JPS60255859A - 絶縁樹脂ペ−スト - Google Patents

絶縁樹脂ペ−スト

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JPS60255859A
JPS60255859A JP10951984A JP10951984A JPS60255859A JP S60255859 A JPS60255859 A JP S60255859A JP 10951984 A JP10951984 A JP 10951984A JP 10951984 A JP10951984 A JP 10951984A JP S60255859 A JPS60255859 A JP S60255859A
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JP
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epoxy
ppm
epoxy resin
resin
contg
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JP10951984A
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Ryuzo Nakatsuka
中塚 隆三
Shigenori Yamaoka
重徳 山岡
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Sumitomo Bakelite Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Bakelite Co Ltd
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/28Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
    • H01L24/29Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector

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  • Power Engineering (AREA)
  • Die Bonding (AREA)
  • Organic Insulating Materials (AREA)
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  • Epoxy Resins (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は無機系充填材、液状エポキシ樹脂よりなる電気
絶縁性熱硬化性樹脂ペースト(=関するものである。に
詳しくは一液マウント用樹脂組成物C二関するものであ
る。
エレクトロニクス業界の最近の著しい発展(二より、ト
ランジスター、IC%LSI、超LSIと進化し、これ
ら半導体素子(二おける回路の集積度が急激(=増大す
ると共に量産が可能となり、これらを用いた半導体製品
の値下りじ相俟りてその生産時の省力化、能率化並び(
二院材料費の節減が重要な問題となって側ト 従来法として、半導体素子、チップを基板導体。
リードフレーム上(=金箔を用いてマウントする工程と
、次いでこれをノ翫−メチククンール(二より封止する
工程(=より半導体部品としていた。その改良法として
熱硬化性樹脂(=よる封止工程が開発され、これ)二併
い銀粉を含む導電性樹脂(二よりマウントする工程が実
施されるよう(二なり、生産性の向上、コスト低減(二
大きく寄与するよう(ニなって来た。この場合、MOS
 −ICの多くはサブの電極をベレッ)hのボンディン
グパットより引出すこと(=よりペレット裏面のメタラ
イゼーシ叢ンは省略出来る。従ってマウント用杓脂とし
ては高価な導電性のものを用いなくても、比較的安価な
非導電性のもので十分であり、これC二よりトータルと
してのコストの大幅な低減をはかることが出来る。
本発明の電気絶縁性熱硬化性樹脂ペーストはこのような
目的t′:、適合するものである。
最近チップマウント用装置の自動化、高速化が進み、こ
れ(二用いる一液マウント用樹脂として必要な特性に対
する要望がより厳しくなりつつある。
マウント用樹脂として必要な特性は次の辿りである。
(0マウント強度;350℃の加熱時、−65〜150
℃の熱シヨツクサイクル、熱 水処理等の後の接着力がよい こと。
■薄膜形成性 (3)作 業 性;ディスペンサー(=よる重機注入性
、スクリーン印刷性、スタン ピング性などがよいこと。
■硬 化 性; オープン方式、ホットブレート方式な
ど(二よる硬化性がよい こと。
■ボ イ ド; 低いこと。
■偵 頼 性; 鮒湿通電テスト(二よる不良のないこ
と。叩ち銀のマイグレー シlン、接漬剤61I化物よりの発 生ガス(二よる素子の特性の変動、 ハロゲン、アルカリメタル等イ オン性不純物によるアルミ配線 の腐食などのないこと。
(7)ワイヤーボンデイン麺;硬化物よりの発生ガス一
二よるボンディング性の低下、ブ リードによる汚染などのないこ と。
(0ベレットクラクク; リードフレーム(特(ニー合
金の場合)との熱膨張の差t: よる応力発生(二対するバッフ ァーのよいこと。
■絶縁性 従来この種のマウント用樹脂としての最大の問題点は次
のようである。
■ 用いるエポキシ樹脂が不純物として加水分解性ハロ
ゲン基を1.000 pJ)mまたはそれ以上の大量を
含むこと。そのためプレッシャークツカーテスト(20
時間)の熱水抽出クロルイオンの獣が数百ppmまたは
それ以上と大きく、そのため信頼性の面で極めて不十分
である。
■ 作業性、硬化性の面で省力化、高速化への灼応が不
十分である。
本発明者らはこれらの点について棟々検Ft L、た結
果、無徴系充堝祠、エポキシ樹脂、硬化剤、硬化促進剤
及び溶剤よりなる絶縁性熱硬化樹脂ペーストであって、
用いる無機系充填剤としては8011量%以上が粒径5
μ以下であり、エポキシ樹脂としては液状で、加水分解
性ハロゲン基の含有量が6009pm (is、以下同
じ)以下であり、エポキシ基を分子当り2.5ケ以上有
するものであり、硬化剤としてはジンアンジアミドであ
り、硬化促進剤としては第3級アミンの塩であり、反応
性希釈剤としてはエポキシ基を分子当り少くとも1ヶ有
し、沸点250℃以上であり、10ポイズ/25℃以下
の粘度であり、更C二加水分解性ハロゲン基の含有量が
1.000 ppm以下であることにより、■10〜3
0μの薄膜形成性(二すぐれており。
■熱水抽出のハロゲンイオンの量(プレクシャークッカ
ーテス)20時間)をioo ppm以下好ましくは5
0ppm以下と大幅な減少をはかり、信頼性を一段と向
上し、 ■ホットプレート上300℃で5分、350℃で1分、
450℃で10秒またはこれより短いサイクルでの硬化
を可能となり、ボンディング工程とマウント工程とを同
時(=ホットプレート上で行えるよう(二なり、 ■タックフリー性が特C:すぐれ、ディスペンサー法は
勿論のことスクリーン印刷法、スタンピング法などの長
時間連続適用が可能となるなどの多くの特長が得られる
ことを見出し本発明をなすに至っ゛た。
本発明(二相いる無勢系充填剤としては、(資)重量鴨
以上が粒径5μ以下の微粒子である。5μ以上の粒子が
含まれると基板上にペーストを塗布し、半導体チップを
マウント後硬化させる時に大きな粒子があると薄膜形成
性が損われチップが傾むき接着不良の原因となる。しか
もエポキシ樹脂とのなじみがよくて吸樹脂量が大きくな
く、アルカリ金属イオン、ハロゲンイオンなどのイオン
性不純物を含まないことが必要である。そのため充填剤
表面を適負表面処PII斉1、例えばシリコーン系、弗
素樹脂系、有機チタネート系など(二より処理してもよ
い。また水、溶剤等(二より適負洗滌を行ってもよい。
本発明(二相いる充填剤は以りの条件を充すものであれ
ば伺れも同様曜二使用出来るが、可及的低コストのもの
が好ましい。特に、結晶性乃至溶融シリカ1重質炭酸カ
ルシウム、アルミナ、クレイ、タルク、けい酸ジルコン
、ジルコニアなどが好マしい。
本発明(二相いる充填剤と硬化剤を含む樹脂との混合割
合(容量)は性能を劣化させない範囲内で可及的に高い
ことが好ましい。プm常は20 / 80乃至40/6
0(容際比)の範il++内である。
本発明(二相いるエポキシ樹脂としては、液状で、加水
分解性ハロゲン基含有量は600ppm以下、好ましく
は300 pprn以下であり、エポキシ基を分子当り
2,5ヶ以上含んでいることが必要である。
なお、ハロゲンイオンやアルカリ全町イオンなどのイオ
ン性不純物はそれぞれ10ppm以下のものであること
は勿論である。
エポキシ樹脂の加水分解性ハロゲン基を5QQppm以
下、好ましくは3001)l)In以下になるようにす
る方法は枡々あるが、その1例を上けると次のようであ
る。
■ 第4級アンモニウム・ハイドロオキサイドを触媒と
して、ポリ活性水素化合物(多価フェノール類、多塩基
酸など)とエビへロヒドリンとを反応させた後、得られ
たハロヒドリン基をアルコール性アルカリで閉環させる
エポキシ樹脂の製造方法。
■ エポキシ樹脂中(二残存するハロヒドリン基。
主として加水分解性のハロゲン基を無水の状態で当量の
アルコリックアルカリと共に加熱し閉環させるエポキシ
樹脂の精製方法。
■ 残存するハロヒドリン基を無水の状態で当量の脂肪
酸銀塩と反応させてAgXの形(二して除去するM製方
法。
■ ポリフェノール類誉予めアリル化し、次にアリル基
を有^過酸、例えばP−クロル安息香酸の過酸などによ
りエポキシ化するエポキシ樹脂の!y遣方法。
本発明の目的のためには何れの方法によって加水分解性
ハロゲン基の少1(い樹脂を得ても全く同様に用いるこ
とが可能であり、従ってその減少方法には制約されない
ものである。
本発明C二用いるエポキシ樹脂としては、2棟以上の樹
脂を適宜配合してこの水rsc二なるように調節しても
よい。
通常のエポキシ樹脂では1.000 ppmまたはそれ
以上含むのが普通である。従って通常の市販のエポキシ
樹脂をそのまま用いるのは本発明の目的のためC二は望
ましくない。
V!に本発明(=用いるエポキシ樹脂はエポキシ基を分
子当り2.5ケ以上含んでいることが必要である。
通常のエビビスタイプのよう(二分子当りのエポキシ基
の数が2.πあるのは十分子(耐熱性、速6!化性が得
られないので望ましくない。但し3官能性またはそれ以
上のものと2宮前性のものとを配合して、平均2.5官
能性以上(二して用いてもよい。
本発明に用いるエポキシ樹脂としては1記の条件を充し
ているものであれば、何れも使用可能であるが、次のタ
イプのものが特(二好ましい。
フロログルンシールドリグリンジールエーテル、トリヒ
ドロオキシビフェニルのトリグリシシールエーテル、テ
トラヒドロオキシビフェニルのテトラグリシシールエー
テル、テトラヒドロキレビスフェノールFのテトラグリ
シシールエーテル、テトラヒドロキンベンゾフェノンの
テトラグリシジ ・−ルエーテル、エポキシ化ノボラッ
ク、エポキシ化ポリビニルフェノール、トリグリンジー
ルイソシアヌレート、トリグリシシールシアヌレート。
トリグリシシール8−トリアジン、トリグリシシールア
ミノフェノール、テトラグリシシールジアミノジフェニ
ルメタン、テトラグリシジールメタフエニレンジアiン
、テトラグリンジールビロメリット酸などの3またはそ
れ以上の多官能性のエポキシ−脂及びこれに配合する2
官能性のエポキシ樹脂、例えばジグリシジールレゾルシ
ン、ジグリシジールピスフェノールA、ジグリシジール
ビスフェノールF、ジグリンシールビスフェノールS、
ジヒドロキンベンゾフェノンのジグリシジールエーテル
、ジグリシジールオキシ安息杏酸、ジグリνジールフタ
ル#(o、m、p)、ジグリンシールヒダントイン、ジ
グリシジールアニリン、ジグリンシールトルイジンなど
であり、またはこれらの縮合タイプの1e4脂である。
また特殊なタイプとして、アリル化ポリフェノール(1
〜3核体が主体のもの)の過酸(−よるエポキシ化物の
ようにグリシシールエーテル基と核置換のグリシシール
基とを有しているものも上記の条件を充しているならば
同様に用いることが出来る。
本発明に用いる硬化剤としては潜伏性のものであること
が必要であり、ジンアンジアミドが最も適している。
しかしジンアンジアミドは樹脂(二溶解し錘いので、粗
いと沈降したりして分散が不均一となり、硬化が不均一
となるおそれがあるの°で、均−C;分散するよう(二
微粉砕、好ましくは湿式粉砕したものであることが必要
である。ジンアンジアミドを溶液として用いるのは揮発
性溶剤が組成物中(=含まれることになるので好ましく
ない。
用いるジンアンジアミドの粒度としては350メツンエ
パスのものであることが好ましい。このような微粉でな
いと均一な硬化物が得られず、性能のバラツキを生じる
おそれがあるので好ましくない。マウント用樹脂の信頼
性向上のため(:は上記の微粉末化は不可欠である。
本発明(=用いる硬化促進剤は第3級アミンの塩であり
、ジメチルベンジルアミン、トリス(ジメラックなどの
多価フェノール類である。
これらのvJ3級アミンの塩はエポキシ松脂100部(
重量、以下同じ)C二対して0.1〜10部の範囲であ
ることが望ましい。これより少いと促進効果が不十分で
あり、これより多くしても硬化がさほど促進されないの
に、保存性が劣化するおそれがあるので何れも望ましく
ない。
なおこれらの第3級アミンの塩は使用前(=吸湿したり
、炭酸ガスを吸収し易く、これC二より性能が劣化し易
いので、特に本発明C二用いる場合には、吸水量が10
%(II′量)以下、COtガス吸収歇が5鴨以下であ
ることが好ましい、一旦吸水、re、co。
ガスしたものは十分には精製し難いので精製して使用す
ることは一般に好ましくない。
マウント樹脂の硬化性を安定させるためには上記の範囲
内のものを用いることが好ましい。
本発明に於いては脱泡剤、表面処理剤などを適宜用いて
もよい。
脱泡剤、表面処理剤としては、シリコーン系、弗素樹脂
系、その他有機チタネート系のものなどの何れを用いて
もよい。何れじしても芳香族系の低沸点の溶剤は可及的
(=含んでいないことが好ましい。
また、接点不良の原因とならないようにシリコーン系の
ものでかい方が好ましい。
本発明(二組いる反応性希釈剤は末端エポキシ基を分子
当り少くとも1ヶ有し、沸点は250℃以上、好ましく
は300℃以上のものであり、10ボイズ/25℃以下
の低粘度のものであり、しかも、加水分解性ハロゲン基
の含有量が1.000 ppm以下、好ましくは600
 ppm以下のものである。これより沸点が低いとスク
リーン印刷やスタンピングを長時間連続実施する際、漸
次偵発して粘度が上昇しそのため作業性が時間的(二次
第に劣化していくので望ましくない。また粘度がこれよ
り高いと希釈効果が十分(二達せられないので好ましく
ない。
一般(二希釈剤として用いる高沸点のエポキシ化合物は
、例えばポリエーテルポリオールのグリシシールエーテ
ルのよう(:加水分解性のハロゲン基の多いものでは不
適当であり、本発明の目的のためにはC+O−一の長鎖
脂肪酸のモノグリシシールエーテル類が上記のすべての
条件を充しているので適当である。同様にダイマー酸の
ポリグリシシールエーテルタイプのものも有効である。
なおl官能性の希釈剤は硬化物の架橋密度を減少させ、
熱時の性旋を劣化させるおそれがあるので、可及的(:
少量用いることが必要である。
なお反応性希釈剤(二於ける加水分解性ハロゲン基の減
少方法はエポキシ樹脂の場合に閘じてほぼ同様(=行う
ことが出来る。
本発明に用いる硬化削、硬化促進剤1反応性希釈剤など
は何れもClイオン、 Naイオンなどのイオン性不純
物を可及的に含まないもの1例えば10ppm以下であ
ることが必要である。但しこれらの原材料は本質的にエ
ポキシ樹脂詣のように加水分解性のへロゲン基を含むも
のではなく、またこれらのイオン性不純物をも含まぬも
のであり、蒸留、再結晶などの通常の精製(二より十分
に本発明の目的に適したものが得られる。
イオン性不純物の試験方法は次のようである。
塩素イオンは液状試料15gを純水20m1と2時間振
盪後、水層を捧心分離し検波とする。次に検液15cc
をホールピペットで採取し、6%鉄ミ1クバン水溶液4
m/、0.3%チオシアン酸・水層エタノール溶液2f
nlを加え25づ(−なるまで純水で稀釈する。得られ
た検液は分光光度計で460 nmの波長(二於ける吸
光度を測定してブランクテストとの対比(=於いて、予
め作成した検量線を用いて不純物として含まれる塩素イ
オン濃度をめる。
なおエポキシ4Il脂、マウント用樹脂組成物、6!l
!化剤などの中粉稠液状乃至固形の場合には、試料15
IIをトルエン30m1τ二均−(二溶解し、純水10
0− を加えて2時間振盪復水層な遠心分離して検液と
し、以下同様(二行う、 ナトリウムイオンは、上記検液をフレームレス原子吸光
分析装置を用いて330.2 nmの波長の吸光度より
、ブランクテストとの対比イニ於いて、予め作成した検
量線を用いて不純物として含まれるナトリウムイオンを
める。
エポキシ樹脂の加水分解性塩素の定量法は、樹脂0.5
 、Pをジオキチン30 ml (二とかし、*を二x
hKO)1−エタノール溶液5慴!と加分間加熱還流さ
せ、次に生成したクロルイオンの量を0.01 N A
gN01(二より滴定してめる。消費されたアルカリの
置と当量の塩素量を計算でめ加水分解性塩素量とする。
なお、 0.I N KOH−メタノール溶液で15分
間加熱還流するのが従来の測定法であったが、これでは
加水分解性塩素量として過小の値が得られるので本発明
の目的のためには好ましくない。
なおプレツンヤークツカーテストによる硬化物よりの熱
水分解性クロルイオンの測定方法は次のようである。
マウント用樹脂を200℃、加分間で硬化させ、次いで
硬化物を粉砕する。得られた粉末試料2Iを分解ルツボ
中でエタノール3づを加えて十分浸漬させる。次(=純
水40 mlを加えた後、完全C二密封し125℃、加
持間処理する。処理後、要すれば遠心分離し゛上澄液を
検液とする。
検波中の塩素イオン濃度、ナトリウムイオン濃度は上記
の方法に準じてめる。
本発明の絶縁樹脂ペーストの製造工程は次のようである
先ず所定量のエポキシ樹脂、硬化剤、硬化イr進剤1反
応性希釈側などをそれぞれ秤取し、混練し、均一溶液と
する。この場合混練(=は通常の攪拌槽、maw、三本
ロール、インクミルなどを適宜組合せて用いてよい。
次(二所定量の充填剤を秤取し、上記1!l脂溶液と混
練して完全(二均−なペースト状にする。この場合(=
も攪拌槽、捕#器、三本ロールなどを適宜組合せて用い
る。次にペースト状棲脂組成物を所定の容器に秤量分配
し、真空チャンバー中で脱泡して製品とする。この場合
マウント用樹脂層が厚いと十分(二脱泡出来ないので可
及的f二階い層f二することが好ましい− このよう(−シて得られた樹脂組成物は一15℃または
それ以下の温度で貯蔵し輸送することが必要である。こ
れより温度が上ると貯蔵寿命を著しく低下させるので好
ましくない。
本発明の絶縁樹脂ペーストは従来品(:比し次のような
特長を有している。
(1)均一な薄膜形成性がすぐれていること。
(2)高純度であること; 樹脂ペースト中(=熱水分
解性のものをも含むイオン性不純物の量が極めて少ない
(3)高A 6W化性がよいこと; ホットプレート上
での十分に短いサイクルでの硬化が可能であり。
チップマウント工程の大幅な短縮化がはかれる。
(4)タックフリー性が特によいこと: スタンピング
、スクリーン印刷等の長時間運転が回旋であり、作業性
がすぐれている。
(5)その他の特性、例えば高湿のマウント強度など1
:ついては従来品とまさるともおとらない。
従って不発0月の絶縁樹脂ペーストは最近急激に高度化
しつつあるエレクトロニクス業界の要望(二合致した極
めて工業的価値の高いものである。
0丁実施例(二ついて説明する。
実施例1 エポキシ樹脂としては、エポキシ化フェノールノボラン
ク(数平均分子量; 550 、エポキシ当隼; 17
0 、エポキシ基の数/分子;3.2.加水分解性クロ
ル基; 500 ppm > 70部、反応性希釈剤と
してはCu の長鎖脂肪酌のグリンジールエステル(加
水分解性クロル基; 900 ppm ) 30部、硬
化剤として予め350メツシユパスの微粉末化したジン
アンジアミド4.0部、硬化促進剤として1.8ジアザ
−ビンクロ(5,4,0)クンデセン−7のレゾルンン
塩0,3部、弗素樹脂系消泡剤0,01部を攪拌し均一
分散液とする。更(二80%以上が粒径5μ以下の非晶
性ノリ力粉末゛旬部3μ以下の炭酸カルシウム60部、
を加え拙潰器で混練し、最後(二三本ロールを通して均
一なペースト状マウント用樹脂組成物を得る。
mられたペースト状マウント用樹脂組成物は液の厚さ2
0111以下にバット中に拡げて真空f+ノンバー中常
温、 5 wHg以丁0高真空丁に脱泡する。
脱泡された樹脂組成物はリードフレーム上1ニスクリー
ン印刷猿たはスタンピング(二より定量的に自動供給さ
れ、チップをマウントする。
樹脂の硬化は200℃の加熱炉の中、120分放置する
こと(二より得られる。
マウント用樹脂の名神の性能は第1表の通りである。
なお、上記のエポキシ樹脂として精製を行わなし〜で市
販のまま用いると、加水分解性クロル基の量は1,20
0 ppmである。これをそのまま用いると、熱水抽出
後のクロルイオンの量は3501)l)mとなる。
この値bM密t「エレクトロニクス用累子としては信頼
性の面より望ましくないものである。
実施例2 エポキシ樹脂としては、エビビス系液状エポキシ樹脂(
数平均分子量; 400、エポキシ当fl;190、エ
ポキシ基の数/分子;2.0.加水分解性クロル基; 
200 ppm )とプロログルシンのトリグリシシー
ルエーテル(数平均分子量;36o、エポキシ当事;1
25、エポキシ基の数7分子;2.9、加水分解性クロ
ル基; 700 ppm )とを1.0 / 3.0の
割合(=混合したものを用いる。充填剤としては80%
以上が5μ以下のアルミナ及び5μ以下のジルコニアの
l:1混合物を用いる。反応性希釈剤、硬化剤、硬化促
進剤、消泡剤は実施例1と同じである。配合、ペースト
性状、硬化条件、硬化物の性能は第1表の通りである。
実施例3 エポキシ樹脂としては、アリル化ビスフェノールFを過
酸でエポキシ化したもの(数平均分子量;400、エポ
キシ当量;125、エポキシ基の数/分子;3.0.加
水分解性クロル基;なし)と実施例1のエポキシ化フェ
ノールノボラックとを1,0/1.0 の割合に混合し
たものを用いる。
充填剤、硬化剤、硬化促進剤、消泡剤は実施例1と同じ
である。
配合、ペースト性状、硬化物の性能は第1表の通りであ
る。
比較例1 反応性希釈剤としてフェニルグリシシールエーテルを用
いる以外は、他の1串材料はすべて実施例1と同じもの
を用いる。
配合、ペースト性状、硬化条件、硬化物の性質は第1表
の通りである。
フェニルグリシシールエーテルの押発忰C二よりタック
フリー性が劣化し、そのためスクリーン印刷、スタンピ
ングを長時間連続運転することは不可能であり、望すし
くない。
比較例2 実施例−1(=於て、炭酸カルシウムとしては粒径1〜
15μのものを用いる以外は全く同様にしてマウント用
樹脂組成物を得る。
得られた組成物は11/さ10μの薄膜を形成せしめた
際(二部公的(−厚さの不均一を外し薄膜時のチップマ
ウント性が著しく不十分であった。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 無機系充填剤、エポキシ樹脂、硬化剤、硬化促進剤及び
    反応性希釈剤よりなる絶縁樹脂ペーストであって、無機
    系充填剤は80重曖$以上が粒径5μ以下の微粒子であ
    り、エポキシ樹脂は液状で、加水分解性ハロゲン基の含
    有量が600 ppm (、tli→以下であり、エポ
    キシ基を分子当り平均2.5ケ以上有するものであり、
    硬化剤はジンアンジアミドであり、硬化促進剤はvJ3
    級アミンの塩であり、反応性希釈剤はエポキシ基を分子
    当り少くとも1ヶ有し、沸点250℃以上であり、10
    ボイズ/25℃以下の粘度であり、更(=加水分解性ハ
    ロゲン基の含有量がi、ooo ppm (重wt >
    以下であることを特徴とする無溶剤−波型絶縁樹脂ペー
    スト。
JP10951984A 1984-05-31 1984-05-31 絶縁樹脂ペ−スト Granted JPS60255859A (ja)

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JP10951984A JPS60255859A (ja) 1984-05-31 1984-05-31 絶縁樹脂ペ−スト

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01113423A (ja) * 1987-10-27 1989-05-02 Mitsubishi Electric Corp 熱硬化性絶縁樹脂ペースト
JPH01118563A (ja) * 1987-10-30 1989-05-11 Toshiba Chem Corp 絶縁性ペースト
EP0661323A1 (en) * 1993-12-21 1995-07-05 Air Products And Chemicals, Inc. One component flexibilized epoxy resin compositions
JP2013122028A (ja) * 2011-12-12 2013-06-20 Sumitomo Bakelite Co Ltd 絶縁層形成用組成物の製造方法、絶縁層形成用フィルムの製造方法および基板の製造方法

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