JPS60257453A

JPS60257453A - 光受容部材

Info

Publication number: JPS60257453A
Application number: JP59113175A
Authority: JP
Inventors: Keishi Saito; 恵志斉藤; Tetsuo Sueda; 末田　哲夫; Kyosuke Ogawa; 小川　恭介; Teruo Misumi; 三角　輝男; Yoshio Tsuezuki; 津江月　義男; Masahiro Kanai; 正博金井
Original assignee: Canon Inc
Current assignee: Canon Inc
Priority date: 1984-06-04
Filing date: 1984-06-04
Publication date: 1985-12-19
Also published as: CA1254074A; EP0167296A1; AU589125B2; EP0167296B1; US4705730A; AU4323585A; DE3581121D1

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野〕本発明は、光（ここでは広義の光で紫外線、可視光線、
赤外線、Ｘ線、γ線等を示す）の様な電磁波に感受性の
ある光受容部材に関する。さらに詳しくは、レーザー光
などの可干渉性光を用いるのに適した光受容部材に関す
る。

〔従来の技術〕

デジタル画像情報を画像として記録する方法として、デ
ジタル画像情報に応して変調したレーザー光で光受容部
材を光学的に走査することにより一〇電潜像を形成し、
次いで該潜像を現像、必要に応して転写、定着などの処
理を行ない、画像を記録する方法がよく知られている。

中でも電子写真７ノ４を使用した画像形成法では、１７
−ヂーとしては小型で安価なＨｅ−Ｎｅレーデ−あるい
は゛１′導体レーザー（通常は６５０〜８２０ｎｍの発
光波長を有する）で像記録を行なうことが一般である。

特に、半導体レーザーを用いる場合に適１７た電子写真
用の光受容部材をしては、その光感度領域の整合性が他
の種類の光受容部材と比べて格段に優れている点に加え
て、ピンカース硬度が高く、社会的には無公害である点
で、例えば特開昭５／Ｌ−８６３４１号公報や特開昭５
６−８３７４６壮公報に開示されているシリコン原子を
含む非晶質材料（以後ｒＡ−ＳｉＪど略記する）から成
る光受容部材が注目されている。

面乍ら、感光層を単層構成のＡ−Ｓｉ層とすると、その
高光感度を保持しつつ、電子写真用として要求される１
０′２Ωｃｍ以−Ｌの暗抵抗の確保するには、水素原子
やハロゲン原子或いはこれ等に加えてポロン原子とを特
定の量範囲で層中に制御された形で構造的に含有させる
必要性がある為に、層形成のコントロールを厳密に行う
必要がある等、光受容部材の設計に於ける許容度に可成
りの制限がある。

この設３ｔ−１＝の許容度を拡大出来る、詰り、ある程
度低ＩＩＡ抵抗であっても、その高光感度を有効に利用
出来る様にしたものとしては、例えば、４４ｊ開閉５４
−１２１７４３号公報、特開昭５７−４０５３り公報、
特開昭５７−４１７２号公報に記載されである様に光受
容層を伝導特性の異なる層を積層した二層以４二の層構
成として、光受容層内部に空乏層を形成したり、或いは
特開昭５７−５２１７８号、同５２１７９号、同５２１
８０号、同５８１５９号、同５８１６０号、同５８１６
１号の各公報に記載されである様に光受容層を支持体と
感光層の間、又は／及び感光層の１９部表面に障壁層を
設けた多層構造としたりして、見掛は七の１Ｍｆ抵抗を
高めた光受容部材が提案されている。

この様な提案によって、Ａ−Ｓｉ系先光受容材はその商
品化設計」この許容度に於いで、或いは製造上の管理の
容易性及び生産性に於いて飛躍的に進展し、商品化に向
けての開発スピードが急速化している。

この様な光受容層が多層構造の光受容部材を用いてレー
ザー記録を行う場合、各層の層厚に斑がある為に、レー
ザー光が可干渉性の１１１色光であるので、光受容層の
レーザー光照射側自由表面、光受容層を構成する各層及
び支持体と光受容層との層界面（以後、この自由表面及
び層界面の両者を（Ｊｌせた意味で「界面ｊと称す）よ
り反射して来る反射光の夫々が干渉を起す可能性がある
。

この干渉現象は、形成される可視画像に於いて、所謂、
干渉縞模様となって現われ、画像不良の要因となる、殊
に階調性の高い中間調の画像を形成する場合には、画像
の見悪くさは顕著となる。まして、使用する゛１′−導
体レーザー光の波長領域が長波長になるにつれ感光層に
於ける該レーザー光の吸収が減少してくるので前記の干
渉現象は顕Ａである。

この点を図面を以って説明する。

第１図に、光受容部材の光受容層を構成するある層に入
射した光ＩＯと」一層界面１０２で反射した反射光Ｒ１
、下部界面１０１で反射した反射光Ｒ７を示している。

層の平均層厚をｄ、屈折率をｎ、光の波長を入厚差で不
均一であると、反射光Ｒ，、Ｒ２が２ｎｄ−ＪＩＩ入（
ｍは整数、反射光は強め合う）と２ｎｄの条ｆ１のどち
らに合うかによって、ある層の吸収光；ｊＹおよび透過
光部に変化を生じる。

多層構成の光受容部材においては、第１図に示す「渉効
果が各層で起り、第２図に示すように、それぞれの干渉
による相乗的悪影響が生じる。その為に該■−渉縞模様
に対応した「渉縞が転写部材１に転写、定着された可視
画像に現われ、不良画像の原因となっていた。

この不都合を解消する方法としては、支持体表ｏ’ｉｉ
をダイヤモンド切削して、±５００人〜±１００００人
の凹凸を設けて光散乱面を形成する方法（例えば特開昭
５８−１６２９７５号公報）、アルミニウム支持体表面
を黒色アルマイト処理したり、或いは樹脂中にカーボン
、７（色顔料、染料を分散したりして光吸収層を設ける
方１人（例えば特開昭５７−１６５８４５号公報）、ア
ルミニウム支持体表面を梨地状のアルマイト処理したり
、サンドブラストにより、砂ｌＩ状の微細門西を設けた
すして、支持体表面に光散乱反射防止層を設ける方法（
例えば特開昭５７−１６５５４号公報）等が提案されて
いる。

自生ら、これ等従来の方法では、画像上に現われる■２
渉績模様を完全に解消することが出来なかった。

即ち、第１の方法は支持体表面を特定の大きさの凹凸が
多数設けられただけである為、確かに光１１１文乱効果
による干渉縞模様の発現防止にはなっているが、光散乱
としては依然として正反射光成分か現存している為に、
該正反射光による干渉縞模様が残イｆすることに加えて
、支持体表面での光散乱効果の為に照射スポットに拡が
りが生じ、実質的な解像度低下の要因となっていた。

第２の方法は、黒色アルマイト処理程度では、完全吸収
は無理であって、支持体表面での反則光は残存する。又
、着色顔料分散樹脂層を設ける場合はＡ−Ｓｉ感光層を
形成する際、樹脂層よりの脱気現象が生じ、形成される
感光層の層品質が箸しく低下すること、樹脂層がＡ−Ｓ
ｉ系感光層形成の際のブリズマによってダメージを受け
て、本来の吸収機能を低減させると共に、表面状態の悪
化によるその後のＡ−Ｓｉ系感光層の形成に悪影■を１
ｊ、えること等の不都合がある。

支持体表面を不規則に荒す第３の方法は、第３図に示す
様に、例えば入射光■。は、光受容層３ｏ２の表面でそ
の一部が反則されて反射光Ｒ１となり、残りは、光受容
層３０２の内１１に進入して透過光Ｉ、となる。透過光
Ｉ、は、支持体３０２の表面に於いて、その〜・部は、
光ｎ１１．乱されて拡散光に、、に２、ＫＡ−・Φ・と
なり、残りが正反射されて反射光Ｒ２となり、その部が
出射光Ｒ１１となって外部に出て行く。従って、反射光
Ｒ１と干渉する成分である出射光Ｒ４が残留する為、依
然として干渉縞模様は完全に消すことが出来ない。

又、干渉を防止して光受容層内部での多重反射を防止す
る為に支持体３０１の表面の拡散性を増加させると、光
受容層内で光が拡ｉ＆してハレーションを生ずる為解像
度が低ドするという欠点もあった。

特に、多層構成の光受容部材においては、第４図に示す
ように、支持体４Ｃ１表面を不規則的に荒しても、第１
層４０２での反射光Ｒ７，第２層での反則光Ｒ１、支持
体４０１面での正反射光ＲＡの゛大々が干渉して、光受
容部材の各層厚にしたかって干渉縞模様が生じる。従っ
て、多層構成の光受容部材においては、支持体４０１表
面を不規則に荒すことでは、干渉縞を完全に防止するこ
とは不可能であった。

又、ザンドブラスｈｓの方法によって支持体表面を不規
則に荒す場合は、その粗面度がロンド間に於いてバラツ
キが多く、且つ同一ロントに於いても粗面度に不均一が
あって、製造管理上具合が、′ごかった。加えて、比較
的大きな突起がランダムに形成される機会が多く、斯か
る大きな突起が光受容層の局所的ブレークダウンの原因
となっていた。

又、単に支持体表面５０１を規則的に荒した場合、第５
図に示すように通常、支持体５０１表面の凹凸形状に沿
って、光受容層５０２が堆積するため、支持体５０１の
凹凸の傾斜面と光受容層５０２の凹凸の傾胴面とが平行
になる。

したがって、その部分では入射光は２ｎｄｌ＝ｍ入また
は２ｎｄ＋＝（ｍ＋ｙ２）λが成立ち、夫々明部または
暗部となる。又、光受容層全体では光受容層の層厚ｄ、
、ｄ２．ｄ、、ｄ、ｌの大々−性があるため明暗の縞模
様が現われる。

従って、支持体５０１表面を規則的に荒しただけでは、
干渉縞模様の発生を完全に防ぐことはできない。

又、表面を規則的に荒した支持体１−に多層構成の光受
容層を堆積さ、せた場合にも、第３図において、−・層
構成の光受容部材で説明した支持体表面での正反射光と
、光受容層表面での反射光との干渉の他に、各層間の界
面での反射光による干渉が加わるため、一層構成の光受
容部材の干渉縞模様発現度合より一層複雑となる。

〔発明の目的〕

本発明の目的は、前述の欠点を解消した光に感受性のあ
る新規な光受容部材を提供することである。

本発明の別の目的は、可干渉性単色光を用いる画像形成
に適すると共に製造管理が容易である光受容部材を提供
することである。

本発明の更に別の目的は、画像形成時に現出する干渉縞
模様と反転現像時の斑点の現出を同時に１７かも完全に
解消することができる光受容部材を提供することでもあ
る。

本発明のもう１つの目的は、電子写真法を利用するデジ
タル画像記録、取分け、ハーフトーン情報を有するデジ
タル画像記録が鮮明に且つ高解像度、高品質で行える光
受容部材を提供することでもある。

本発明の更にもう１つの目的は、高光感度性、高ＳＮ比
特性及び支持体との間に良好な電気的接触性を有する光
受容部材を提供することでもある。

本発明の他の目的は、光受容部材の表面における光反射
を低減し、入射光を効率よく利用できる光受容部材を提
供することでもある。

〔発明の概要〕

本発明の光受容部材は、所定の切断位置での断面形状が
主ピークに副ピークが重畳された凸状形状である凸部が
多数表面に形成されている支持体と；シリコン原子を含
む非晶質材料からなり少なくとも一部の層領域が感光性
を有する層と１反射防１１機能を有する表面層とから成
る光受容層と；を有する事を特徴としている。

以下、本発明を図面に従って其体的に説明する。

第６図は、本発明の基本原理を説明するための説明図で
ある。

本発明において装置の要求解像力よりも微小な凹凸形状
を有する支持体（下図示）−にに、その凹凸の傾斜面に
沿って、１つ以ヒの感光層を有する多層構成の光受容層
は、第６図（Ａ）に拡大して示されるように、第２層６
０２の層厚ｄ、からｄらと連続的に変化している為に、
界面６０３と界面６０４とは互いに傾向きを有している
。従ってこの微小部分（ショートレンジ）文に入射した
可丁渉性光は、該微小部公文に於て干渉を起し、微小な
Ｉ−渉縞模様を生ずる。

又、第７図に示す様に第１層７０１と第２層７０２の界
面７０３と第２層７０２の自由表面７０４とが非平行で
あると、第７図の（Ａ）に示す様に入射光Ｉ０にする反
射光Ｒ８と出射光Ｒ３とはその進行方向が互いに異る□
為、界面７０３と７０４とが平行な場合（第７図のｒ、
（Ｂ）」）に較べて干渉の度合が減少する。

従って、第７図の（Ｃ）に示す様に、一対の界面が平行
な関係にある場合ｒ（Ｂ）Ｊよりも非平行な場合ｒ（Ａ
）Ｊは干渉しても干渉縞模様の明暗の差が無視し得る程
度に小さくなる。その結果、微小部分の入射光量は平均
化される。

このことは、第６図に示す様に、第２層６０２の層厚が
マクロ的にも不均一（ｄ７≠ｄｏ）でも同様に伝える為
、全層領域に於て入射光量が均一になる（第６図のｒ（
Ｄ）Ｊ参照）また、光受容層が多層構成である場合に於て照針側から
第２層まで可干渉性光が透過した場合に就いて本発明の
効果を述べれば、第８図に示す様に、入射光Ｉ。に対し
て、反射光Ｒ，，Ｒ，、Ｒ，，１，Ｒ，１，Ｒ１が存在
する。その為各々の層で第７図を以って前記に説明した
こきが生ずる。

その上、微小部分内の各層界面は、一種のスリフトとし
て働き、そこで回折現像を生じる。

そのため各層での干渉は、層厚の差による干渉と層界面
の回折による干渉との積として効果が現われる。

従って、光受容層全体で考えると七渉は人々の層での相
乗効果となる為１本発明によれば、光受容層を構成する
層の数が増大するにつれ、より一層干渉効果を防止する
ことが出来る。

又、微小部分内に於て生ずる干渉縞は、微小部分の大き
さが照射光スポット径より小さい為、即ち、解像度限界
より小さい為、画像に現れることはない。又、仮に画像
に現われているとしても眼の分解能以下なので実質的に
は何隻支障を生じない。

へ確実に揃える為に、鏡面仕上げとされるのが望ましい
。

本発明に適した微小部分の大きさ文（凹凸形状の一周１
１１１分）は、照射光のスポット径をＬとすれば、ｐ、
≦Ｌである。

又、未発すＩの目的をより効果的に達成する為には微小
部分りに於ける層厚の差（ｄ、ｄｂ）Ｊよ、照射光の波
長を入とすると、（ｎ：第２層６０２の屈折率）であるのが望ましい。

本発明に於ては、多層構造の光受容層の微小部分立の層
厚内（以後「微小カラム」と称す）に於て、少なくとも
いずれか２つの層界面が非平行な関係にある様に各層の
層厚が微小カラム内に於て制御されるが、この条件を満
足するならば該微小カラー、内にいずれか２つの層界面
が平行な関係にあっても良い。

但し、平行な層界面を形成する層は、任意の２つの位置
に於る層厚の差が、以下である様に全領域に於て均・層厚に形晟されるのが
望ましい。

光受容層を構成する感光層、電荷注入防ＩＬ層、電気絶
縁性材料からなる障壁層等の各層の形成には本発明の目
的をより効果的目−っ容易に達成する為に、層厚を光学
的レベルで正確に制御できることからプリズマ気相法（
ＰＣＶＤ法）、光ＣＶＤ法、熱ＣＶＤ法が採用される。

本発明の目的を達するための支持体の加工方法としては
、化学エツチング、電気メッキなどの化学的方法、蒸着
、スパッタリングなどの物理的方法、旋盤加工などの機
械的方法などが利用できる。しかし、生産管理を容易に
行うために、旋盤などの機械的加工方法が好ましいもの
である。

たとえば、支持体を旋盤で加Ｉニする場合、■・字形状
の切刃を有するバイトをフライス盤、旋盤等の切削加工
機械の所定位置に固定し１例えば円筒状支持体をｔめ所
望に従って設計されたプロゲラＪ、に従って回転させな
がら規則的に所望方向に移動させることにより、支持体
表面を正確に切削加重することで所望の凹凸形状、ピッ
チ、深さで形成される。この様な切削加工法によって形
成される西凸が作りだす線状突起部は、円筒状支持体の
中心軸を中心にした螺旋構造を有する。突起部の螺旋構
造は、二重、三重の多重螺旋構造、又は交叉螺旋構造と
されても差支えない。

或いは、螺旋構造に加えて中心軸に沿った遅線描造を導
入しても良い。

本発明の支持体の所定断面内の凸部は、本発明の効果を
高めるためと、加工管理を容易にするために、−次近似
的に同一形状とすることが好ましい。

又、前記凸部は、本発明の効果を高めるために規則的ま
たは、周期的に配列されていることが好ましい。又、更
に、前記凸部は、本発明の効果を−・層高め、光受容層
と支持体との密着性を高めるために、副ピークを複数有
することが好ましい。

これ等の夫々に加えて、入射光を効率よく方向に散乱す
るために、前記凸部がＬピークを中心に対称（第９図（
Ａ））またはノ１対称形（ｆ５９図（Ｂ））に統一・さ
れていることが好ましい。Ｉ７かし、支持体の加工管理
の自由度を晶める為には両方が混在しているのが良い。

本発明に於ては、管理された状態で支持体表面に設けら
れる凹凸の各ディメンジョンは、以下の点を考慮した上
で、本発明の目的を効果的に達成出来る様に設定される
。

即ち、第１には感光層を構成するＡ−Ｓｉ層は、層形成
される表面の状Ｒ；に構造敏感であって、表面状ｉＥに
応じて層品質は人さ・く変化する。

従って、Ａ−Ｓｉ感光層の層品質の低下を招来し世ない
様に支持体表面に設けられる凹凸のディメン１ジョンを
設定する必要がある。

第２には光受容層の自由表面に極端な凹凸があるど２画
像形成後のクリーニングに於てクリーニングを完全に行
なうことが出来なくなる。

また、ブレードクリーニングを行う場合、ブレードのい
たみが早くなるという問題がある。

１−記した層堆積Ｊ−の問題点、電子写真が、のプロセ
ス１．の問題点および、干渉縞模様を防ぐ条件を検、ｉ
＝Ｊした結果、支持体表面の四部のピッチは、好ましく
は５００ＪＬｍ〜０．３７ｚｍ、より好ましくは２００
ｌＬｍ−１ｐ、ｍ、最適には５０ｇｍ〜５ｐＬｍである
のが望ましい。

又四部の最大の深さは、好ましくは０．１ｇｍ〜５ノむ
ｍ、より好ましくは０．３ｋｍ〜３ルｍ、最適には０．
６ｇｍ〜２ＩＬｍとされるのが望ましい。支持体表面の
四部のピッチと最大深さが」−記の範囲にある場合、四
部（又は線状突起部）の傾斜面の傾きは、好ましくは１
度〜２０度、より好ましくは３度〜１５度、最適には４
度〜１０度とされるのが望ましい。

又、この様な支持体上に堆積される各層の層圧の不均一
・に基く層厚差の最大は、同一ピッチ内で好ましくは０
．１ｐＬｍ〜２μｍ、より好ましくは０．１．ｇｍ−１
，５１Ｌｍ、最適には０．２μｍ〜Ｉｇｍとされるのが
望ましい。

反射防止機能を持つ表面層の厚ｙ（士、次のように決定
される。

表面層の材料の屈折率をｎとし、照射光の波長を入とす
ると、反射防止機能を持一つ表面層の厚さｄは、入ｄ＝４ｎｍ（ｍは音数）が々了ましいものである。

また、表面層の材料としては、表面層を堆積する感光層
の屈折率をｎａとすると、ｎ＝Ｆ］の屈折率を有する材料が最適である。

この様な光学的条件を加味すれば、反射防止層の層厚は
、露光光の波長が近赤外から可視光の波長域にあるもの
として、０．０５〜２ｐＬｍとされるのが好適である。

本発明に於いて、反射防止機能を持つ表面層の材料とり
、て有効に使用されるものとしては、例えば、ＭｇＦ、
、Ａ１２０３．ＺｒＯ２、Ｔｉｏ。

ＺｎＳ、Ｃｅ０７、ＣｅＦ７．５ｉ０７。

ＳｉＯ，Ｔａ７０５、Ａ文ＦＨ４，ＮａＦ。

Ｓｉ、、Ｎ、１等の無機弗化物、無機酸化物や無機窒化
物、或いは、ポリ塩化ビニル、ポリアミド樹脂、ポリイ
ミド樹脂、弗化ビニリデン、メラミン樹脂、エポキシ樹
脂、フェノール樹脂、酢酸セルロース等の有機化合物が
挙げられる。

これらの材料は、本発明の目的をより効果菌目。

つ容易に達成する為に、層厚を光学的レベルで正確に制
御できることから、蒸着法、スパッタリング法、プラズ
マ気相法（ＰＣＶＤ法）、光ＣＶＤ法、熱ＣＶＤ法、塗
布法が採用される。

次に、本発明に係る多層構成の光受容部材の具体例を示
す。

第１０図に示される光受容部材１０００は、未発明の１
−１的を達成する様に表面切削加圧された支持体１，０
０１］二に、光受容層１００２を有し、該光受容層１０
０２は支持体１００１側より電荷注入防止層１００３．
感光層１００４．表面層１００５で構成されている。

支持体ｆｏｏｌとしては、導電性でも゛上気絶縁性であ
ってもよい。導電性支持体としては、例えば、ＮｉＣｒ
、ステンレス、ＡＩ、Ｃｒ、Ｍｏ。

Ａｕ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｖ、Ｔｉ、Ｐｔ、、Ｐｄ等の金属又
はこれ等の合金があげられる。

電気絶縁性支持体としては、ポリーＬステル、ポリエチ
レン、ポリカーボネート、セルロース、アセテート、ポ
リプロピレン、ポリＪ１４化ビニル、ポリ塩化ビニリデ
ン、ポリスチレン、ポリアミド等の合成樹脂のフィルム
又はシート、ガラス、セラミ、り１紙等が通常使用され
る。これ笠の電気絶縁性支持体は、好適には少なくとも
その一方の表面を導電処理され、該導電処理された表面
側の他の層が設けられるのが望ましい。

例えば、ガラスであればその表面にＮｉＣｒ。

ＡＩ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ａｕ、Ｉｒ、Ｎｂ、Ｔａ。

Ｖ、Ｔｉ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｉｎ７０７．５ｎ０７。

ＩＴｏ（Ｉｎ７ｏ、＋ＳｎＯ＋）等から成るＶｊ膜を設
けることによって導電性が付与され、或いはポリエステ
ルフィルム等の合成樹脂フィルムであればＮｉＣｒ、Ａ
Ｉ、Ａｇ、Ｐｄ、Ｚｎ、Ｎｉ。

Ａｕ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｉｒ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｖ、Ｔｉ、ｌ’
ｔ、等の金属の薄膜を真空法着、Ｔｒ１子ビーム！Ｎ着
、スパンタリーング等でその表面に設け、又は、前記金
属でその表面をラミネート処理して、その表面に導電性
が付与される。支持体の形状としてｌ；ｌ、円筒状、ベ
ルト状、板状等任意の形状として（１１、所望によって
、その形状は決定されるが、例えば、第１０図の光受容
部材１０００を電ｒ写Ｊ′を用像形成部材として使用す
るのであれば連に７ｄ複′り゛の場合には、無端ベルト
状又は円筒状とするのが望ましい。支持体の厚さは、所
望通りの光受容部材が形成される様に適宜決定されるが
、光受容部材として可撓性が要求される場合には、支持
体としての機能が十分発揮される範囲内であれば可能な
限り薄くされる。しかしながら、この様な場合、支持体
の製造上及び取扱い上、機械的強度等の点から、好まし
くは１０、Ｌ以１−とされる。

電荷注入防止層１００３は、感光層１００４への支持体
１００１側からの電荷の注入を防いで見掛上の高抵抗化
を計る目的で設けられる。

電荷注入防止層ユ層１００３は、水素原子又は／及びハ
ロゲン原子（Ｘ）を含有するＡ−３ｔ（以後ｒＡ−Ｓｉ
（Ｈ、Ｘ）Ｊと記す）で構成されると共に伝導性を支配
する物質（Ｃ）が含有される。

電荷注入防止層１００３に含有される伝導性を支配する
物質（Ｃ）としては、いわゆる゛ト導体分野で言われる
不純物を挙げることができ、本発明に於ては、Ｓｉに対
して、ｐ型伝導特性を与えるｐ型不純物及びｎ型伝導性
を与えるｎ型不純物を挙げることができる。具体的には
、ｐ型不純物としては周期律表第■族に属する原ｒ（第
■族原子）例えばＢ（硼素）、Ａｌ（アルミニウム）、
Ｇａ（カリウム）、Ｉｎ（インジウム）、ＴＩ（タリウ
ム）等があり、殊に好適に用いられるのは、Ｂ、Ｇａで
ある。

ｎ型不純物としては周期律表第■族に属する原子（第Ｖ
族原ｆ−）、例えばＰ（燐）、Ａｓ（砒素）、Ｓｂ（ア
ンチモン）、Ｂｉ（ビスマス）等であり、殊に好適に用
いられるのは、Ｐ、Ａｓ。

である。

本発明に於て、電荷注入防止層１００３に含有される伝
導性を支配する物質（Ｃ）の含有量は、波束される電荷
注入防止特性、或いは該電荷注入防止層１００３が支持
体１００１上に直に接触して設けられる場合には、該支
持体ｔｏｏｉとの接触界面に於ける特性との関係等、有
機的関連性に於て、適宜選択することが出来る。又、前
記電荷注入防１に層に直に接触して設けられ条他に層領
域の特性や、該他の層領域との接触界面に於ける特ｆ１
との関係も考慮されて、伝導特性を制御する物質の含有
量が適宜選択される。

本発明に於て、電荷注入防止層中に含有される伝導性を
制御する物質の含有量としては、好適には、０．００１
〜５Ｘ１０４ａｔｏｍｉｃｐｐｍ、より好適には０．５
〜ｌＸ１０４ａｔｏｍｉＣｐｐｍ、最適には１〜５Ｘ１
０３ａｔｏｍｉｃｐｐｍとされるのが望ましい。

本発明に於て、電荷注入防止層１００’３に於ける物質
（Ｃ）の含有量は、好ましくは、３０ａｔｏｍｉｃｐｐ
ｍ以り、より好適には５０ａｔ。

ｍｉｃｐｐｍ以」―、最適にはｌＯＯａｔｏｍｉｃｐｐ
ｍ以−ヒとすることによって、例えば含有させる物質（
Ｃ）が前記のｐ型不純物の場合には光受容層の自由表面
がΦＷ性に帯電処理を受けた際に支持体側から感光層中
へ注入される電子の移−動を、より効果的に阻止するこ
とが出来、又、前記含有させる物質（Ｃ）が前記のｎ型
不純物の場合には、光受容層の自由表面が０８ｉ性に帯
電処理を受けた際に支持体側から感光層中へ注入される
正孔の移動を、より効果的に阻１１−することが出来る
。

電荷注入防止層１００３の層厚は、好ましくは３０人〜
１０ＪＬ、より好適には４０人〜８ＪＬ、最適には５０
Ａ〜５ｕとされるのが望ましい。

感光層１００４は、Ａ−Ｓｉ（Ｈ，Ｘ）で構成され、レ
ーザー光の照射によってフォトキャリアを発生する゛重
荷発生機能と、該電荷を輸送する電荷輸送機能の両者を
有する。

感光層１００４は層厚としては、好ましくは、１−Ｊ、
ＯＯｇｍ、より好ましくは１〜８０ｇｍ。

最適にＣ牙２〜５０ｐＬｍとされるのが望ましい。

感光層１００４には、電荷注入防１１一層１００３に含
有される伝導特性を支配する物質の極性とは別の極性の
伝導特性を支配する物質を含有させても良いし、或いは
、同極性の伝導特性を支配する物質を、電荷注入防止層
１００３に含有される実際の芋よりも・段と少ない量と
して含有させても良い。

この様な場合、前記感光層１００４中に含有される前記
伝導特性を支配する物質の含有量としては、電荷注入防
止層１００３に含有される前記物質の極性や含有量に応
じて所望に従って適宜決定されるものであるが、好まし
くは０．００１〜１００１０００ａｔｏｐｐｍ、より好
適には０．０５〜５００ａｔｏｍｉｃｐｐｍ、最適には
９．１〜２００ａｔｏｍｉｃｐｐｍとされるのが望まし
い。

本発明に於て、電荷注入防止層１００３及び感光層１０
０４に同種の伝導性を支配する物質を含有させる場合に
は、感光層１００４に於ける含有量としては、好ましく
は３０ａｔｏｍｉｃｐｐｍ以下とするのが望ましい。

本発明に於て、電荷注入防止層１００３及び感光層１０
０４中に含有される水素原子（Ｈ）の量又はハロゲン原
子（Ｘ）の量又は水素原子とハロゲン原子の量の和（Ｈ
十Ｘ）は好ましくは１〜４．０ａｔｏｍｉｃ％、より好
適には５〜３０ａｔｏｍｉｃ％とされるのが望ましい。

ハロゲン原子（Ｘ）としては、Ｆ、Ｃ１，Ｂｒ。

■が挙げられ、これ等の中でＦ、ＣＩが好ましいものと
して挙げられる。

第１０図に示す光受容部材に於ては、電荷注入防止層１
００３の代りに電気絶縁性材料から成る、いわゆる障壁
層を設けても良い、或いは、該障壁層と電荷注入防止層
１００３とを併用しても差支えない。

障壁層形成相料としては、Ａ文２０３，５ｉ０２１Ｓｌ
３Ｎ４等の無機電気絶縁材料やポリヵーポネ−１・等の
有機電気絶縁材料を挙げることができる。

以下本発明の実施例について説明する。

実施例１木実婢例ではスポット系ＢＯｇｍの半導体レーザー（波
長７８０ｎｍ）を使用した。したがってＡ−ＳｉＨ）ｉ
を堆積させる円筒状のＡｎ支持体（長さくＬ）３５７ｍ
ｍ、（ｌ（ｒ）８０ｍｍ）］二に旋盤で螺線状の溝を作
成した。このときの溝の断面形状を第１１図（Ｂ）に示
す。

このＡ文支持体上に第１２図の装置で電荷往入防市層、
感光層、を次の様にして堆積した。

まず装置の構成を説明する。１２０１は高周波電源、１
２０２はマツチングボックス、１２ｏ３は拡散ポンプお
よびメカニカルブースターポンプ、１２０４はＡＭ支持
体回転用モータ、１２０５はＡ文支持体、１２０６はＡ
Ｍ支支持体加熱上ヒータ１２０７はガス導入管、１２０
８は高周波導入用カソード電極、１２０９はシールド板
、１２１０はヒータ用電源、１２２１〜１２２５゜１２
４１〜１２４５はバルブ、１２３１〜１２３５はマスフ
ロコントローラー、１２５１〜１２５５はレギュレータ
ー、１２６１は水素（Ｈ２〕ボンベ、１２６２はシラン
（ＳｉＨ４）ボンベ、１２６３はジポラン（Ｂ２Ｈ６）
ボンベ、１２６４は酸化窒素（Ｎｏ）ボンベ、１２６７
はメタン（ＣＨ４）ボンベである。

次に作製手順を説明する。１２６１〜１２６５のボンベ
の元栓をすべてしめ、すべてのマスフロコントローラー
およびバルブを開け、１２０３の拡散ポンプにより堆積
装置内をｊｏ−７Ｔｏｒｒまで減圧した。それと同時に
１２０６のヒータにより１２０５のＡｌ支持体を２５０
’Ｃまで加熱し２５０℃で一定に保った。１２０５のＡ
ｌ支持体の温度が２５０℃で一定になった後１２２１〜
１２２５．１２４１〜１２４５．１２５１〜１２５５の
バルブを閉じ、１２６１〜１２６５のボンベの元栓を開
け、１２０３の拡散ポンプをメカニカルブースターポン
プに代える。１２５１〜１２５５のレギュレーター伺き
バルブの二次圧を１５Ｋｇ／ｃｍ’に設定した。１２３
１のマスフロコントローラーを３００５ＣＣＭに設定し
、１２４１のバルブと１２２１のバルブを順に開き堆積
装置内にＨ、カスを導入した。

次に１２６１の５ｉＨｎガスを１２３２のマスフロコン
トローラーの設定ヲ１５０３Ｃ’ＣＭニ設＞ｉＪシて、
Ｈ、ガスの導入と同様の操作で５ｉＨ７１ガスをｊｉ積
装置に導入した。次に１２６３のＢ２Ｈ，、ガス流部を
ＳｉＨ４ガス流量に対して、１６００ｖ０１ｐｐｍにな
るように１２３３のマスフローコントａ−ラーを設定し
て、Ｈ，ガスの導入と同様な操作でＢ２Ｈもガスを堆積
装置内に導入した。

そして堆積装置内の内圧が０．２Ｔｏｒｒで安定し、た
ら、１２０１の高周波電源のスイッチを入れ１２０２の
マツチングボックスを調節して、１２０５のＡｌ支持体
と１２０８のカソード電極上にグロー放電を生じさせ、
高周波電力を１５０Ｗとし５ルｍ厚でＡ−Ｓｉ：Ｈ層（
Ｂを含むＰ型のＡ−Ｓｉ：Ｈ層となる）を堆積した（電
荷注入防止層）ｅ５ｇｍ厚のＡ−Ｓｉ：Ｈ（Ｐ型）を堆
積したのち放電を切らずに、１２２３のバルブを閉めＢ
２Ｈ６の流入を止める。

そして高周波電力１５０Ｗで２０μｍ厚のＡ−３ｉ：Ｈ
層（ｎｏｎ−ｄｏｐｅｄ）を堆積した（感光層）。その
後高周波電源およびガスのバルブをすべて閉じ堆積装置
を排気し、Ａｌ支持体の温度を室温まで下げて、感光層
まで形成した支持体を取り出した。

同様な方法で支持体上に感光層まで形成したものを、２
２本作製した。

次に、１２６１の水素（Ｈ２）ボンベをアルゴン（Ａ、
ｒ）ガスボンベに取り換え、堆積装置を清掃し、カソー
ド電極上に、第１表（条件Ｎ０ＩＯ１）に示す表面層材
料を一面にはる。前記感光層まで形成したものの１本を
設置し、堆積装置内を拡散ポンプで十分に減圧する。そ
の後、アルゴンカスを０．０１５Ｔｏｒｒまで導入し、
高周波電力１５０Ｗでグロー放電を起こし、表面材料を
スパッタリングして、前記支持体上に、第１表（条件間１０１）の表面層を堆積した。（サンプルＮｏ１Ｏ１）
同様に残りの２１本について、第１表（条件Ｎｏ１０２
〜１２２）の条件で表面層を堆積した。

（サンプルＮｏ１０２〜１２２）これらは第１１図（Ｂ）、’（Ｃ）のように感光層の表
面と支持体の表面とは非平行であった。この場合Ａｌ支
持体の中央と両端部とでの平均層厚の層厚差は２ｐｍで
あった。

以北２２種類の電子写真用の光受容部材について、波Ｊ
ｉ７８０ｎｍの反導体レーザーをスポット径８０７ｔｍ
で第１３図に示す装置で画像露光を行い、それを現像、
転写して画像を得た。

この場合、干渉縞模様は、観察されず、実用に十分な電
子写真特性を示すものが得られた。

実施例２シリンダー状ＡＭ支持体２２木の表面を旋盤で、第１４
図のように加工した。

このシリンダー状ＡＭ支持体各々に実施例１と同様な条
件でＡ−５ｉ＋Ｈの電子写真用光受容部材を作製した。

この電子写真用光受容部材を実施例１と同様に第１３図
の装置で画像露光を行い、現像、転写して画像を得た。

この場合の転写画像には、干渉縞はみられず実用ヒ十分
な特性であった。

実施例３第１５図、第１６図に示す表面性のシリンダー状Ａ文支
持体りに、第２表に示す条件で電子写真用光受容部材を
形成した。

これら電子写真用光受容部材に−）いては、実施例１と
同様な画像露光装置を用いて、画像露光を行い、現像、
転写、定着して普通紙１−に可視画像を得た。この様な
画像形成プロセスを１０万回連続繰返し行った。

この場合、得られた画像の総てに於て干渉縞は見られず
、実用に十分な特性であった。又、初期の画像と１０万
回目の画像の間には、何隻差違はなく、高品質の画像で
あった。

実施例４第１５図、第１６図に示す表面性のシリンダー状Ａ９．
支持体上に、第３表に示す条件で電子写真用光受容部材
を形成した。

これら電子写真用光受容部材について、実施例１と同様
な、画像露光装置を用いて、画像露光を行い、現像、転
写、定着して、普通紙上に可視画像を（１１た。

この場合に得られた画像には、干渉縞は見られず、実用
に上方な特性であった。

実施例５第１５図、第１６に示す表面性のシリンダー状Ａ文支持
体」二に、第４表に示す条件で電子写真用光受容部材を
形成した。

これら電子写真用光受容部材について、実施例１と同様
な、画像、露光装置を用いて、画像露光を行い、現像、
転写−１定着して普通紙」−に可視画像を得た。

この場合に得られた画像には、１渉縞は見られず、実用
に十分な特性であった。

実施例６第１５図、第１６図に示す表面ｅ１のシリンダー状Ａ！
；Ｌ支持体−１−に、第５表に示す条件で電子写真用光
受容部材を形成した。

これら電子写真用光受容部材について、実施例１と同様
な、画像露光を用いて、画像露光を行い、現像、転写、
定着して、普通紙トに可視画像を得た。

この場合に得られた画像には、［−渉縞は見られず、実
用に十分な４５ｆ性であった。

口し１１１の効果］以１：、ａＹ細に説明した様に、本発明によれば、町１
渉性中色光を用いる画像形成に適し、製造管理が容易で
あり、且つ画像形成時に現出する一ｆ−渉縞模様と反転
現像時の斑点の現出を同時にし７かも完／１・に解消す
ることができ、しかも表面における光反射を低減し、入
射光を効率よく利用できる光受容部材を提供することが
できる。た画像形成時

【図面の簡単な説明】

第１図は、干渉縞の一般的な説明図である。第２図は、多層の光受容部材の場合の干渉縞の説明図で
ある。第３図は散乱光による干渉縞の説明図である。第４図は、多層の光受容部材の場合の散乱光による干渉
縞の説明図である。第５図は、光受容部材の各層の界面が＝ｒｚ行な場合の
干渉縞の説明図である。第６図は光受容部材の各層の界面が非平行な場合に干渉
縞が現われないことの説明図である。第７図は、光受容部材の各層の界面が平行である場合と
非平行である場合の反射光強度の比較の説明図である。第８図は、各層の界面が非平行である場合の干渉縞が現
われないことの説明図である。第９図（Ａ）（Ｂ）はそれぞれ代表的な支持体の表面状
態の説明図である。第１０図は、光受容部材の層構成の説明図である。第１２図は、実施例で用いた光受容層の堆積装置の説明
図である。第１３図は、実施例で使用した画像露光装置である。第１１図、第１４図、第１５図、第１６図は、実施例で
使用したＡ文支持体の表面状態の説明図である。１０００．１１００・・・・・・・・・光受容部材＋０
０２．、−１１０６・・・・・・・・・光受容層１００
】・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
ＡＪＪ支持体１００３・・・・・・・・・・・・・・・
・・；・・・・・・電荷注入防止層１００４・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・感光層１００
５・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
表面層１３０１・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・電子写真用、光受容部材１３０２・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・半導体レー
ザー１３０３・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・ｆθレレン１３０４・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・ポリゴンミラー１３０５・
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・露光
装置の平面図１３０６・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・露光装置の側面図〔≧≦コニ−≧コル匝第３図第４図＠５ｔ！ｌイ立３ｋＩＩ６図（Ｄ）イ民１爾７図（Ａ）（Ｂ）（Ｃ）ＩＦ？イ装置ｗ８図箪９図

Claims

【特許請求の範囲】

（１）所定の切断位置での断面形状が主ピークに副ピー
クが重畳された凸状形状である凸部が多数表面に形成さ
れている支持体と：シリコン原子を含む非晶質材料から
なり少なくとも一部の層領域が感光性を有する層と、反
射防止機能を有する表面層とから成る光受容層と；を有
する！Ｓ＜を特徴とする光受容部材。
（２）前記層領域が、光導゛重性を有する特許請求の範
囲第１項に記載の光受容部材。
（３）前記光受容層が多層構造を有する特許請求の範囲
第１項に記載の光受容部材。
（４）前記凸部が規則的に配列されている特許請求の範
囲第１項に記載の光受容部材。
（５）前記凸部が周期的に配列されている特許請求の範
囲第１項に記載の光受容部材。
（６）前記凸部の夫々は、一次近似的に同一形状を有す
る特許請求の範囲第１項に記載の光受容部材。
（７）前記凸部は、副ピークを特徴とする特許請求の範
囲第１項に記載の光受容部材。
（８）前記凸部の前記断面形状は、主ピークを中心にし
て対称形状である特許請求の範囲第１項に記載の光受容
部材。
（９）前記凸部の前記断面形状は、主ピークを中心にし
て非対称形状である特許請求の範囲第１項に記載の光受
容部材。
（１０）前記凸部は、機械的加工によって形成された特
許請求の範囲第１項に記載の光受容部材。