JPS6029942B2 - 電子写真感光材料及びその製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は基体への密着性、鏡面特性、耐久性及び電子写
真的特性の組合せに優れた有機光導電体層を備えた電子
写真用感光材料に関するものであり、より詳細には光導
電層表面を負または正の電荷に荷電し、画像露光により
負乃至は正電荷の静電潜像を形成し、この静露潜像をト
ナー粒子で現像し、トナー像を転写シートに転写した後
、再び一転の電子写真工程を反復する用途に通した電子
写真用感光材料に関する。

電子写真法においては、光導電層を備えた感光体をコロ
ナ放電等の手段により荷電し、次いで画像露光を行って
前記光導電層表面に静電権像を形成させ、しかる後光導
電層表面に現像剤を施して前記静露潜像に対応するトナ
ー像を形成させ、光導電層表面のトナー像を複写紙に転
写する方式が広く使用されている。

トナー像が転写された後の感光体は残存トナーのクリー
ニング行程に賦された後、前述した荷電行程等の諸行程
に再び供される。この電子写真法に使用する光導電層は
、濃度及びコントラストの高い画像を形成するためには
、前述したコロナ放電により十分に高い電位の荷電が可
能なこと（即ち、飽和帯電電位が高いこと）、及び荷電
後の光導電層を光照射したとき露位の急激な低下がもた
らされること（電位の光減衰速度、即ち感度が大きいこ
と）の諸特性が基本的に要求される。

更に、反復使用するための電子写真感光体は、感光層上
にトナーを直接定着するタイプの感光体とは異なった幾
つかの特性が要求される。

即ち、前者の感光体は比較的早い晴減衰特性（感光層の
未露光部の表面電位が８音中において減衰する特性）と
無視できる程小さい残留電位（感光層の露光部に残留す
る電位）とを有していることが、反復複写に際してカブ
リを防止し且つ感光体の寿命を長くするために重要であ
る。感光体の残留電位が大きい場合には、転写行程にお
いて既にカブリの原因となるばかりではなく、この場合
或いは、感光体の階減衰速度が遅い場合の何れの場合に
も、感光体表面に形成される静露潜像等の静電荷が転写
及びクリーニング等の行程を終えた後においても、感光
体表面に残存し、次第に蓄積して次回の複写操作に際し
てカブリの原因となり、また電荷の蓄積により光導電層
の電気的劣化の原因となる。また、階減衰速度が遅い場
合には、転写行程を終了した後においても、トナー粒子
が感光板表面に静電的に比較的強い吸引力で引き付けら
れている結果として、複写紙上へのトナ−の転写効率が
比較的低く、且つ残存トナーを感光板表面から脱離させ
るために強度の払拭操作が必要となり、これに伴なつて
感光体表面の損傷がより早く生じることになる。また、
前者のタイプの感光体、即ち反復使用型の感光体では、
感光体そのものが機械的、電気的或いは化学的耐久性が
一層高度に要求されることになる。

即ち、この感光体は放電及び光線照射の処理に反復して
受けること、及び磁気ブラシやクリーニング部材との摩
擦を反復して受けることに関連して、感光体の光導電層
の機械的損傷や電気的、化学的劣化を受け易く、或いは
光導電層が導電性基体から剥離する等のトルブルを使用
中に生じ易い。光導電層には上述した耐久性及び基体へ
の密着性の他に滑らかな表面、即ち鏡面特性を有するこ
とが要求される。即ち光導電層の表面が粗い場合には、
乱反射等の原因により感度が低下し、又画像の鮮鉄さが
失われるという欠点を生ずる。従来電子写真用感光体の
光導電層として有機高分子光導電体、特にビニルカルバ
ゾール系高分子光導電体を使用することが古くから知ら
れている。

ビニルカルバゾール系高分子光導電体（以下単にＰＶＫ
と呼ぶことがある。）は性質において電子供与性であり
、電子受容体として作用するトリ又はテトラニトロフル
オロレノン（以下単にＴＮＦと呼ぶことがある。）との
電荷移動銭体の形で可視域の光線に対して感度を有する
光導電層とする。この光導電性組成物にＳｅ，ＣｄＳｅ
或いはＣｄＳＳｅの様な無機光導電体或いはフタロシア
ニン、アントラキノンの様な有機光導電体を配合するこ
とも既に知られている（英国特許第１３５８２６９号明
細書）。しかしながら、公知の有機高分子光導電層はそ
の性質においてもろく、機械的、化学的或いは電気的な
耐久性において未だ充分満足し得るものではなく、この
ものを一連の電子写真工程を反復する用途に使用した場
合には、基体からの剥離やピンホールの発生或いはその
他の表面の傷等が屡々発生し易いという欠点がある。

又有機高分子光導電体感光板は、露光行程後の残留電位
が無視し得ない高いレベルにあって、反復複写に際して
カプリを発生したり或いは感光体の寿命の著しい低下を
もたらすことになる。更に、有機高分子光導電層は、導
電性基質上にその溶液乃至は分散液を塗布し乾燥するこ
とにより形成されるが、その表面を完全に平滑化するの
が困難であるという問題もある。本発明者等は、ビニル
カルバゾール系高分子光導電体、トリ又はテトラニトロ
フルオ。

レノン、フタロシァニン系顔料及び特定のポリエステル
樹脂をそれぞれ特定の量比で含有する光導電層は、高い
飽和帯電電位と早い光減衰速度（感度）との組合せを有
するばかりではなく、感光体の時減衰速度を反復複写に
適した範囲に制御すると共に、残留電位を無視し得る程
度迄減少させることが可能となるという電子写真的特性
を有すると共に、この組成物を以下に詳述する条件下に
導電性基体に塗布する時には、基体への密着性、耐久性
及び鏡面持性が著しく向上することを見出した。本発明
によれば、導電性基質と該基質上に施された有機光導電
体層とから成る感光材料において、前記有機光導電体層
は、ビニルカルバゾール系高分子光導電体、前記高分子
光導電体の構成単量体１モル当り０．１５乃至０．４５
モルのトリ又はテトラニトロフルオロレノン、前記高分
子光導電体当り０．２乃至４重量％のフタロシアニン系
顔料及び前記高分子光導電体当り０．１乃至５０重量％
の下記式式中、Ｙは直接結合乃至は２価の橋架原子乃至
は基を表わし、Ｒは炭素数２乃至４のアルキレン基を表
わし、環Ａはハロゲン原子で置換されていることができ
る、で表わされるグリコールをジオール成分として含有
するポリエステル樹脂を含有して成り、前記有機光導電
体層は２乃至２０ミクロンの厚みと最大高さ粗さが０．
２ミクロン以下の表面とを有することを特徴とする電子
写真感光材料が提供される。

ビニルカルバゾール系高分子光導電体としては、ポリ−
Ｎ−ピニルカルバゾールの外に、その核置換誘導体、例
えばハロゲン、ァルキル置換誘導体等が使用され、トリ
又はテトラニトロフルオロレノンとしては２，４，７−
トリニトローフルオレノン、２，４，５，７ーテトラニ
トロフルオロレノン等が使用される。フタロシアニン系
顔料（以下単にＰｃと呼ぶことがある）としては、光導
電体を有するそれ自体公知のフタロシアニン又はその誘
導体を全て使用できるが、入手が容易であり且つ本発明
の目的に特に好適なフタロシアニン乃至はその誘導体は
、無金属フタロシアニン及びその核置換誘導体、例えば
核ハロゲン置換誘導体である。本発明においては、下記
式式中、Ｙは直接結合乃至は２価の橋絡原子乃至は基を
表わし、Ｒは炭素数２乃至４のアルキレン基を表わし、
環Ａはハロゲン原子で置換されていることができる、で
表わされるグリコールをジオール成分として含有するポ
リエステル樹脂を使用することが、基体への密着性、鏡
面持性、耐久性及び電子写真的特性の組合せに優れた有
機光導電体層を形成する上で極めて重要である。

即ちこのポリエステル樹脂は、ＴＮＦの様なルイス酸と
の間に光導電体電荷移動鍵体を形成するという普通のポ
リエステル樹脂には全く認められない特性を有する。更
に、このポリエステル樹脂は造腰性、基体への密着性、
強鞠性、耐久性に優れており、かくしてこのポリエステ
ル樹脂を前述した光導電性組成物に配合することにより
、電子写真的特性を阻害することないこ前述した特性を
顕著に改良することが可能となる。前記一般式‘１｝に
おいて、Ｙは直接結合であっても、２価の橋絡原子乃至
は基であってもよく、２価の橋絡原子乃至は基としては
、酸素原子（＝○）、硫黄原子（＝Ｓ）、スルホン基（
＝Ｓ０２）、カルボニル基（＝ＣＯ）、或いは式式中、
Ｒ，及びＲ２の各々は水素原子、炭素数６以下のァルキ
ル基、又は炭素数１沙〆下のァ１′ール基であり、こ）
で２つのアルキル基Ｒ，、及びＲ２は連結してアルキレ
ン基を形成していてもよい、で表わされる基を挙げるこ
とができる。

前記一般式川のグリコール類は、下記式 式中、Ｙ及びＡは前述した意味を有する、の２価フェノ
ールと、下記式 式中、Ｒは前述した意味を有する、 のアルキレンオキサイドとを付加させるか、或いは式｛
３ーの２価フェノールと下記式ＨＯ−Ｒ−ＯＨ
… ■式中、Ｒは前述した意味を
有する、のジオールとを縮合させることにより容易に得
られる。

かかるグリコールの適当な例はこれに限定されるもので
はないが、次の通りである。本発明の目的は特に好都合
なポリエステル樹脂は、２，２ービス（４−オキシエト
キシフエニル）プロパン、或いは２，２ービス（４ーオ
キシプロポキシフエニル）プロパンから誘導されるもの
である。

本発明に用いるポリエステル樹脂は、ジオール成分の全
てが前記式ｔｌ｝のグリコールから成っていることが好
ましいが、全ジオール成分の５０モル％以下、特に３０
モル％以下の量で、それ以外のジオール類を含有してい
ることができる。

かかるジオール類としては、エチレングリコール、ジエ
チレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレ
ングリコール、１，４ーブチレングリコール、１，５−
ペンタンジオール、１，６−へキサンジオール、１，１
０ーデカンジオール、ネオベンチルグリコール、１，４
ーシクロヘキサンジオール、キシリレングリコール、水
素化ビスフェノールＡ等を挙げることができる。上述し
たジオール成分と縮合される二塩基酸としては、エチレ
ン系不飽和二塩基乃至はその無水物、脂肪族乃至は脂環
族飽和二塩基酸或いは芳香族二塩基酸の１種又は２種以
上の組合せが使用される。

エチレン系不飽和二塩基酸としては、無水マレィン酸、
フマル酸、ィタコン酸、シトラコン酸、テトラヒドロ無
水フタル酸、３，６−エンドメチレンテトラヒドロ無水
フタル酸、３，６−エンドジクロルメチレンテトラクロ
ロ無水フタル酸を挙げることができる。

脂肪族乃至は脂環族飽和二塩基酸としては、アジピン酸
、セバチン酸、コハク酸、デカンジカルポン酸、テトラ
ヒドロテレフタル酸を挙げることができ、芳香族二塩基
酸としては、無水フタル酸、ィソフタル酸、テレフタル
酸、ナフタレンジカルボン酸等を挙げることができる。

本発明においては、全二塩基酸成分の少なくとも１０モ
ル％、特に５０モル％以上がエチレン系不飽和カルボン
酸から成ることが電子写真的特性の点で好ましい。本発
明に用いるポリエステルは、下記式 式中、Ａは二塩基酸からカルボキシル基を除去した２価
の残基であり、好適には基Ａの少なくとも１０モル％は
エチレン系不飽和を有する２価の炭化水素基であり、基
Ａの残りはエチレン系不飽和を含まない２価の炭化水素
基であるものとし、Ｂはジオールからヒドロキシ基を除
去した２価の残基であって、基Ｂの少なくとも５０モル
％は式であり、基Ｂの残りはアルキレン基であるものと
する。

で表わされる反復単位から成っている。

本発明で用いるポリエステル樹脂は、フェノールとテト
ラクロロェタンの１：１混合溶媒中、０．４夕／ｄ‘の
濃度で且つ３０００で測定して、下記式還元粘度＝りｓ
Ｐ／Ｃ式中、りｓＰは上記条件で測定した比粘度を表わ
し、Ｃは混合溶媒中のポリエステル濃度（０．４夕／ｄ
‘）を表わす、で定義される還元粘度が０．０５ｄ‘／
タ以上、特に０．１ｄ‘／タ以上の範囲にある。

本発明の号的に特に好適な不飽和ポリエステルは、一般
に９０乃至１６０ｑｏの軟化温度（環球法）を有する。
本発明に用いるポリエステルは、ジオール成分として前
述した特稚のグリコールを用いて、それ自体公知の重縮
合方法により得られる。例えば、ジオール成分と二塩基
酸とを溶融状態において、水は溜出するがジオール成分
は還流されるような条件下で、必要により炭酸ガスの流
通下に反応させることにより容易に得られる。或いは通
常のェステル交換反応により、２価フェノールのアルキ
レンオキサィド付加物、二塩基酸のジメチルェステル或
いは更に通常のジオール類を、触媒の存在下に１５０乃
至２７０００の温度に加熱し、ェステル交換反応によっ
て生じるメタノールを溜去し、必要により過剰量のジオ
ール類を溜去することにより所望のェステルを容易に得
ることができる。

触媒としては、公知のェステル交換触媒、例えばテトラ
ブチルチタネートの如き有機チタネート或いは三酸化ア
ンチモンの如き触媒が使用される。本発明においては、
ＰＶＫの構成単量体１モル当り０．１５乃至０．４５モ
ル、特に０．２５乃至０．４モルのＴＮＦ、ＰＶＫ当り
０．２乃至４重量％特に０．５乃至３重量％のＰｃ及び
ＰＶＫ当り０．１乃至５の重量％、特に０．５乃至３の
重量％のポリエステル樹脂を使用することも重要である
。

例えば、フタロシアニン類の添加量が上記範囲よりも少
ない場合には、光に対する感度が低下し、露光後の残留
電位が増加する傾向が大となり、一方フタロシアニン類
の添加量が上記範囲よりも多くなると、飽和帯電電位が
低下し、また光に対する感度も低下する傾向が大となる
。

また、この配合量が多い組成物は、塗膜形成性に劣って
おり、塗膜の機械的強度や密着性が不十分となる傾向が
ある。同様に、ＴＮＦの配合量が上記範囲よりも低い・
場合には、やはり光に対する感度が低下すると共に露光
後の残留電位が増加する傾向が著しい。

一方、ＴＮＦの配合量が上記範囲よりも多い場合には、
飽和帯電電位がやはり著しく低下する傾向を示す。更に
ポリエステル樹脂の配合量が上記範囲よりも低い場合に
は、基体への密着性、光導電層の強靭性や鏡面持性が低
下する傾向があり、上記範囲よりも多い場合には、残留
電位が大きくなる傾向がある。

本発明の光導電組成物には、上述した必須４成分に加え
て、それ自体公知の任意の添加剤乃至は配合剤を、所望
によって配合することができる。

例えば、か）る配合剤には、それ自体公知の結着剤、増
粘剤、滅粘剤、垂れ防止剤、レベリング剤、消泡剤、染
料増感剤等が含まれる。本発明の感光材料を製造するに
際しては、前述した各成分を有機溶媒中に溶解乃至は分
散させて被覆用組成物を調製し、この被覆用組成物を導
電性基体上に塗布し、次いで加熱乾燥することにより鏡
面特性に優れた光導電層、即ち最大高さ粗さ（Ｈｍａｘ
）が０．２ミクロン下特に０．１ミクロン以下の表面を
有する光導電層を形成することが重要である。

また、ＰＶＫ及びＴＮＦはテトラヒドロフラン（以下Ｔ
ＨＦと呼ぶことがある。）には易客であるが、その他の
溶剤には溶けにくいという性質を有している。一方テト
ラヒドロフランは、蒸発速度が大であると共に親水性で
あり、梨子状の表面を有する光導電層を形成しやすいと
いう欠点を有している。この欠点は、前述したポリエス
テル樹脂を使用することにより若干改善されるとしても
、最大高さ紙さが０．２ミクロン以下の表面を有する光
導電層を形成するという目的には未だ不満足である。本
発明の一好適態様においては、被覆用組成物を調節する
ための有機溶媒としてテトラヒドロフランとテトラヒド
ロフランよりも１０乃至１２０００高い沸点を有する芳
香族系乃至はケトン系溶剤の少なくとも１種とを９：１
乃至１：９の重量比特に８：２乃至３：７の重量比で含
有する組合せ溶媒を使用して溶媒の蒸発速度を制御し、
前記塗装条件に合致する様にする。

最も好適な組合せ溶媒は、ＴＨＦ、シクロヘキサノン、
及びトルェンを２０乃至８５：１０乃至６０：５乃至７
０の重量比で含有する混合溶媒である。被覆用組成物を
調製するにあたっては、ＰＶＫをＴＨＦに溶解した溶液
とＰｃをトルェンに分散した分散液とも調製し、この両
者を混合し、この混合液、分散液或いは溶液の何れかに
ＴＮＦ、ポリエステル樹脂溶液或いは更に追加量の溶媒
を添加すればよい。この被覆用組成物は、一般に１乃至
５０％、特に５乃至３０％の固形分濃度を有することが
塗布作業性の点で好適である。上述した導電性基体とし
ては、銅、アルミニウム、銀、錫、鉄等の箔乃至は板を
シート板或いはドラム状にしたものが使用され、或いは
これらの金属を、プラスチックフィルム等に、真空蒸着
、無電解〆ッキ等の手段で薄膜状に施したものが使用さ
れる。

本発明の光導電層は、２乃至２０ミクロン特に５乃至１
５ミクロンの厚みを有することも電子写真的特性の上で
極めて重要である。

この膜厚が２ミクロンよりも薄い場合は前述した初期電
位を充分に高めることが困難であり、２０ミクロンより
も厚い場合には感度が低下し残留電位が増大する傾向が
ある。本発明で規定した組成の有機光導電性組成物を使
用すると、薄厚を前述した薄い範囲に保ちながら薄厚の
均一性や被膜の耐久性を向上させ得ることも顕著な利点
である。本発明を次の実施例で説明する。本明細書にお
いて、種々の電子写真的特性は、添付図面第１図に図示
された次の定義による。

「飽和帯電電位」とは、川口電機製ェレクトロスタテイ
ク・ペーパー・アナライザーを、「ＤＹＮＡＭＩＣ測定
」の条件で使用して、一郎Ｖ或いは十郎Ｖのコロナ放電
を光導電層に１硯妙間与えたとき、光導電層表面の飽和
電位（第１図においてｖｓ）を言う。

「階減衰」とは上記条件で、コロナ放電終了から１の砂
間経過時迄の電位の平均減衰量Ｄｏ則ちＶｓ−Ｖ，。

ＤＤ＝一一一− ・〇 式中、Ｖ，ｏは１０秒経過後における光導電層の表面電
位である、を意味する。

「初期電位」とは、上記装置を「ＳＴＡＴＩＣ測定」の
条件で使用して、光導電層を同様な印加電圧でコロナ放
電に賦した後、光照射直前の表面電位（第２図において
Ｖ，）を言う。

「残留電位」とは４０ルックスの光照射開始１秒後の表
面電位ＶＲ）を言う。「感度」は、４０ルックスの光照
射により、表面電位が初期電位（Ｖ，）の１／２になる
のに必要な露光量、即ち式Ｓ＝ｔ・Ｌ 式中、ｔは光照射開始後表面電位がＶ，の１／２になる
に必要な時間（ｓｅｃ）であ、Ｌは光照射の平均照度（
１雌）である、の半減衰露光量で比較することができ、
この値が小さい程感度が高いことになる。

「最大高さ粗さ（Ｈｍａｘ）ＪはＪＩＳ Ｂ−０６０１
の方法に従い小坂研究所製、万能表面形状測定器ＳＥ−
＊を用いて測定した値である。

「密着性」はセロテープによる剥離試験の結果であって
、光導電層の剥離の程度で表示した。

「強靭性」は感光板を１８００折り曲げ「光導電層の破
壊乃至は剥離を観察した。「耐久性」は６００の女連続
複写後の密着性及び強鞠性で比較した。

参考例 １ 擬伴機、温度計、ガス導入管及び分溜コンデンサーを具
備した反応容器内に、下記原料を秤量し、装入した。

２，２−ビス（４−ヒドロキシ プロポキシフエニル）プロパン ４９の部プロピレン
グリコール １碇部フマル酸
１１７部無水フタル酸
７４部窒素気流中で１８０〜２００ｑＣの温度でェス
テル化を行ない、駿価が１４となる迄反応を行なった。

反応終了後、バットに注入し冷却させた。得られたポリ
エステルは軟化点が１３０午０の淡黄色の樹脂であった
。

参考例 ２ 蝿梓機、温度計及び分溜コンデンサーを備えた反応容器
に、下記原料を袋入した。

２，２−ビス（４−ヒドロキシ ェトキシフェニル）プロパン ３２６部プロピレン
グリコール １４碇部ジメチルテレフタレー
ト １４６部ジメチルィソフタレート
１４６部触 媒 ０３部
この混合物を徐々に昇温し、反応温度が２００乃至２２
０００となる迄反応を続けて、メタノールを留出させた
。

次いで２５０乃至２６５午０迄昇温し、反応系を０．１
５肋Ｈｇに減圧して３時間反応を続行した。得られたポ
リエステル樹脂を窒素気流中で取出して、室温迄冷却さ
せた。得られたポリエステル樹脂は、０．１７の還元粘
度（りｓＰ／Ｃ）を有し、淡黄色透明であった。

実施例 １ポリ−Ｎービニルカルバゾール（ＢＡＳＦ社
製、ＬｕｖｉｃａｎＭ−１７０）（以下ＰＶＫと記す）
の１の重量％テトラヒドロフラン（以下ＴＨＦと記す）
溶液１００夕に無金属フタロシアニン（ＢＡＳＦ社製、
ＨｅｌｉｏｇｅｎＢｌｕｅ７８００）の１重量％トルェ
ン分散液１０夕、２，４，７ートリニトロ−９−フルオ
レノン（以下ＴＮＦと託す）７夕を添加する。

これに参考例１で作製したポリエステル樹脂の４の重量
％ＴＨＦ溶液３夕をトルェン−シクロヘキサノン（１：
１）混合液を５０タ添加した後、超音波分散器で充分に
分散溶解を行ない、塗布液を作製する。

次にこの塗布液をワイヤーバ−にて８０リアルミフオィ
ル上にコーティングし、１２０００で３分間乾燥し、乾
燥後の膜厚が８山で最大表面高さ粗さ０．０７ミクロン
の感光板を得た。

次に、上記作製感光板を、三田工業ＫＫ製、電子コピス
ター２５１Ｒに装着し、負極性帯にて６，００功女の耐
久テストを行なったところ、６，００の女目でもその画
質は１枚目とほとんど差異はなく、コントラストのある
鮮明な画像であった。

又、耐久テスト使用後の感光板について、セロハンテー
プによる剥離試験を行なった結果、剥離は全く見られず
、感光板を１８０ｏ折曲げた結果、光導電層の破壊及び
剥離は全くなかった。

比較例 １ 実施例１のポリエステル樹脂を除く以外は、実施例１と
全く同様にしてサンプルを作製し、全く同様のテストを
行なった。

その結果、複写テストにおいては、１００の女目で感光
板表面のキズが多くなり不鮮明な画質になり、セロテー
プによる剥離テストは、すべて剥離し、アルミフオィル
への薮着性はたいへんよわかった。

比較例 ２ 実施例１のポリエステル樹脂にかわりに、シリコン樹脂
（信越シリコンＫＫ製ＥＳｌｏｏＩ）を用いる以外は実
施例１と全く同機にしてサンプルを作製し、実施例１と
全く同様のテストを行なった。

その結果、複写テストでは１枚目においても、カブリが
あるやや不鮮明画質となり、１００の女目でも箸積した
残留電位のため、カブリのたいへん多い画質になった。
又、セロハンテープによる剥離テストでは、一部がはが
れたにとどまった。

比較例 ３ 用いる溶媒がＴＨＦ単独である以外は実施例１と全く同
じ方法でサンプルを作製した結果、鏡面特性のない、や
や梨子状表面を有する感光板サンプルを得た。

（川口電機社製、ＥｌｅｃｔｒｏｓｔａｔｊｃＰａｐｅ
ｒＡｎａｌｙｚｅｒＭｏｄｅｌＳＰ−４２８）による光
感度測定の結果、実施例１で作製したサンプルより光感
度が若干悪かった。６００の父耐久テスト後の剥離テス
トでは全く剥離しなかった。

本発明で規定した組成の有機光酸性組成物を使用して感
光板を作製した場合、塗布室環境が高い湿度条件である
程、梨子状表面を形成しやすいという傾向が確認されて
いる。

感光板塗布作業に於て著しく高湿度な条件と同じ条件を
得るために、次の実施例２〜５と比較例４〜６では感光
液塗布直後から３硯砂間、大口径へャードラィャー涼風
を塗布面上３０肌の高さより直接吹き付けた後、加熱乾
燥を行なってテストサンプルを作製した。

実施例 ２〜５ 液中にＰＶＫ、ＴＮＦ、無金属フタロシアニンおよび実
施例１で用いたポリエステル樹脂を含み、これらの組合
せ重量比が１００：６０：２：３であり、感光液の固形
分合有率が１５重量％であ、使用溶媒が表１に示す組成
である塗布液を実施例１と同様な方法で作製する。

次にこの塗布液をワイヤーバーにて８０リアルミフオィ
ル上にコーティングし、コーティング直後から３町砂、
間へャードラィャー涼風を吹付けた後、１２０００で２
分間乾燥した結果、光導電層表面が鏡面特性を有する感
光板を得た。

いずれのサンプルも、感度、耐久性、光導電層密着性が
よかった。

比較例 ４〜６ 用いる溶剤が表１の成分と組成比である以外は、実施例
２〜６と同じ方法及び条件でサンプルを作成した結果、
鏡面特性のまったくない梨子状表面となった。

表１ 第１表では次の判定基準を用いた。

密着性：セ。

テープによる剥離テストの結果、〇まったく剥れをい、
△一部剥れた、×大部分が剥れた、強籾性：１８００折
曲げテストの結果、〇破壊乃至は剥離存し、△一部か破
壊乃至剥離、×破壊及び剥離がひどい、鏡面性：Ｈｍａ
ｘ の値Ｋより次のように分ける、◎〜０．１〃、〇０
．１〃〜０．２〃、△０．２〃〜０．７〃、×０．７〃
〜耐久性：６．０００枚連続複写後の密着性及び強籾性
の総合的判定にょり、〇ょい、△やや悪い、×かなり乃
至は非常に悪い。表２

【図面の簡単な説明】

第１図及び第２図は電子写真的特性を説明するための線
図である。 第１図 第２図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 導電性基質と該基質上に施された有機光導電体層と
   から成る感光材料において、前記有機光導電体層は、ビ
   ニルカルバゾール系高分子光導電体、前記高分子光導電
   体の構成単量体１モル当り０．１５乃至０．４５モルの
   トリ又はテトラニトロフルオロレノン、前記高分子光導
   電体当り０．２乃至４重量％のフタロシアニン系顔料及
   び前記高分子光導電体当り０．１乃至５０重量％の下記
   式▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、Ｙは直接結合乃至は２価の橋絡原子乃至は基を
   表わし、Ｒは炭素数２乃至４のアルキレン基を表わし、
   環Ａはハロゲン原子で置換されていることができる、で
   表わされるグリコールをジオール成分として含有するポ
   リエステル樹脂を含有して成り、前記有機光導電体層は
   ２乃至２０ミクロンの厚みと最大高さ粗さが０．２ミク
   ロン以下の表面とを有することを特徴とする電子写真感
   光材料。 ２ 前記ポリエステル樹脂は、２，２−ビス（４−オキ
   シエトキシフエニル）プロパン或いは２，２−ビス（４
   −オキシプロポキシフエニル）プロパンをジオール成分
   として誘導されたポリエステル樹脂である特許請求の範
   囲第１項記載の電子写真感光材料。 ３ 前記ポリエステル樹脂が全ジオール成分の５０モル
   ％よりも多い量が前記式のグリコールから成るポリエス
   テル樹脂である特許請求の範囲第１項記載の電子写真感
   光材料。 ４ 前記ポリエステル樹脂が全二塩基酸成分の少なくと
   も５０モル％以上がエチレン系不飽和カルボン酸から成
   るポリエステル樹脂である特許請求の範囲第１乃至３項
   記載の電子写真感光材料。 ５ 前記有機光導電体層は、ビニルカルバゾール系高分
   子光導電体の構成単量当り０．２５乃至０．４モルのト
   リ又はテトラニトロフルオレノン、前記高分子光導電体
   当り０．５乃至３重量％のフタロシアニン系顔料及び前
   記高分子光導電体当り０．５乃至３０重量％のポリエス
   テル樹脂を含有する特許請求の範囲第１項記載の電子写
   真感光材料。 ６ 前記有機光導電体層は最大高さ粗さ （Ｈｍａｘ）が０．１ミクロン以下の表面を有する特許
   請求の範囲第１項記載の電子写真感光材料。 ７ ビニルカルバゾール系高分子光導電体、前記高分子
   光導電体の構成単量体１モル当り０．１５乃至０．４５
   モルのトリまたはテトラニトロフルオレノン、前記高分
   子光導電体当り０．２乃至４重量％のフタロシアニン系
   顔料及び前記高分子光導電体当り０．１乃至５０重量％
   の下記式▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、Ｙは直接結合乃至は２価の橋絡原子乃至は基を
   表わし、Ｒは炭素数２乃至４のアルキレン基を表わし、
   環Ａはハロゲン原子で置換されていることができる、で
   表わされるグリコールをジオール成分として含有するポ
   リエステル樹脂を、テトラヒドロフラン及びテトラヒド
   ロフランよりも１０乃至１２０℃高い沸点を有する芳香
   族系乃至はケトン系溶剤の少なくとも１種とを９：１乃
   至１：９の重量比で含有する組合せ溶媒中に溶解乃至は
   分散させ、この溶液乃至分散液を、導電性基質上に乾燥
   後の膜厚が２乃至２０ミクロンとなるように塗布し、次
   いで形成される最大高さ粗さが０．２ミクロン以下とな
   るように乾燥することを特徴とする電子写真感光材料の
   製造方法。 ８ 前記組合せ溶媒がテトラヒドロフラン、シクロヘキ
   サノン及びトルエンを２０乃至８５：１０乃至６０：５
   乃至７０の重量比で含有する混合溶媒である特許請求の
   範囲第６項記載の製造方法。