JPS602797B2 - 超伝導装置 - Google Patents

超伝導装置

Info

Publication number
JPS602797B2
JPS602797B2 JP56199493A JP19949381A JPS602797B2 JP S602797 B2 JPS602797 B2 JP S602797B2 JP 56199493 A JP56199493 A JP 56199493A JP 19949381 A JP19949381 A JP 19949381A JP S602797 B2 JPS602797 B2 JP S602797B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
voltage
superconducting
current
thin film
gate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP56199493A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS58101481A (ja
Inventor
敏明 村上
実 鈴木
陽一 榎本
稔 伊藤
義和 日高
隆 犬飼
隆弘 稲村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Telegraph and Telephone Corp
Original Assignee
Nippon Telegraph and Telephone Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Telegraph and Telephone Corp filed Critical Nippon Telegraph and Telephone Corp
Priority to JP56199493A priority Critical patent/JPS602797B2/ja
Publication of JPS58101481A publication Critical patent/JPS58101481A/ja
Publication of JPS602797B2 publication Critical patent/JPS602797B2/ja
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10NELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N60/00Superconducting devices
    • H10N60/10Junction-based devices
    • H10N60/12Josephson-effect devices

Landscapes

  • Superconductor Devices And Manufacturing Methods Thereof (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は電流制御により出力電圧を発生し、これを一定
値にラッチできる論理回路および定電圧回路超伝導装置
に関するものである。
従来の超伝導装置には外部回路からの制御により任意の
一定電圧(電流は任意)を出力できる装置は未だ提案さ
れていない。
ジョセフソン接合を直列にn個接続し、幼△/e(△は
超伝導体エネルギーギャップ、eは電子電荷)の電圧を
発生することが実施されているが、これらは固定された
電圧であって、この電圧を自由に変えることは出釆ない
。また、ジョセフソン接合をn個直列にした素子を製造
するのは、工程が複雑になるためコストが高くなる。ま
た、従来のジョセフソン回路はラッチ回路であって、リ
セットする場合、ゲート電流を切る必要があり直流電源
で論理回路を駆動するのが簸かしい。
さらに、ジョセフソン接合はトランジスタのように入力
と出力の方向性をもたないので、論理回路構成上不便が
ある。
特に最近開発されつつある電流注入形回路では入力と出
力の相互干渉が起る問題があるなどの欠点を伴っている
。本発明は超伝導体多結晶薄膜の結晶粒界ジョセフソン
接合の網目構造の示す新現象を利用し、電流制御より2
△/eの整数倍の電圧を発生し、その電圧にラッチする
こと、あるいは琴電圧状態にリセットしたりできる機能
を有する装置を提供することを目的とする。
上記の目的を達成するため、本発明は粒界にジョセフソ
ン接合を有する四角形の超伝導多結晶膜およびこれに接
続された対向する1組の制御端子と、体向する他の1組
のゲート端子とを備え、前記の1組の制御端子を流れる
制御電流により〜他の1組のゲート端子間に、微分抵抗
零の状態で、超伝導エネルギー・ギャップの幻倍(nは
整数)の電圧を発生し、前記の制御電流により、前記の
ゲート端子に発生する電圧を「保持するかあるいは零電
圧状態にリセットしうろことを特徴とする超伝導装置を
発明の要旨とするものである。
次に本発明の実施例を添附図面について説明する。なお
この実施例は1つの例示であって、本発明の精神を逸脱
しない範囲において、種々の変更あるいは改良がなされ
ることは云うまでもない。第1図は本発明の超伝導装置
の基本的構成を示し、図において、1は基板、2はこの
装置の主要な部分で、結晶粒界にジョセフソン接合をも
つ四角形の超伝導体多結晶薄膜からなり、3,3′,4
,4′は前記の薄膜において対向する辺に設けられた超
伝導体よりなる電極端子で、電極端子3,3′はゲート
端子を構成し、電極端子4,4′は制御端子を構成する
。2の粒界にジョセフソン接合をもつ超伝導体多結晶薄
膜は例えば特豚昭56一11821号出願に述べたよう
に、酸化物超伝導体BaPq−xBix03などので薄
膜をスパッタ法又はCVD法で形成し、空気中又は酸素
中で、5000〜650℃で3〜1幼時間熱処理して形
成される。
この場合には平均粒径2500Aの結晶粒の周にジョゼ
フソン接合が生じた第2図イのような構造になる。図に
おいて5は結晶粒子を示す。第3図は本発明の特性の一
つを示したものである。
第1図のAA′方向に(すなわちゲート端子間に)その
方向の最大ジョゼフソン電流を1。として−la<la
<1。なる範囲の電流laを流し、他の方向BB′(す
なわち制御端子間)に電流lbを流した場合の特性があ
る。この場合lbがある値lb,を越えるとゲート3,
3′間に微分抵抗が零のままで、電圧VM′=2△/e
を発生する。(ここに△は超伝導体のギャップエネルギ
ー、cは電子電荷である。)さらに電流を増加しlb2
以上にすれば、微分抵抗零でVM′=4△/eとなる。
この電流lbと電圧VM′との関係は第4図に示す通り
で、横軸にlb、縦軸にVAA′をとってある。
図において、電流lbが増加すると2△/eの整数倍の
電圧を発生する。電流lbの方向が逆のときは負の電圧
を発生する。VM′=2△/e,4△/e,……等とな
った後は、lbを減少させても、各々1柵.,1風2’
1畑3,…・・・以上に保てば電圧VM′の値はそのま
ま保たれ、これらの値以下にして始めてこの電圧状態か
ら雫電圧状態にリセットされる。
この第3図、第4図の特性を利用すれば、AA′方向を
ゲートとして、BB方向を制御端子としてBB′方向の
入力で、ゲートの電圧をか△/eにし、電流lbをそれ
ぞれlbm・,1風2’・….・以上に保持することに
より、その電圧にラッチできる。
巻電圧にリセットするときはlb=0とすればよい。入
力信号に対する利得を大きくするためには、入力を加え
る前にlb一△lbくlboくlb,(△lbは入力の
大きさ)なるlboにバイアスしておけばよい。第2図
イ〜二はこの機能の説明を行うためのものである。
イ図は第1図の超伝導薄膜2の部分を拡大したもので、
5は超伝導体の結晶粒である。口図は結晶粒をさらに拡
大したもので、その周囲にはジョゼフソン接合が形成さ
れている。超伝導薄膜2に電流la,lbを注入すると
、一つの結晶粒には互に直角方向の電流ia,ibが流
れる。ia,ibは結晶粒周辺の異なる部分のジョゼフ
ソン接合を横切る。電流ia,ibが各接合部の最大ジ
ョゼフソン鰭流密度(i。
)より小さい場合にはいずれも零電圧状態で互に独立で
干渉しない。しかし、。例えば電流ibがioより大き
くなると口図の6の部分は電圧状態になり、周波数の=
4△/h(△は超伝導体のギャップェネルギ、hはプラ
ンク定数)のマイクロ波が発生される。(B.D.Jo
sephSon“Coupled Supercond
ucのrs’’Rev of ModernPhysi
cs,January l964,PP216一物0参
照)。このマイクロ波エネルギーはハ図のように伝搬さ
れ、電流iaの流れる方向に電圧2△/eを発生する。
電流lbが最大ジョゼフソン電流らを越えても、始めは
ハ図に示す状態になる粒子は少ないがlb21b・とな
ると二に示すように超伝導薄膜2の部分を対角線状に電
圧状態の粒界ジョゼフソン接合がブリッジするようにな
る。
この状態になるとAA′方向に電圧を生ずるが、電圧が
2△/eの整数倍のときジョゼフソンの理論により(前
世の論文参照)電流は−loとloとの任意の値をとる
ことができ、その値は外部回路からの供V給の方法で決
まる。電流lbを増加し、lb2以上になると、対角線
状に電圧状態の粒界ジョゼフソン接合が2列に並び、A
A′方向からみると直列に2園の電圧状態の接合が並ぶ
ことになるので、VM′=4△/eとなる。
電流lbを減少して行くときは、粒界ジョゼフソン接合
のヒステリシス特性にしたがって暫く電圧状態が続き、
1伽2 ,lbm,,に至って順次粒界ジョゼフソンが
零電圧状態に戻る。
以上が現象の説明であるが、この素子の電気的等価回路
は第5図で表わされる。
8のトランス結合は上記説明における電流→マイクロ波
→電圧の変換に相当し、9はゲート電流がlo以下のと
き微分抵抗零であることを示す。
このことから入力と出力はほぼ完全に分離されることが
わかる。〔実施例〕超伝導薄膜としてBaPq〜Bix
03(0.25<×ミ0.35)による例を示す。
特鹿昭56−11821号出願に記載したように、この
材料の多結晶薄膜の結晶粒界には、丁度ジョゼフソン接
合になりうるような薄いバリアが形成される。
このような額向は組成x〉0.25で著しくなる。実施
例ではx=0.3を選んだ。薄膜の厚さは2000〜7
000Aが適当であるが、ここでは5000Aを選んだ
。超伝導転移温度Tcはx=0.3で約鰍で、2△/e
は2.2hVである。超伝導薄膜の作成は特顕昭55一
12027号出願において記載されているように、母(
PbMBiM),.s04なる組成のターゲットを用い
、アルゴンと酸素各50%の混合ガスのガス圧6×10
‐2Tom、プルート電圧1.肌Vにおいて、約260
℃のサファイア基板上にスパッタリングで薄膜を形成し
、酸素中で56ぴ○で約1加時間熱処理した。
結晶粒の直径は平均2400Aであった。この薄膜をエ
ッチングするには、特藤昭56−956計号出願に記載
してあるように、HCそ04(60.0〜62.0%溶
液)を水に対して容積比20〜60%加え、この溶液に
対してHC〆(35.0〜37.0%溶液)を港積比で
1〜0.3%加えた溶液によりエッチングすることによ
り、サイズは第1図の2の部分としてloAm×10ム
mと10ムm×20一mとの2種のパターンを形成した
。次に電極端子および配線パターン形成にはBaPbo
.7あio.2503なる組成を選んだ。
この組成にするとx=0.3の場合に比べ臨界電流密度
が第1図の薄膜2の部分の最大ジョセフソン電流の4倍
大きくなるので、薄膜2の部分が電圧状態になっても電
極端子および配線部は零電圧状態が保たれる。薄膜のス
パッタ条件、熱処理条件はx=0.3のときと同じであ
る。スパッタを行う際あらかじめ薄膜2の部分の上にの
み約1000A厚の金蒸着膜を形成しておき、その上に
BaP広.75Biぃ2503膜を全面にスパッタし、
電極端子、配線部パターンをエッチングで形成し、同時
に薄膜2の部分の上のBaPbo.?好io.2503
膜を除去した。その後薄膜2の部分に形成した金蒸着膜
を12一1N夜でエッチングして除去し素子を完成させ
た。この素子の各端子からの最大ジョセフソン電流はl
oAmの辺で72ムA,20山mの辺で140山mであ
り、lb,=140仏A,lbよ=160AA制御端子
側(辺長10rm)およびlb,=250仏A,lb2
=267ムAであった。
制御端子の辺長がゲート側の辺長より小さくなると1一
V特性が理想的状態(微分抵抗零であること)が劣化す
る。実施例のBaPq‐xBix03薄膜以外でも、第
1図、第2図で説明した構造をもつ素子で一般に第3図
、第4図の特性を得ることができる。
以上説明したように、本発明によれば電流制御により一
定電圧の整数倍を発生することができ、その電圧にラッ
チしたり、ゲート電流を0にしないで舞電圧状態にリセ
ットできる。
また、第5図の等価回路のため入力と出力の相互干渉は
少ない。このような利点があるので論理回路および定電
圧回路の設計、製作を容易にすることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の装置の構造、第2図イ〜ニは現象の説
明図、第3図及び第4図は本発明の素子の特性、第5図
は本発明素子の等価回路を示す。 1・・・基板、2…粒界にジョセフソン接合をもつ超伝
導薄膜、3,3′,4,4′・・・電極端子、5・・・
結晶粒子、6・・・マイクロ波発生部、7…マイクロ波
エネルギーを吸収した電圧状態に変る部分、8・・・ト
ランス結合、9・・・ジョセフソン接合、10・・・も
れ電流の抵抗、い・・最大ジョセフソン電流(臨界電流
)、△・・・ヱネルギギャップ電圧、e・・・電子電荷
、lb.,lb2・・・AA′方向に電圧を発生するた
めの電流lbの閥値。 第1図 第2図 第3図 第4図 第5図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 粒界にジヨセフソン接合を有する四角形の超伝導多
    結晶膜およびこれに接続された対向する1組の制御端子
    と、対向する他の1組のゲート端子とを備え、前記の1
    組の制御端子を流れる制御電流により、他の1組のゲー
    ト端子間に、微分抵抗零の状態で、超伝導エネルギー・
    ギヤツプの2n倍(nは整数)の電圧を発生し、前記の
    制御電流により、前記のゲート端子に発生する電圧を、
    保持するかあるいは零電圧状態にリセツトしうることを
    特徴とする超伝導装置。 2 粒界ジヨセフソン接合部の四角形のうち制御端子側
    の辺の長さを、ゲート端子側の辺の長さと同等もしくは
    、それ以上とすることを特徴とする特許請求の範囲第1
    項記載の超伝導装置。 3 粒界ジヨセフソン接合を有する多結晶薄膜にBaP
    b_1−_xBi_xO_3(0.15<x≦0.35
    )を用い、電極端子としては超伝導電極材料を用いたこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第1項及び第2項記載の
    超伝導装置。
JP56199493A 1981-12-12 1981-12-12 超伝導装置 Expired JPS602797B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP56199493A JPS602797B2 (ja) 1981-12-12 1981-12-12 超伝導装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP56199493A JPS602797B2 (ja) 1981-12-12 1981-12-12 超伝導装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS58101481A JPS58101481A (ja) 1983-06-16
JPS602797B2 true JPS602797B2 (ja) 1985-01-23

Family

ID=16408724

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP56199493A Expired JPS602797B2 (ja) 1981-12-12 1981-12-12 超伝導装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS602797B2 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2641447B2 (ja) * 1987-05-13 1997-08-13 株式会社日立製作所 超電導スイツチング素子

Also Published As

Publication number Publication date
JPS58101481A (ja) 1983-06-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Mannhart High-transistors
US5729046A (en) Superconducting device having pinning regions
JPS602797B2 (ja) 超伝導装置
JP2501620B2 (ja) 超電導薄膜の作製方法
JPH0783144B2 (ja) 酸化物超伝導体を用いたジヨセフソン素子
JPS63308975A (ja) 電流制御素子
JPH02391A (ja) 超電導電界効果トランジスタ
JPH0272685A (ja) 超伝導弱結合部の形成方法
JP2599499B2 (ja) 超電導素子および作製方法
JP2641975B2 (ja) 超電導素子および作製方法
JP3323278B2 (ja) 超電導デバイスの製造方法
JPH01161880A (ja) 超電導素子
JPS6415988A (en) Superconducting device
Hirose et al. SNS weaklink junctions fabricated by nanometer lithography
JP2597745B2 (ja) 超電導素子および作製方法
JPS58101482A (ja) 超伝導デバイス
JPH03228381A (ja) 超電導素子
JP2730368B2 (ja) 超電導電界効果型素子およびその作製方法
JP3221037B2 (ja) 電流変調装置
JP2641971B2 (ja) 超電導素子および作製方法
JPH05343755A (ja) 超電導素子
JPH02292877A (ja) 酸化物超電導トランジスタ装置
JPH08222774A (ja) 超電導素子
Clark et al. Fabricating NIS tunnel junctions on single crystal superconducting substrate by a lithographic process
JPH05291632A (ja) 超電導接合構造体