JPS6025747U - 真空蒸着用マスク - Google Patents

真空蒸着用マスク

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Publication number
JPS6025747U
JPS6025747U JP11770783U JP11770783U JPS6025747U JP S6025747 U JPS6025747 U JP S6025747U JP 11770783 U JP11770783 U JP 11770783U JP 11770783 U JP11770783 U JP 11770783U JP S6025747 U JPS6025747 U JP S6025747U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mask
evaporation source
conductor plate
thermal conductor
vacuum evaporation
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP11770783U
Other languages
English (en)
Inventor
沢田　茂友
Original Assignee
富士通株式会社
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Filing date
Publication date
Application filed by 富士通株式会社 filed Critical 富士通株式会社
Priority to JP11770783U priority Critical patent/JPS6025747U/ja
Publication of JPS6025747U publication Critical patent/JPS6025747U/ja
Pending legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Magnetic Heads (AREA)
  • Thin Magnetic Films (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は従来の蒸着用マスクを用いた真空蒸着装置の模
式図、第２図は本考案の第１の実施例の蒸着用マスクを
基板下に取りつけた状態を示す模式図、第３図は本考案
の第２の実施例の蒸着用マスクを基板下に取りつけた状
態を示す模式図である。 図に於いて、１は蒸着源、２は蒸着源収容容器、３は基
板、４，１１は蒸着用マスク、５は容器、６は排気口、
７はパターン、１２．２１は熱の良導体板、１３は熱の
不良導体板、１４は支持台、１５はピン、１６は固定具
台を示す。

Claims (2)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. （１）対向配置された蒸発源と基板との間に介在して該
    蒸発源の成分を基板上に所定のパターンで被着させるマ
    スクに於いて、前記蒸発源側の面に前記パターン用孔に
    対応した孔を有する熱の不良導体を、付設してなること
    を特徴とする真空蒸着用マスク。
  2. （２）　　前記熱の不良導体板の蒸発源側面には、パタ
    ーン用孔に対応した孔を有する熱の良導体板が設けられ
    、核熱の良導体板がマスク支持体に接触して固定されて
    いることを特徴とする実用新案登録請求の範囲第（１）
    項に記載の真木蒸着用マスク。
JP11770783U 1983-07-27 1983-07-27 真空蒸着用マスク Pending JPS6025747U (ja)

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JP11770783U JPS6025747U (ja) 1983-07-27 1983-07-27 真空蒸着用マスク

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JP11770783U JPS6025747U (ja) 1983-07-27 1983-07-27 真空蒸着用マスク

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JPS6025747U true JPS6025747U (ja) 1985-02-21

Family

ID=30270851

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JP11770783U Pending JPS6025747U (ja) 1983-07-27 1983-07-27 真空蒸着用マスク

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JP (1) JPS6025747U (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014214366A (ja) * 2013-04-26 2014-11-17 コニカミノルタ株式会社 プラズマｃｖｄ成膜用マスク、プラズマｃｖｄ成膜方法、及び有機エレクトロルミネッセンス素子
JP2014214367A (ja) * 2013-04-26 2014-11-17 コニカミノルタ株式会社 プラズマｃｖｄ成膜用マスク、プラズマｃｖｄ成膜方法、及び有機エレクトロルミネッセンス素子

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014214366A (ja) * 2013-04-26 2014-11-17 コニカミノルタ株式会社 プラズマｃｖｄ成膜用マスク、プラズマｃｖｄ成膜方法、及び有機エレクトロルミネッセンス素子
JP2014214367A (ja) * 2013-04-26 2014-11-17 コニカミノルタ株式会社 プラズマｃｖｄ成膜用マスク、プラズマｃｖｄ成膜方法、及び有機エレクトロルミネッセンス素子

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