JPS60254730A - レジスト剥離装置 - Google Patents
レジスト剥離装置Info
- Publication number
- JPS60254730A JPS60254730A JP11144784A JP11144784A JPS60254730A JP S60254730 A JPS60254730 A JP S60254730A JP 11144784 A JP11144784 A JP 11144784A JP 11144784 A JP11144784 A JP 11144784A JP S60254730 A JPS60254730 A JP S60254730A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resist
- plasma
- sample
- reaction gas
- container
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Drying Of Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（１）発明の技術分野
本発明はレジスト剥離装置、詳しくは大気中でレジスト
のプラズマアッシング（灰化）を行う装置に関する。
のプラズマアッシング（灰化）を行う装置に関する。
（２）技術の背景
例えばウェハの姦先に用いるマスクを製造する工程にお
いては、ガラス基板上にクロムの薄膜を形成し、その上
にレジスト膜を塗布し、レジスト膜のパターニングをな
した後にレジストをマスクにしてクロム薄膜をパターニ
ングし、しかる後にレジスト膜を除去する。
いては、ガラス基板上にクロムの薄膜を形成し、その上
にレジスト膜を塗布し、レジスト膜のパターニングをな
した後にレジストをマスクにしてクロム薄膜をパターニ
ングし、しかる後にレジスト膜を除去する。
レジストの除去はプラズマアッシングによってなされ、
そのためには第１図の概略断面図に示される装置が開発
されている。同図にどいて、１はチャンバ、２と３はＳ
ＵＳまたはＡＮで作られた−と十の対向電極を示す。図
に矢印方向に供給される反応ガス（０２＋ ＣＯ２＋
Ａｒガスなど）は供給管４からチャンバ１内に導入され
る。５は試料例えばマスクでその上に除去されるべきレ
ジスト膜が形成されている。チャンバ１内は排気管６か
ら排気することによって真空に保たれ、対向電極２゜３
の間にプラズマを発生させて試料５の上のレジストを灰
化する。なお図において、７は電極３を支持するための
セラミックまたはテフロン製の台を示す。
そのためには第１図の概略断面図に示される装置が開発
されている。同図にどいて、１はチャンバ、２と３はＳ
ＵＳまたはＡＮで作られた−と十の対向電極を示す。図
に矢印方向に供給される反応ガス（０２＋ ＣＯ２＋
Ａｒガスなど）は供給管４からチャンバ１内に導入され
る。５は試料例えばマスクでその上に除去されるべきレ
ジスト膜が形成されている。チャンバ１内は排気管６か
ら排気することによって真空に保たれ、対向電極２゜３
の間にプラズマを発生させて試料５の上のレジストを灰
化する。なお図において、７は電極３を支持するための
セラミックまたはテフロン製の台を示す。
（３）従来技術と問題点
上記した装置は現在１台数千万円程度ときわめて高価な
ものであり、それの使用は製品コストを上昇させる。
ものであり、それの使用は製品コストを上昇させる。
試料の交換においてはチャンバ内は大気圧にさらされる
ので、レジスト除去の度毎にチャンバを真空にひかなけ
ればならず、そのためには数分程度の待ち時間を要し生
産性を低下させる結果となる。
ので、レジスト除去の度毎にチャンバを真空にひかなけ
ればならず、そのためには数分程度の待ち時間を要し生
産性を低下させる結果となる。
上記装置は高価であるだけでなく複雑な構造のもので、
それの管理、操作も難しい。そしてプラズマアッシング
において発生するゴミが装置の可動機構に付着すると、
ゴミの除去に時間をとられ、また装置の可動部分に付着
したゴミが試料に付着する問題がある。
それの管理、操作も難しい。そしてプラズマアッシング
において発生するゴミが装置の可動機構に付着すると、
ゴミの除去に時間をとられ、また装置の可動部分に付着
したゴミが試料に付着する問題がある。
（４）発明の目的
本発明は上記従来の問題に鑑み、安価に構成され、試料
の交換の際の待ち時間が短縮され、ゴミの試料上への付
着のおそれの少ないレジスト剥離装置を提供することを
目的とする。
の交換の際の待ち時間が短縮され、ゴミの試料上への付
着のおそれの少ないレジスト剥離装置を提供することを
目的とする。
（５）発明の構成
そしてこの目的は本発明によれば、大気中でコロナ放電
を発生ずる対向電極、放電側対向電極の下に配置された
反応ガス容器とから成り、前記反応ガス容器の放電側電
極とは反対側には反応ガスを当該容器の下方に配置され
る試料に吹き付けるための複数の細孔を設け、コロナ放
電によって前記容器の下方にプラズマを発生し、このプ
ラズマによって試料上のレジストを灰化する構成とした
ことを特徴とするレジスト剥離装置を提供することによ
って達成される。
を発生ずる対向電極、放電側対向電極の下に配置された
反応ガス容器とから成り、前記反応ガス容器の放電側電
極とは反対側には反応ガスを当該容器の下方に配置され
る試料に吹き付けるための複数の細孔を設け、コロナ放
電によって前記容器の下方にプラズマを発生し、このプ
ラズマによって試料上のレジストを灰化する構成とした
ことを特徴とするレジスト剥離装置を提供することによ
って達成される。
（６）発明の実施例
以下本発明の実施例を図面によって詳述する。
本発明者は大気中でのコロナ放電によってプラズマを発
生させるについての実験において、コロナ放電は尖った
電極の先端から雷の如くに飛び、試料上のレジストをコ
ロナ放電によって除去しようとしても、レジストは点状
にしか灰化されないことを確かめた。そこで、レジスト
の灰化においてはどうしてもプラズマを発生させなけれ
ばならないが、それには第２図に示される本発明の第１
実施例が適することを見出した。
生させるについての実験において、コロナ放電は尖った
電極の先端から雷の如くに飛び、試料上のレジストをコ
ロナ放電によって除去しようとしても、レジストは点状
にしか灰化されないことを確かめた。そこで、レジスト
の灰化においてはどうしてもプラズマを発生させなけれ
ばならないが、それには第２図に示される本発明の第１
実施例が適することを見出した。
第２図において、１１は刃状の＋側対向電極、１２はガ
ラス管を示し、このガラス管１２に矢印で示す方向に反
応ガスを供給する。そしてガラス管１２の電極１１とは
反対側（ガラス管の最下部）には細孔１３が多数穿孔さ
れている。
ラス管を示し、このガラス管１２に矢印で示す方向に反
応ガスを供給する。そしてガラス管１２の電極１１とは
反対側（ガラス管の最下部）には細孔１３が多数穿孔さ
れている。
電極１１に十の電圧を印加し、ガラス管１２に０２ガス
を導入したところ細孔１３の下方にシャワーの如くにプ
ラズマが発生することが確かめられた。
を導入したところ細孔１３の下方にシャワーの如くにプ
ラズマが発生することが確かめられた。
試料１４（その上には除去すべきレジスト膜が形成され
ている）を細孔１３の下に配置し、往復運動をさせたと
ころ、レジストは従来装置を用いた場合の如くに灰化さ
れた。それは細孔１３の下のプラズマシャワーと、プラ
ズマによって発生するオゾンと熱によるものと理解され
る。使用においては、装置を箱形のふた部材１５で遮蔽
し、排気管１６から排気してオゾンを除去する。そして
プラズマを発生させるための出力は数ＫＷで足りる。
ている）を細孔１３の下に配置し、往復運動をさせたと
ころ、レジストは従来装置を用いた場合の如くに灰化さ
れた。それは細孔１３の下のプラズマシャワーと、プラ
ズマによって発生するオゾンと熱によるものと理解され
る。使用においては、装置を箱形のふた部材１５で遮蔽
し、排気管１６から排気してオゾンを除去する。そして
プラズマを発生させるための出力は数ＫＷで足りる。
本発明の第２実施例は第３図の断面図に示され、同図に
おいて、２１は高周波発信電源２３に接続される＋側対
向電極、２２は接地される一例対向電極、２４は試料（
例えばマスクを作るガラス基板）、２５は石英ガラス製
の反応ガス容器、２６は反応ガス供給管に設゛けられた
パルプ、２７は波長１９０〜２９０μｍの遠紫外線（Ｄ
ＵＶ ）ランプ２７ａが設けられた予熱室、２８は排気
管、２９は試料２４を運搬するベルトコンベア、３０は
ベルトコンベア２９のための回転部材、３１は上記の諸
部分を覆うふた部材、３２は部材３１に設けた排気管を
示す。
おいて、２１は高周波発信電源２３に接続される＋側対
向電極、２２は接地される一例対向電極、２４は試料（
例えばマスクを作るガラス基板）、２５は石英ガラス製
の反応ガス容器、２６は反応ガス供給管に設゛けられた
パルプ、２７は波長１９０〜２９０μｍの遠紫外線（Ｄ
ＵＶ ）ランプ２７ａが設けられた予熱室、２８は排気
管、２９は試料２４を運搬するベルトコンベア、３０は
ベルトコンベア２９のための回転部材、３１は上記の諸
部分を覆うふた部材、３２は部材３１に設けた排気管を
示す。
、電極２１は第１実施例の電極１１と同様に先端縁が尖
った刃状の構造のもので、この先端縁からコロナ放電を
発生させる。反応ガス容器２５は箱状に作られ、その電
極２１と反対側には複数の細孔が多数穿孔されていて、
供給される反応ガス（０２゜ＣＯ２、Ａｒなど）はこの
細孔からシャワー状に噴出され、コロナ放電が始まると
容器２５の下方にはシャワーの如くにプラズマが発生す
る。
った刃状の構造のもので、この先端縁からコロナ放電を
発生させる。反応ガス容器２５は箱状に作られ、その電
極２１と反対側には複数の細孔が多数穿孔されていて、
供給される反応ガス（０２゜ＣＯ２、Ａｒなど）はこの
細孔からシャワー状に噴出され、コロナ放電が始まると
容器２５の下方にはシャワーの如くにプラズマが発生す
る。
操作において、その上にレジストがのっている試料２４
は最初予熱室２７に運ばれる。ここで１１ＵＶ光と酸素
の活性化によってレジスト薄膜はデスカム（除去）が有
効になされるよう熱せられる。
は最初予熱室２７に運ばれる。ここで１１ＵＶ光と酸素
の活性化によってレジスト薄膜はデスカム（除去）が有
効になされるよう熱せられる。
次いで試料２４は反応ガス容器２５の下に運ばれ、シャ
ワー状のプラズマにさらされ、レジストが灰化される。
ワー状のプラズマにさらされ、レジストが灰化される。
試料２４が反応ガス容器２５の下に留まる時間はレジス
ト膜厚、印加電圧（通常は数ＫＷ）、反応ガスの種類に
よって異なるが、レジスト灰化の均一化のために試料２
４を容器２５の下で往復運動させてもよい。
ト膜厚、印加電圧（通常は数ＫＷ）、反応ガスの種類に
よって異なるが、レジスト灰化の均一化のために試料２
４を容器２５の下で往復運動させてもよい。
予熱室２７においても容器２５の下においても、操作中
はオゾンが発生するので、排気管２８．３２を用いて排
気する。しかし、部材３１は真空密封手段ではなく大気
中におかれるもので、前記した排気は作業者の安全のた
めになされるものである。
はオゾンが発生するので、排気管２８．３２を用いて排
気する。しかし、部材３１は真空密封手段ではなく大気
中におかれるもので、前記した排気は作業者の安全のた
めになされるものである。
なお、第１と第２の実施例はマスク上のレジスト灰化に
ついて説明したが、本発明の通用範囲はその場合に限定
されるものでなく、ウェハ上のレジスト灰化にも用いう
るものである。
ついて説明したが、本発明の通用範囲はその場合に限定
されるものでなく、ウェハ上のレジスト灰化にも用いう
るものである。
（７）発明の効果
以上詳細に説明した如く本発明によれば、大気中のコロ
ナ放電によりプラズマを発生させることによりレジスト
のプラズマアッシングが可能になり、高価で複雑な従来
の真空装置を用いる場合に比べ、製造コストの低減と作
業性の向上に効果大である。
ナ放電によりプラズマを発生させることによりレジスト
のプラズマアッシングが可能になり、高価で複雑な従来
の真空装置を用いる場合に比べ、製造コストの低減と作
業性の向上に効果大である。
第１図はレジストのプラズマアッシングに用いる従来の
真空系装置の概略断面図、第２図と第３図は本発明実施
例の断面図である。 月−＋側対向電極、１２−ガラス管、 １３−細孔、１４−・試料、２１− ＋側対向電極、２
２−・−一側対向電極、２３−高周波発信電源、２４−
試料、２５−反応ガス容器、２６−バルブ、２７・−予
熱室、２７ａ −ＤＩＩＶランプ、２８−排気管、２９
−ベルトコンベア、３〇一回転部材、３１−ふた部材、
３２−排気管第２図 第３図
真空系装置の概略断面図、第２図と第３図は本発明実施
例の断面図である。 月−＋側対向電極、１２−ガラス管、 １３−細孔、１４−・試料、２１− ＋側対向電極、２
２−・−一側対向電極、２３−高周波発信電源、２４−
試料、２５−反応ガス容器、２６−バルブ、２７・−予
熱室、２７ａ −ＤＩＩＶランプ、２８−排気管、２９
−ベルトコンベア、３〇一回転部材、３１−ふた部材、
３２−排気管第２図 第３図
Claims (1)
- 大気中でコロナ放電を発生する対向電極、放電側対向電
極の下に配置された反応ガス容器とから成り、前記反応
ガス容器の放電側電極とは反対側には反応ガスを当該容
器の下方に配置される試料に吹き付けるための複数の細
孔を設け、コロナ放電によって前記容器の下方にプラズ
マを発生し、このプラズマによって試料上のレジストを
灰化する構成としたことを特徴とするレジスト剥離装置
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11144784A JPS60254730A (ja) | 1984-05-31 | 1984-05-31 | レジスト剥離装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11144784A JPS60254730A (ja) | 1984-05-31 | 1984-05-31 | レジスト剥離装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60254730A true JPS60254730A (ja) | 1985-12-16 |
Family
ID=14561431
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11144784A Pending JPS60254730A (ja) | 1984-05-31 | 1984-05-31 | レジスト剥離装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60254730A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01204423A (ja) * | 1988-02-10 | 1989-08-17 | Hitachi Ltd | 表面処理装置 |
| JPH03133125A (ja) * | 1989-10-19 | 1991-06-06 | Toshiba Corp | レジストアッシング装置 |
| EP0740989A2 (en) * | 1995-05-01 | 1996-11-06 | Bridgestone Corporation | Method of cleaning vulcanizing mold |
-
1984
- 1984-05-31 JP JP11144784A patent/JPS60254730A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01204423A (ja) * | 1988-02-10 | 1989-08-17 | Hitachi Ltd | 表面処理装置 |
| JPH03133125A (ja) * | 1989-10-19 | 1991-06-06 | Toshiba Corp | レジストアッシング装置 |
| EP0740989A2 (en) * | 1995-05-01 | 1996-11-06 | Bridgestone Corporation | Method of cleaning vulcanizing mold |
| EP0740989A3 (en) * | 1995-05-01 | 1997-03-19 | Bridgestone Corp | Cleaning process for a vulcanization mold |
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