JPS6031056A - ガス中の付臭剤ｔｈｔの濃度測定法 - Google Patents
ガス中の付臭剤ｔｈｔの濃度測定法Info
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- JPS6031056A JPS6031056A JP13934083A JP13934083A JPS6031056A JP S6031056 A JPS6031056 A JP S6031056A JP 13934083 A JP13934083 A JP 13934083A JP 13934083 A JP13934083 A JP 13934083A JP S6031056 A JPS6031056 A JP S6031056A
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N33/00—Investigating or analysing materials by specific methods not covered by groups G01N1/00 - G01N31/00
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- Investigating Or Analyzing Non-Biological Materials By The Use Of Chemical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はガスの付臭剤として使用されるＴＨＴ（ｔ＠ｔ
ｒａ ｈｙｔｒｏｔｈｌｏｐｈ＠ｎ・）の濃度を測定す
る方法に関する。
ｒａ ｈｙｔｒｏｔｈｌｏｐｈ＠ｎ・）の濃度を測定す
る方法に関する。
都市ガスの臭気濃度基準が強化されるに伴って、付臭剤
の添加量の管理は保安の確保上、益々重要な課題となっ
ている。
の添加量の管理は保安の確保上、益々重要な課題となっ
ている。
しかしながら、従来わが国のガス事業者にようて使用さ
れる付臭剤、特に、 ＴＷＩＴには、簡単な測定方法が
なく、その添加量の管理に肖っては、装置が高価で、し
かも高度の分析技術全必要とするＦＰＤガスクロマトグ
ラフ法しかなかった。
れる付臭剤、特に、 ＴＷＩＴには、簡単な測定方法が
なく、その添加量の管理に肖っては、装置が高価で、し
かも高度の分析技術全必要とするＦＰＤガスクロマトグ
ラフ法しかなかった。
本発明はかかる実情に鑑みてなされたもので、ガス中の
ＴＨＴの濃度を測定するため、ＴＨＴ−ヨウ素錯体の紫
外吸収を利用しようとするもので、比較的簡易な手段で
行ないうる濃度測定法を提供することをその目的とする
ものである。本発明者等は第１図に示すとと（ＴＩＴと
ヨウ素とから形成された錯体が波長３００〜３１５ ａ
ｍに特有の紫外吸収を示すことを見出し、本発明を完成
するに至シたるものである。
ＴＨＴの濃度を測定するため、ＴＨＴ−ヨウ素錯体の紫
外吸収を利用しようとするもので、比較的簡易な手段で
行ないうる濃度測定法を提供することをその目的とする
ものである。本発明者等は第１図に示すとと（ＴＩＴと
ヨウ素とから形成された錯体が波長３００〜３１５ ａ
ｍに特有の紫外吸収を示すことを見出し、本発明を完成
するに至シたるものである。
本測定方法の実施にあたっては一般的な紫外分光光度計
を用いて行うことができるが、操作の簡易化を図るため
に付臭剤であるＴＨＴを含有する試料ガスをセル等に導
き、予め用意しであるヨウ素溶液に吸収せしめて、ＴＨ
Ｔ−ヨウ素錯体を生成し、該錯体溶液に対しセル外部か
ら特定波長光例えば３０８ｎｍを含む紫外光を投光し該
セルの通過によシ吸収された度合を計測し、さらに、該
紫外吸光度に基づいてＴＨＴ濃度をめるものである。こ
うすることによシ実機にあっては、測定所要時間が約１
０数分で、正確な濃度値が得られることが判明した。
を用いて行うことができるが、操作の簡易化を図るため
に付臭剤であるＴＨＴを含有する試料ガスをセル等に導
き、予め用意しであるヨウ素溶液に吸収せしめて、ＴＨ
Ｔ−ヨウ素錯体を生成し、該錯体溶液に対しセル外部か
ら特定波長光例えば３０８ｎｍを含む紫外光を投光し該
セルの通過によシ吸収された度合を計測し、さらに、該
紫外吸光度に基づいてＴＨＴ濃度をめるものである。こ
うすることによシ実機にあっては、測定所要時間が約１
０数分で、正確な濃度値が得られることが判明した。
以下図面を参照し実施例に基づいて本発明を説明する。
第３図は本発明の一実施例を示す要部説明図である。Ｔ
ＨＴ吸収及び測光用のセル４には予めヨウ素溶液が収容
されていてここに試料ガスが試料ガス用ボンデ７及びが
−ルフィルタ８を通じて導入される。このヨウ素溶液は
第２図に示す如く溶液中のＴＨＴ濃度が２０μＰ／ＩＲ
１までの範囲で測定を行う場合、直線性を考慮するとヨ
ウ素濃度’Ｉｋ ０．０２２１以下にする必要がある。
ＨＴ吸収及び測光用のセル４には予めヨウ素溶液が収容
されていてここに試料ガスが試料ガス用ボンデ７及びが
−ルフィルタ８を通じて導入される。このヨウ素溶液は
第２図に示す如く溶液中のＴＨＴ濃度が２０μＰ／ＩＲ
１までの範囲で測定を行う場合、直線性を考慮するとヨ
ウ素濃度’Ｉｋ ０．０２２１以下にする必要がある。
また、感度を考慮すると０．０１％以上であることが望
ましいことから、結局０．０１〜０．０２％であること
が望ましい。ヨウ素溶液に吸収される試料ガス量は一定
量に設定され、攪拌手段等を利用してＴＨＴとヨウ素と
の錯体の生成が促進される。
ましいことから、結局０．０１〜０．０２％であること
が望ましい。ヨウ素溶液に吸収される試料ガス量は一定
量に設定され、攪拌手段等を利用してＴＨＴとヨウ素と
の錯体の生成が促進される。
光源１から発せられる光束は集光レンズ２及び干渉フィ
ルタ３を通過してセル４に投光せしめられる。セル４を
通過した光は集光レンズ５を通過し検知器６により該単
色光の光量が検知される。
ルタ３を通過してセル４に投光せしめられる。セル４を
通過した光は集光レンズ５を通過し検知器６により該単
色光の光量が検知される。
かくして、紫外の吸収光（３０８ｎｍ）の光量から紫外
吸光度に基づいてガス中のＴＨＴ濃度が算出可能となる
。紫外吸光度の測定及びＴＨＴ濃度の算出には分光光度
計の使用が好ましい。
吸光度に基づいてガス中のＴＨＴ濃度が算出可能となる
。紫外吸光度の測定及びＴＨＴ濃度の算出には分光光度
計の使用が好ましい。
本発明は以上の構成に基づくものであって、供試ガス中
に含まれるＴＨＴがヨウ素と容易に錯体を形成し、しか
も、該錯体に吸収される特定紫外光の吸光度によりガス
中の濃度が容易に算出し得るものであって、付臭剤濃度
の迅速確実な測定法として極めて有用なものである。
に含まれるＴＨＴがヨウ素と容易に錯体を形成し、しか
も、該錯体に吸収される特定紫外光の吸光度によりガス
中の濃度が容易に算出し得るものであって、付臭剤濃度
の迅速確実な測定法として極めて有用なものである。
第１図は、 ＴＩＴ−ヨウ素錯体の紫外線吸収状態を示
しタテ軸は吸光度を、また、ヨコ軸は波長（ｎｍ） を
表示するグラフであシ、第２図は、ＴＨＴ−ヨウ素錯体
の吸光度の直線範囲を示しタテ軸は直線性を示すＴＨＴ
濃度限界（μｂ佃）を、また、ヨコ軸はヨウ素濃度（ｗ
ｔ／’ｖｏｔ％）を表示するグラフであり、第３図は本
発明方法を実施するための装置を示す説明図である。 １・・・光源、２・・・集光レンズ、３・・・干渉フィ
ルター、４・・・セル、５・・・集光レンズ、６・・・
検知器、７・・・試料ガス用Ｉンプ、８・・・が−ルフ
ィルタ。 特許出願人 東京瓦斯株式会社 同 社団法人日本瓦斯協会 代理人 弁理士甲斐正憲 （５）
しタテ軸は吸光度を、また、ヨコ軸は波長（ｎｍ） を
表示するグラフであシ、第２図は、ＴＨＴ−ヨウ素錯体
の吸光度の直線範囲を示しタテ軸は直線性を示すＴＨＴ
濃度限界（μｂ佃）を、また、ヨコ軸はヨウ素濃度（ｗ
ｔ／’ｖｏｔ％）を表示するグラフであり、第３図は本
発明方法を実施するための装置を示す説明図である。 １・・・光源、２・・・集光レンズ、３・・・干渉フィ
ルター、４・・・セル、５・・・集光レンズ、６・・・
検知器、７・・・試料ガス用Ｉンプ、８・・・が−ルフ
ィルタ。 特許出願人 東京瓦斯株式会社 同 社団法人日本瓦斯協会 代理人 弁理士甲斐正憲 （５）
Claims (1)
- 付臭剤ＴＨＴを含有する試料ガスを目つ素溶液に吸収さ
せてＴＨＴ−ヨウ素錯体を生成せしめるｘｉ工程と、該
錯体溶液に対し該錯体によ）紫外吸収される光束を投射
する第２工程と、紫外吸光度に基づいてガス中のＴＩＴ
濃度を算出する第３工程とから構成されることを特徴と
するガス中の付臭剤ＴＨＴの濃度測定法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13934083A JPS6031056A (ja) | 1983-08-01 | 1983-08-01 | ガス中の付臭剤ｔｈｔの濃度測定法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13934083A JPS6031056A (ja) | 1983-08-01 | 1983-08-01 | ガス中の付臭剤ｔｈｔの濃度測定法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6031056A true JPS6031056A (ja) | 1985-02-16 |
| JPH0317298B2 JPH0317298B2 (ja) | 1991-03-07 |
Family
ID=15243047
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13934083A Granted JPS6031056A (ja) | 1983-08-01 | 1983-08-01 | ガス中の付臭剤ｔｈｔの濃度測定法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6031056A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0836091A1 (en) * | 1996-10-09 | 1998-04-15 | Osaka Gas Company Limited | Method and apparatus for measuring odorant concentration and odorant adding system |
| WO2017056123A1 (en) * | 2015-09-28 | 2017-04-06 | Automa - S.R.L. | Gas odorization analysis device and method. |
-
1983
- 1983-08-01 JP JP13934083A patent/JPS6031056A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0836091A1 (en) * | 1996-10-09 | 1998-04-15 | Osaka Gas Company Limited | Method and apparatus for measuring odorant concentration and odorant adding system |
| WO2017056123A1 (en) * | 2015-09-28 | 2017-04-06 | Automa - S.R.L. | Gas odorization analysis device and method. |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0317298B2 (ja) | 1991-03-07 |
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