第２の軟磁性体よ
り成る膜厚Ｔ’（’ｌｖ≦Ｔ）ｒ、ｉ’る上部磁性体層
２７が形成され、その後オーバーコート層２８が成膜さ
れている。ここで前記上部磁性体層２７は前記下部磁性
体層２３を成す、保磁力Ｈｃ、透磁率μ、飽和磁束密度
Ｂなる第１の軟磁性体に対して、保磁力Ｈｃ’、−透磁
率μ′および飽和磁束密度Ｂ’がＨＣ′≦１−１ｃ、μ
′〉μ、Ｂ部 ＞Ｂなる関係を有する第２の軟磁性体に
より構成されている。
この様な薄膜磁気ヘッドにおいては、上部磁性体層２７
となる第２の軟磁性体の保磁力Ｈ’ｃ、透磁率μ′が下
部磁性体層％となる第１の軟磁性体の保磁力目Ｃ１透磁
率μに対してＨ’ｃ≦Ｉ−１，ｃ 、μ′〉μ なる関
係にある為第２図中矢印で示した段差部Ｂ部、あるいは
Ｂ′部での磁気特性の劣化の影卿は相対的ζこ小さくな
り、又飽和磁束密度がＢ部 ） Ｂ ｒｊる関係にある
為、上部磁性体層２７の膜厚Ｔが下部磁性体層２３の膜
厚Ｔに対してＴ′≦Ｔであっても磁気的飽和が生じにく
く、優れた書込み読出し効率が実現できるという特徴を
有している。しかも前述の様に上部磁性体層２７の膜厚
を大きくする必要が無い為、前述し１こ従来例の有して
いた３Ａ造プロセス上の諸欠点、′Ｖなわち成膜ないし
はエツチングに長時間を装丁ること、高アスペクト比の
フォトレジストパターンを形成することが困難であるＣ
♂などが解決され、薄膜磁気ヘッドの製造プロセス上（
ｊめて大きす意義を有していると考えられる。
となる第２の軟磁性体の保磁力Ｈ’ｃ、透磁率μ′が下
部磁性体層％となる第１の軟磁性体の保磁力目Ｃ１透磁
率μに対してＨ’ｃ≦Ｉ−１，ｃ 、μ′〉μ なる関
係にある為第２図中矢印で示した段差部Ｂ部、あるいは
Ｂ′部での磁気特性の劣化の影卿は相対的ζこ小さくな
り、又飽和磁束密度がＢ部 ） Ｂ ｒｊる関係にある
為、上部磁性体層２７の膜厚Ｔが下部磁性体層２３の膜
厚Ｔに対してＴ′≦Ｔであっても磁気的飽和が生じにく
く、優れた書込み読出し効率が実現できるという特徴を
有している。しかも前述の様に上部磁性体層２７の膜厚
を大きくする必要が無い為、前述し１こ従来例の有して
いた３Ａ造プロセス上の諸欠点、′Ｖなわち成膜ないし
はエツチングに長時間を装丁ること、高アスペクト比の
フォトレジストパターンを形成することが困難であるＣ
♂などが解決され、薄膜磁気ヘッドの製造プロセス上（
ｊめて大きす意義を有していると考えられる。
尚、本発明の一実施例としては第１の軟磁性体トシて、
例えば、Ｎｌｃｅ合金膜（保磁力１−１．ｃ ｙ Ｏ，
５ｏ ｅ、１０ＭＨｚでの透磁率μｍ＝ ２０００、飽
和磁束＠度Ｂ字１００００Ｇａｕｓｓ） ｒ、３２使用
した場合には、保磁力ＨＣ筈０．０５６ ｅ、１０ Ｍ
Ｈｚでの透磁率ｔｔ −； ３０００であり、飽オ［１
研束密度Ｂ ン１４０００ Ｇａｕｓｓ であるＣｏ、
（ＩＺｒｌ。
例えば、Ｎｌｃｅ合金膜（保磁力１−１．ｃ ｙ Ｏ，
５ｏ ｅ、１０ＭＨｚでの透磁率μｍ＝ ２０００、飽
和磁束＠度Ｂ字１００００Ｇａｕｓｓ） ｒ、３２使用
した場合には、保磁力ＨＣ筈０．０５６ ｅ、１０ Ｍ
Ｈｚでの透磁率ｔｔ −； ３０００であり、飽オ［１
研束密度Ｂ ン１４０００ Ｇａｕｓｓ であるＣｏ、
（ＩＺｒｌ。
（ｗｔ％）膜を第２の軟磁性坏として使用することが考
えられる。
えられる。
第１図は従来例を示す概略ｆｌｉｔｉ面図であり、第２
図は本発明の詳細な説明する為の概略断面図である。 １１．２１・・・基板、１２．１４．２２．２４・・・
絶縁層、１３．２：３・・・下部磁性体層、１５．２５
・・コイル、１６．２６・・・段差解消層、１７．２７
・・・上部磁性体層、１８．２８・・・オーバーコーｌ
一層
図は本発明の詳細な説明する為の概略断面図である。 １１．２１・・・基板、１２．１４．２２．２４・・・
絶縁層、１３．２：３・・・下部磁性体層、１５．２５
・・コイル、１６．２６・・・段差解消層、１７．２７
・・・上部磁性体層、１８．２８・・・オーバーコーｌ
一層
Claims (2)
- （１）軟磁性体より成る下部磁性層と上部磁性層の間に
、導体より成るコイルを挾んで成る薄膜磁気ヘッドにお
いて、前記下部磁性体層ｆ ｆｙ、Ｔ第１の軟磁性体の
保磁力Ｈｃ、 透磁率μおよび飽和磁束密度Ｂと、前記
上部磁性体層を成Ｔ第２の軟磁性体の保磁力Ｈ’ｃ、透
磁率μ′ および飽和磁束密度Ｂ′とがＨｃ≧Ｈ′ｃ、
μくμ′およびＢＩＢ’なる関係を有していることを特
徴とする薄膜磁気ヘッド。 - （２）ｉｌの軟磁性体がＮｉＦｅ合金膜であり、第２の
軟磁性体がＣＯ系アモルファス膜である特許請求の範囲
第１項記載の薄膜磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14293583A JPS6035316A (ja) | 1983-08-04 | 1983-08-04 | 薄膜磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14293583A JPS6035316A (ja) | 1983-08-04 | 1983-08-04 | 薄膜磁気ヘッド |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6035316A true JPS6035316A (ja) | 1985-02-23 |
| JPH0556561B2 JPH0556561B2 (ja) | 1993-08-19 |
Family
ID=15327061
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14293583A Granted JPS6035316A (ja) | 1983-08-04 | 1983-08-04 | 薄膜磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6035316A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02308408A (ja) * | 1989-05-24 | 1990-12-21 | Hitachi Ltd | 薄膜磁気ヘツド |
| JPH03241509A (ja) * | 1990-02-19 | 1991-10-28 | Hitachi Ltd | 薄膜磁気ヘッド及びその製造方法 |
| US5590008A (en) * | 1991-04-25 | 1996-12-31 | Hitachi, Ltd. | Magnetic disc unit having a plurality of magnetic heads which include multilayer magnetic films |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55150116A (en) * | 1979-05-14 | 1980-11-21 | Fujitsu Ltd | Magnetic head |
-
1983
- 1983-08-04 JP JP14293583A patent/JPS6035316A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55150116A (en) * | 1979-05-14 | 1980-11-21 | Fujitsu Ltd | Magnetic head |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02308408A (ja) * | 1989-05-24 | 1990-12-21 | Hitachi Ltd | 薄膜磁気ヘツド |
| JPH03241509A (ja) * | 1990-02-19 | 1991-10-28 | Hitachi Ltd | 薄膜磁気ヘッド及びその製造方法 |
| US5590008A (en) * | 1991-04-25 | 1996-12-31 | Hitachi, Ltd. | Magnetic disc unit having a plurality of magnetic heads which include multilayer magnetic films |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0556561B2 (ja) | 1993-08-19 |
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