JPS6026778B2 - オキシム誘導体の製造方法 - Google Patents

オキシム誘導体の製造方法

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JPS6026778B2
JPS6026778B2 JP1157076A JP1157076A JPS6026778B2 JP S6026778 B2 JPS6026778 B2 JP S6026778B2 JP 1157076 A JP1157076 A JP 1157076A JP 1157076 A JP1157076 A JP 1157076A JP S6026778 B2 JPS6026778 B2 JP S6026778B2
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芳雄 内山
幹雄 佐脇
正 中島
公一 早川
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Nippon Soda Co Ltd
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Nippon Soda Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】
本発明は一般式 (式中Rは水素原子または低級アルコキシカルポニル基
を、R,は低級アルキル基を、R2は低級アルキル基、
低級アルケニル基または低級アルキニル基を表わす。 )で示される化合物の製造方法に関するものであり、詳
しくは一般式(式中RおよびR,は前記と同一の意味を
表わす。 )で示されるオキシムに低級アルキルハラィド、低級ア
ルケニルハラィドまたは低級アルキニルハラィドを反応
せしめることを特徴とする前記一般式〔1〕で示される
化合物の製造方法および一般式(式中RおよびR,は前
記と同一の意味を表わす。 )で示される2ーアシル−3ーヒドロキシ−2ーシクロ
ヘキセンー1ーオンにアルカリの存在下にてヒドロキシ
ルアミンまたはその無機酸塩を反応せしめて得られる前
記一般式〔 0〕で示されるオキシムに低級アルキルハ
ラィド、低級アルケニルハライドまたは低級アルキニル
ハライドをアルカリの存在下に反応せしめることを特徴
とする前記一般式〔1〕で示される化合物の製造方法で
ある。本発明方法により得られる前記一般式〔1〕で示
される2一〔1ーアルコキシアミノ、アルケニルオキシ
アミノまたはアルキニルオキシアミノ)アルキリデシ〕
−5,5ージメチルシクロヘキサン−1,3−ジオンは
除草剤として有用であることが知られており(ドイツ公
開公報No.2439104)、本発明の目的とすると
ころは該化合物を高収率かつ工業的に有利に得ることで
ある。 本発明者らは該化合物を得る目的で種々検討を行ったと
ころ、前記一般式〔m〕で示される2ーアシルー3−ヒ
ドロキシー2ーシクロヘキセンー1−オンにヒドロキシ
ルアミンを反応せしめることにより、高収率でオキシム
〔 0〕を得ることご発見し、さらにこれに低級アルキ
ルハラィド、低級アルケニルハライドまたは低級ァルキ
ニルハラィドを反応せしめることにより目的とする化合
物1〕を有利に得ることに成功し、本発明を完成した。
本発明方法の実施に際しては一般式〔m〕で示される原
料化合物を水またはアルコール類などの有機溶媒、もし
くはこれらの混合溶媒中に溶解し、この溶液にカセィソ
ーダ、カセィカリなどのアルカリおよびヒドロキシルア
ミンまたはその無機酸塩を添加して反応せしめる。一般
式〔m〕で示される化合物としては次のものがあげられ
る。2−ブタノイルー5,5ージメチル−3ーヒドロキ
シー4−メトキシカルボニル−−2ーシクロヘキセンー
1−オン、2ープタノイルー5,5−ジメチル−4−エ
トキシカルボニルー3−ヒドロキシ−2−シクロヘキセ
ンー1ーオン、2−ブタノイル−5,5−ジメチル−3
−ヒドロキシー2ーシクロヘキセン−1−オン、5,5
ージメチル−3−ヒドロキシー4−メトキシカルボニル
ー2−プロピオニルー2−シクロへキセンー1ーオン、
5,5−ジメチルー4−エトキシカルボニル−3−ヒド
ロキシ−2−プロピオニル−2ーシクロヘキセンー1ー
オン、5,5ージメチルー3−ヒドロキシー2−プロビ
オニルー2−シクロヘキセン−1ーオン、またもう一方
の反応試薬であるヒドロキシルアミンは水溶液として、
また無水酸塩として用いられる。 無機酸塩としては塩酸塩、硫酸塩などが適当である。さ
らに、ヒドロキシルアミンを生成する物質例えば比N−
○−SO3HNaなども使用可能である。反応は冷却下
でも加熱下でもよく、加熱下では1〜数時間、冷却下に
おいては数時間以上を要することもある。 本発明方法においては反応系中に存在するルカリの量に
より副反応の発現が著しい場合もある。その場合の副生
成物としては閉環反応によるオキサゾール、ィソオキサ
ゾール誘導体など、前記一般式においてRが低級アルコ
キシカルボニル基を示す場合には脱カルボアルコキシ化
反応などが主なものである。本発明者らはこの反応条件
について種々検討したところ、アルカリの添加量が少な
い場合にはこれら副生成物の生成が多く、逆に多すぎる
場合には主反応速度が遅いことを見し、出した。 最適のアルカリ添加量は出発原料のモル数の当モルより
多く量、好ましくは反応系のpHが7より大が適当であ
る。反応後はアルカリ性下にて有機溶媒により未反応原
料、副生成物等の除去を行うことができ、水層を酸性に
することによりオキシム〔ロ〕結晶として得ることがで
きる。 以上の如くして得られたオキシム
〔0〕をアルコール、
アセトン、などの有機溶媒に溶かし、これにカセイソー
ダ、カセイカリなどのアルカリを添加してオキシム〔0
〕をアルカリ金属塩とする。 次いでエチルブロマイド、エチルクロライド等の低級ア
ルキルハラィド:アリルフロマイド、ァリルクロラィド
等の低級アルケニルハラィドまたはプロパギルブロマイ
ド、プロパギルクロライド等の低級アルキニルハラィド
を加え、室温もし〈は加溢して縄拝することにより目的
化合物〔1〕を得る。反応後は例えば反応混合物を大量
の水中に注入した後、有機溶媒による抽出などにより目
的化合物〔1〕を得る。 次に本発明方法を実施例において説明する。 実施例 12ーブタノイルー5,5ージメチル−3−ヒ
ドロキシー4ーメトキシカルボニル−2−シクロヘキセ
ン−1ーオン〔N〕13.処をエタノール40叫に溶か
し、31%カセィソーダ水溶液14.舷を加えた後、ヒ
ドロキシルアミン4.滋を水10の‘に溶かしたものを
加えた。この反応混合物を室温にて櫨梓下に1時間保ち
、次に5ぴ○前後に加溢して6時間蝿枠を続けた。反応
混合物をクロロホルムと振とう後、水層を分取し、これ
に澱塩酸を加えて酸性にして白色結晶の沈澱をみた。こ
の結晶を炉別してへキサンで洗浄して〔W〕のオキシム
1雌を得た。(m.p.110〜11ro)分解。 得られたオキシム2.83gを20の‘のアセントに溶
かし、26.6%カセィソーダ水溶液1.4衣を添加し
てアリルブロマィド1.45gを加えて室温で4時間燈
拝した。 反応混合物に水を加えてクロロホルム抽出、クロロホル
ム層をカセイソーダ水溶液で抽出、水層は塩酸性にした
後クロロホルム抽出した。同機にアルカリ抽出の水層を
も塩酸酸性とし、クロロホルム抽出した。クロロホルム
層を集め、クロ。ホルムを留去して、3gの2一〔1−
(アリルオキシアミノ)ブチリデン〕一5,5ージメチ
ルー4ーメトキシカルボニルシクロヘキサン−1,3−
ジオンを得た。(n奪う1.5114)。実施例 22
−ブタノイルー5,5ージメチル−3−ヒドロキシ−2
ーシクロヘキセンー1ーオン〔V〕10.5gをエタノ
ール50の‘に溶かし、水冷却下でこれにカセィソーダ
3.礎を水15の上に溶かしたもの、次いでヒドロキシ
ルアミン塩酸塩4.3gを水10の‘に溶かしたものを
滴下した。 室温下で2.5時間婿拝した後放置した。翌日クロロホ
ルムと振とう後、水層を分取して水層を酸折、次いでク
ロロホルムで出し、クロロホルムを留去して〔V〕のオ
キシム槌を得た。(m.p.115〜11がo)分解〜
;n.m.r.スペクトル61.05脚(s:細)、6
1.1肌(f:知日)、61.4‐1.9脚(m:が)
、62,4脚(s:凪)、62,8‐3.3胸(m:が
)、61.1脚(s:汎):i.r.スペクトル316
0仇‐lm、1590仇‐IS:得られたオキシム2.
処をァセトン21gに溶解し、これにカセィソーダ0.
4傘を水1.7gに溶かしたものを加えさらにアリルブ
ロマイド1.舷をアセトン4.舷に溶かしたものも加え
た。室温で3時間燈拝した後、アセトンを留去し水20
泌加えてクロロホルム抽出をした。クロロホルム層、水
層をそれぞれ実施例1に準じて処理し2.鰭の2−〔1
−(アリルオキシアミノ)ブチリデソ〕‐5,5ージメ
チルシクロヘキサンー1,3−ジオンを得た。(na/
ol.5092)実施例 3 実施例1で得られた2ーブタノイル−5,5−ジメチル
−3ーヒドロキシー4ーメトキシカルボニル−2−シク
ロヘキセンー1−オン〔W〕のオキシム4.25g(0
.015モル)をエタノール30の‘中に溶解した溶液
に、室温、燈梓下、苛性ソーダ0.6g(0.015モ
ル)を含むエタノール溶液20の‘を加え、次いでエチ
ルブロマイド3.27g(0.03モル)を約10分を
要して滴下。 そのま)室温で2独特間損梓を続けた後、減圧濃縮して
約15の【の残笹を100の‘の水に注加。26.6%
苛性ソーダ水溶液でpH11にした後、メチレンクロラ
ィド不溶物を抽出除去し、水層を澱塩酸で氷冷下中和し
、次いでメチレンクロラィドで抽出。 メチレンクロラィド抽出液を濃縮乾洞し、残澄にn−へ
キサン60の‘を加え、振とうして、nーヘキサン層を
傾斜して集め減圧濃縮乾個。残溶に屈折率n色2.21
.5005を有する3.腿の2一〔1一(エトキシアミ
/)ブチリデン〕一5,5ージメチルー4ーメトキシカ
ルボニルーシクロヘキサン−1,3−ジオンを得た。(
収率80%)。実施例 4苛性ソーダ舷(0.125モ
ル)を含む水溶液200地中に5,5ージメチル−3ー
ヒドロキシ−2ープロピオニルー2ーシクロヘキセンー
1−オン19.6g(0.1モル)を加える。 損梓下、50qoに保ちながらヒドロキシルアミン塩酸
塩13.班(0.2モル)を含む90のと水溶液と10
%苛性ソ−ダ水溶液をpH8.0〜9.0に保ちながら
同時滴下する。滴下時間約1時間を要した。後処理は実
施例1と同様にして分解点97.0〜97.5qoの白
色針状晶13.班(収率65%)の5,5ージメチルー
3ーヒドロキシ−2−(N−ヒドロキシプロピルイミド
イル)一2−シクロヘキセン−1−オン(オキシム体)
を得た。nーブロピルプロマイド3.7g(0.03モ
ル)を含むエタノール50の【溶液に、前に得られたオ
キシム体6.処(0.03モル)と苛性ソーダ1.舵(
0.038モル)を含む予め調製したエタノール溶液4
0の‘を室温、濃投下30分を要して滴下し、滴下終了
後も蝿拝、室温1時間、50o03時間反応せしめた後
、減圧濃縮して約i5の‘の残澄を100の‘の水に注
加。 26.6%苛性ソーダ水溶液でpH11にした後、メチ
レンクロライドで不溶液物を抽出除去し、水層を濃塩酸
で氷冷下中和し、次いでメチレンクロライドで抽出。 メチレンクロライド抽出液を濃縮乾溜し、残澄にn−へ
キサン50の‘を加え、振とうして、n−へキサン層を
傾斜して集め減圧濃縮乾溜し、屈折率n色251.49
96の2一(1−プロポキシアミノプロピリデン)一5
,5ージメチルシクロヘキサン−1,3ージオン6.3
gを得た。(収率82%)。実施例 5 実施例4と同機にして得られた5,5ージメチル−3ー
ヒドロキシ−2−(N−ヒドロキシプロピルイミドイル
)−2ーシクロヘキセン−1ーオン(オキシム体)5.
槌(0.025モル)をエタノール60肌に溶解した溶
液に、実施例4に準じて苛性ソーダ1.雄(0.03モ
ル)を含むエタノール溶液20の‘を加え、次いでブチ
ルブロマィド4.1gを反応せしめた後、同様に処理し
て屈折率nも9.ol.5021を有する2一(1−ブ
トキシアミノプロピリデン)一5,5−ジメテチルシク
ロヘキサン−1,3−ジオン4.難を得た。 (収率73%)実施例 6 5,5ージメチルー4ーエトキシカルボニル−2一(1
ーヒドロキシアミノブチリデン)ーシクロヘキサンー1
,3−ジオン1.5g(0.005hol)をエタノー
ル10の‘に溶解した溶液に、0℃、縄投下、40%苛
性ソーダ水溶液0.5の【を加え、反応液の温度を室温
にした後、鯛梓下、ョウ化メチルを滴下した。 滴下終了後も室温で4加持間蝿拝した。後処理は反応溶
液を5の‘に減圧濃縮後、水100Mを加え、さらに1
0%NaOH水でpH8.0〜8.5にしてメチレンク
。ラィドで不純物を抽出除去し、水層を濃塩酸で氷冷下
中和し、次いでメチレンクロラィド抽出。メチレンクロ
ラィド溶液を減圧濃縮乾固し、残澄にn−へキサン30
の‘を加え、振とうして、n−へキサン層を煩斜して集
め、減圧濃縮乾固して5,5ージメチルー4ーエトキシ
カルボニル−2−(1−メトキシアミノブチリデン)−
シクロヘキサン−1,3ージオン1.をを得た。(収率
80%)実施例 75,5ージメチル−4ーエトキシカ
ルポニル−2一(1ーヒドロキシアミノブチリデン)ー
シクロヘキサン‐1,3‐ジオンー,5g(0,00靴
ol)をエタノールlow‘に溶解した溶液に、0℃鯛
梓下、40%苛性ソーダ水溶液0.5の上を加え、反応
液の温度を5ぴ0にした後、縄梓下nーブチルプロマィ
ド0.7g(0.008hol)を滴下した。 滴下終了後、5000で3時間婿拝して、反応を終了さ
せた。後処理は実施例6と同様にして行ない、2一(1
−ブトキシアミノプチリデン)一5,5ージメチルー4
ーエトキシカルボニルシクロヘキサンー1,3ージオン
13.1gを得た。(収率74%)なお、本発明に係る
原料化合物及び反応生成物はドイツ公開公報舷.243
9104からも明らかなように次の互変異性体が考えら
れる。 【11

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中Rは水素原子または低級アルコキシカルボニル基
    を、R_1は低級アルキル基を示す。 )で表わされる化合物に一般式R_2X(式中R_2は
    低級アルキル基、低級アルケニル基または低級アルキニ
    ル基を、Xはハロゲン原子を示す。 )で表わされる化合物をアルカリの存在下に反応せしめ
    ることを特徴とする一般式▲数式、化学式、表等があり
    ます▼ (式中R,R_1およびR_2は先に定義したものと同
    一の意味を有する。 )で表わされる化合物の製造方法。2 アルカリが水酸
    化ナトリウムである特許請求の範囲第1項記載の製造方
    法。3 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中Rは水素原子または低級アルコキシカルボニル基
    を、R_1は低級アルキル基を示す。 )で表わされる化合物にヒドロキシルアミンまたはその
    無機酸塩をアルカリの存在下に反応せしめて得られる一
    般式▲数式、化学式、表等があります▼ (式中RおよびR_1は先に定義したものと同一の意味
    を有する。 )で表わされる化合物に、さらに一般式R_2X(式中
    R_2は低級アルキル基、低級アルケニル基または低級
    アルキニル基を、Xはハロゲン原子を示す。 )で表わされる化合物をアルカリン存在下で反応せしめ
    ることを特徴とする一般式▲数式、化学式、表等があり
    ます▼ (式中R、R_1およびR_2は先に定義したものと同
    一の意味を有する。 )で表わされる化合物の製造方法。4 アルカリが水酸
    化ナトリウムである特許請求の範囲第3項記載の製造方
    法。
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