JPS60255120A - 脱気用装置 - Google Patents

脱気用装置

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JPS60255120A
JPS60255120A JP11258684A JP11258684A JPS60255120A JP S60255120 A JPS60255120 A JP S60255120A JP 11258684 A JP11258684 A JP 11258684A JP 11258684 A JP11258684 A JP 11258684A JP S60255120 A JPS60255120 A JP S60255120A
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JP
Japan
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vacuum chamber
liquid
temp
dissolved
eluted
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Application number
JP11258684A
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JPH0249762B2 (ja
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Norio Ishida
石田　典男
Tsunemi Tokieda
時枝　常美
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Resonac Holdings Corp
Original Assignee
Showa Denko KK
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Publication date
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D19/00—Degasification of liquids
    • B01D19/0063—Regulation, control including valves and floats

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
  • Degasification And Air Bubble Elimination (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は液体中に溶存する気体を除去する脱気用装置に
関し、さらに詳しくは液体クロマトグラフによる分析に
おいて、試料および溶ｉｔ液中に溶存する空気を除去す
る脱気用装置に関する。
従来技術 液体クロマトグラフにより分離、分析を行なう場合、そ
の分析性能を向上させるため、試料および溶離液中の溶
存空気を除去する脱気用装置が使用されるようになって
きた。
一般に上記脱気用装置Ａは、第２図にそのフローを示す
ように、スパイラルチューブ状高分子膜１が内蔵された
真空チャンバ２と、この真空度を検出して、制御回路３
を介して、上記真空チャンバ２の内圧を低下させる真空
ポンプ４を始動或いは停止させる圧力センサ５によって
構成されている。
上記脱気用装置Ａによって溶離液６等の溶存する空気を
除去する場合には、真空チャンバ２の内圧を所定の範囲
の減圧状態に保持しながら、溶離液６をチューブ状高分
子膜内を所定速度で通過させることにより溶存空気をチ
ューブ状高分子膜１゜を通して真空チャンバ２内に拡散
させ除去し、空気の除去された溶離液６を液体クロマト
グラフ７に供給している。
従来技術の問題点 ところで、上記脱気用装置によって溶存する空気を除去
する速度は相当の幅で変動し、残存空気濃度は一定せず
、そのため液体クロマトグラフの性能が安定しないばか
りでなく、十分な除去が行なわれないことがあった。
本発明の目的および構成 本発明は、上記の事情に鑑み、鋭意研究した結果、上記
チューブ状高分子膜内に溶離液を通過させて溶存する空
気を高分子膜を透過させて除去する際の除去速度は、真
空チャンバ内の温度によっても、大幅に変ることを知見
した。
本発明は上記の知見に基づいてなされたもので、安定な
性能を有する脱気用装置を提供することを目的とするも
ので、その要旨は、気体を溶存する液体を、真空チャン
バ内に設けられたチューブ状高分子膜を通過させて、溶
存する気体を除去する脱気用装置において、上記真空チ
ャンバ外側底部に、その内部温度を所定温度範囲に保持
する加熱手段を設けてなる脱気用装置にある。
本発明の具体的構成、効果 第１図は、本発明に係る脱気用装置の一実施例を示すも
ので、第２図と同一部分には同一符号を付してその説明
を省略する。図中符号１１は、チューブ状高分子膜１が
内蔵された真空チャンバ２外側底部に設けられ、その内
部を所定の温度に加温する自己制御型面ヒータである。
まｌご、本発明において用いられる高分子膜としては、
通常ポリ四フッ化エチレン、等が用いられる。
上記脱気用装置Ａの真空チャンバ２内部を所定の湿度、
圧に保持して、空気を溶存した溶離液を一定速度で通過
させると、溶離液６中の溶存空気は、はぼ同じ量が除去
され、通過した溶離中の溶存空気はは一定濃度に低下さ
れ、液体クロマトグラフに好適に使用される。
この場合、温度が高い方が、空気の残存濃度が低下する
。これは、高分子ＩＩＩ　１の気体拡散速度が高くなる
ためである。しかし、温度が高ずぎると、液体の蒸気も
透過するようになるので、４０℃以下の温度に保持する
のが好ましい。
なお、真空チャンバ２内部を所定温度に加温するどとも
に、チューブ状高分子膜１に導入する溶離液６を上記温
度に加温しても、真空チャンバ２のみを加温した場合と
差が認められない。これは、上記チューブ状高分子膜１
内に導入された溶離液６が、化較的早く昇温し、真空チ
ャンバ１内部と同じ温度となるためと思料する。また、
上記説明では、加熱手段として自己制御型面ヒータを用
いたがこれに限るものでなく、所定温度に真空チャンバ
２内を加熱出来るものであればよい。
実施例 次に実施例を示して本発明を説明する。
真空チャンバ２内に内径＋１．３ｍｍ１外径：２．２＋
１１１１１、長さ：１０ｍのパイプ状ポリ四フッ化エチ
レン膜を設け、真空チャンバ２内を圧力ニ５０Ｔｏｒｒ
、温度：１０．２０．３０℃の温度で、酸素：１１０１
）ｌ１溶存する照面水を通過させ、通過した照面水中の
溶存酸素濃度を測定した。
５− その結果、真空チャンバ２内部が一定濃度で通過した照
面水中の酸素濃度はほぼ一定であり、温度を変えた場合
の、通過した照面水中の酸素８Ｉ廓は、１０°Ｇ　：　
５．２１１１１ｍ　、　２０℃：３．７ｐｐｍ。
３０℃：３．２ｒ１１１１１１であった。１０℃の場合
と３０℃の場合とでは、３０℃の方が除去率が大幅によ
くなることわかる。
本発明の効果 以−ト述べたように本発明に係る脱気用装置は、真空チ
ャンバ内の温度を上昇せしめて一定範囲に保持すること
により、大幅、かつ一定の脱気が可能となり、液体クロ
マトグラフ分離性能を安定して向上せしめるものである
。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明に係る脱気用装置の一実施例を示す７日
−図、第２図は、従来の脱気用装置のフロー図である。 １・・・・・・チューブ状高分子膜、２・・・・・・真
空チャンバ、３・・・・・・制御回路、４・・・・・・
真空ポンプ、５・・・・・・圧力センサ、６・・・・・
・溶離液、７・・・・・・液体クロマト６− グラフ、１１・・・・・・自己制御型面ヒータ（加熱手
段）Ａ・・・・・・脱気用装置。 ７一

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. （１）気体を溶存する液体を、真空チャンバ内に設けら
    れたチューブ状高分子膜を通過させて、溶存する気体を
    除去する脱気用装置において、上記真空チャンバ外側底
    部に、その内部温度を所定瀧疫に保持する加熱手段を設
    けたことを特徴とする脱気用装置。
  2. （２）チューブ状高分子膜がポリ四フッ化エチレンであ
    る特許請求の範囲第１項記載の脱気用装置。
  3. （３）加熱手段が自己制御型面ヒーターである特許請求
    の範囲第１項記載の脱気用装置。
JP11258684A 1984-06-01 1984-06-01 脱気用装置 Granted JPS60255120A (ja)

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JPH0249762B2 JPH0249762B2 (ja) 1990-10-31

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