JPS60251675A - 導電性高分子フイルム太陽電池及びその製造方法 - Google Patents
導電性高分子フイルム太陽電池及びその製造方法Info
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- JPS60251675A JPS60251675A JP59107504A JP10750484A JPS60251675A JP S60251675 A JPS60251675 A JP S60251675A JP 59107504 A JP59107504 A JP 59107504A JP 10750484 A JP10750484 A JP 10750484A JP S60251675 A JPS60251675 A JP S60251675A
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K30/00—Organic devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation
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- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
- Y02E10/549—Organic PV cells
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は改良された導電性高分子フィルムを用いた乾式
太陽電池とその製造方法に関する。
太陽電池とその製造方法に関する。
n型半導体と導電性高分子フィルムからなるp−n接合
を用いた乾式太陽電池用導電性高分子材としては、従来
、ポリアセチレンが用いられていた。しかし、従来のも
のは、大気中でポリアセチレンが酸化するため、時間の
経過と共に吸収効率が著しく劣下すること、しかもポリ
アセチレンが黒色系であることからp−n接合部の吸収
効率がポリアセチレンの薄膜に著しく依存するため、1
μ恒程度に制御する必要性があること等の欠点を有して
いた。更に高分子フィルム自体の機械的強度が低く、取
扱いが困難であった。
を用いた乾式太陽電池用導電性高分子材としては、従来
、ポリアセチレンが用いられていた。しかし、従来のも
のは、大気中でポリアセチレンが酸化するため、時間の
経過と共に吸収効率が著しく劣下すること、しかもポリ
アセチレンが黒色系であることからp−n接合部の吸収
効率がポリアセチレンの薄膜に著しく依存するため、1
μ恒程度に制御する必要性があること等の欠点を有して
いた。更に高分子フィルム自体の機械的強度が低く、取
扱いが困難であった。
本発明は、これらの欠点を除去するためになされたもの
であり、その目的は、経時変化がなく、シかも機械的強
度の強い導電性高分子フィルムとn形半導体とを包含す
る信頼性の高い導電性高分子フィルム太陽電池及びその
製造方法を提供することにある。
であり、その目的は、経時変化がなく、シかも機械的強
度の強い導電性高分子フィルムとn形半導体とを包含す
る信頼性の高い導電性高分子フィルム太陽電池及びその
製造方法を提供することにある。
本発明を概説すれば、本発明の第1の発明は導電性高分
子フィルム太陽電池に関する発明であって、n型半導体
基板上に形成した高分子フィルムと、該フィルム付基板
上に電解酸化により電気化学的に形成した芳香族系高分
子化合物とを包含することを特徴とする。
子フィルム太陽電池に関する発明であって、n型半導体
基板上に形成した高分子フィルムと、該フィルム付基板
上に電解酸化により電気化学的に形成した芳香族系高分
子化合物とを包含することを特徴とする。
そして、本発明の第2の発明は導電性高分子フィルム太
陽電池の製造方法に関する発明であって、n型半導体基
板上に高分子フィルムをコーティングする工程、及びそ
の上に電解酸化により芳香族系高分子化合物を電気化学
的に形成する工程の各工程を包含することを特徴とする
。
陽電池の製造方法に関する発明であって、n型半導体基
板上に高分子フィルムをコーティングする工程、及びそ
の上に電解酸化により芳香族系高分子化合物を電気化学
的に形成する工程の各工程を包含することを特徴とする
。
ピロールやチオフェン等の電解重合による導電性高分子
フィルムは通常電極基板をアセトニトリル等の有機溶媒
中に電解重合用モノマーとなる芳香族系化合物と通電さ
せるための電解質とを溶解させた溶液中に、対向電極と
共に入れ、両電極間に通電させることにより形成される
。
フィルムは通常電極基板をアセトニトリル等の有機溶媒
中に電解重合用モノマーとなる芳香族系化合物と通電さ
せるための電解質とを溶解させた溶液中に、対向電極と
共に入れ、両電極間に通電させることにより形成される
。
このように形成された導電性高分子フィルムは、一般に
p型半導体としての性質を持ち、また、黒色に近く、透
明度は低く、数ミクロン程度の膜厚を有するフィルムで
は、光をほとんど透過しない。
p型半導体としての性質を持ち、また、黒色に近く、透
明度は低く、数ミクロン程度の膜厚を有するフィルムで
は、光をほとんど透過しない。
しかしながら、本発明者等は、電極基板上に各種の高分
子フィルムを塗布し、これを溶解させることのない適切
な電解反応溶液を組合せることにより電極反応が通常の
電極上と同様に進むことを見出した。このようにして形
成された導電性高分子フィルムは、p型半導体としての
性質を持つため、電極基板として、n型牛導体材料を使
用すれば、電極基板と導電性高分子フィルム界面でp−
n接合が形成される。したがって、このp−n接合部で
光吸収が起れば、光起電力が発生し、太陽電池としての
機能を有する0 本発明では、n型半導体電極基板上にコーティングする
高分子フィルムとして、ポリ塩化ビニルやポリ塩化ビニ
リデン等の機械的強度の高い材料を用いると、電解重合
後に形成された導電性フィルムも機械的に高強度となり
破損し難いp−n接合を形成することができる。更にn
型半導体電極基板上にコーティングする高分子フィルム
として光透過度の高い高分子フィルムを選択しコーティ
ングし、電解重合条件を適当に選び、比較的透過度の高
い導電性高分子フィルムを形成することにより、導電性
高分子フィルムの膜厚に大きく依存することなく、p−
n接合部で充分な光吸収を起すことができる。
子フィルムを塗布し、これを溶解させることのない適切
な電解反応溶液を組合せることにより電極反応が通常の
電極上と同様に進むことを見出した。このようにして形
成された導電性高分子フィルムは、p型半導体としての
性質を持つため、電極基板として、n型牛導体材料を使
用すれば、電極基板と導電性高分子フィルム界面でp−
n接合が形成される。したがって、このp−n接合部で
光吸収が起れば、光起電力が発生し、太陽電池としての
機能を有する0 本発明では、n型半導体電極基板上にコーティングする
高分子フィルムとして、ポリ塩化ビニルやポリ塩化ビニ
リデン等の機械的強度の高い材料を用いると、電解重合
後に形成された導電性フィルムも機械的に高強度となり
破損し難いp−n接合を形成することができる。更にn
型半導体電極基板上にコーティングする高分子フィルム
として光透過度の高い高分子フィルムを選択しコーティ
ングし、電解重合条件を適当に選び、比較的透過度の高
い導電性高分子フィルムを形成することにより、導電性
高分子フィルムの膜厚に大きく依存することなく、p−
n接合部で充分な光吸収を起すことができる。
本発明に使用できる高分子フィルムとしてはポリ塩化ビ
ニル系樹脂、すなわち、ポリ塩化ビニル及び塩化ビニル
と各種ビニルエステル類、ビニルエーテル類、アクリル
酸及びそのエステル類、メタクリル酸及びそのエステル
類、マレイン酸及びそのエステル類、フマル酸及びその
エステル類、無水マレイン酸、スチレンを始めとする芳
香族ビニル化合物、・・ロゲン化ビニリデン化合物、ア
クリロニトリル、メタクリロニトリル、プロピレン等の
モノマーとの共重合体が使用できる。また、塩化ビニリ
デンと各種ビニルエステル、ビニルエーテル、アクリロ
ニトリル、メタクリロニトリル、塩化ビニル等の共重合
体、また、ポリエチレン及びエチレンと上記各種モノマ
ーとの共重合体も使用できる。更にまた、ポリエチレン
テレフタレートやゴム系の材料も使用できる。
ニル系樹脂、すなわち、ポリ塩化ビニル及び塩化ビニル
と各種ビニルエステル類、ビニルエーテル類、アクリル
酸及びそのエステル類、メタクリル酸及びそのエステル
類、マレイン酸及びそのエステル類、フマル酸及びその
エステル類、無水マレイン酸、スチレンを始めとする芳
香族ビニル化合物、・・ロゲン化ビニリデン化合物、ア
クリロニトリル、メタクリロニトリル、プロピレン等の
モノマーとの共重合体が使用できる。また、塩化ビニリ
デンと各種ビニルエステル、ビニルエーテル、アクリロ
ニトリル、メタクリロニトリル、塩化ビニル等の共重合
体、また、ポリエチレン及びエチレンと上記各種モノマ
ーとの共重合体も使用できる。更にまた、ポリエチレン
テレフタレートやゴム系の材料も使用できる。
更に以上の樹脂に可塑剤、熱安定剤、滑剤、紫外線吸収
剤、防曇剤、顔料、染料等を配合したフィルムも使用で
きる。
剤、防曇剤、顔料、染料等を配合したフィルムも使用で
きる。
また、電解酸化重合できる芳香族化合物としては、ピロ
ール、3−メチルビロール、N−メチルピロール、チオ
フェン、フラン、フェノール、チオフェノール、セレノ
フェン、テルロフェン、ビフェニル、アズレン、p−タ
ーフェニル、0−ターフェニル、p−クォータフェニル
、2−ヒドロキシビフェニル、ジフェニルスルフ−f)
”、2−(α−チェニル)チオフェン、2−(α−チェ
ニル)7ラン、2−(2−ピロリル)ピロール、2−(
2−ピロリル)チオフェン、2−フェニルチオフェン、
α−チェニルフェニルエーテル、β−フリル−α−チェ
ニルセレニド、2−(2−ピロリル)セレノフェン、2
−(2−セレニエニル)テルロ7エン、N−ビニルカル
バゾール、N−エチニルカルバゾール、メチルアズレン
、ピレン等の芳香族化合物が使用できる。また、芳香族
化合物ではないが各種置換ブタジェン化合物も使用でき
る。
ール、3−メチルビロール、N−メチルピロール、チオ
フェン、フラン、フェノール、チオフェノール、セレノ
フェン、テルロフェン、ビフェニル、アズレン、p−タ
ーフェニル、0−ターフェニル、p−クォータフェニル
、2−ヒドロキシビフェニル、ジフェニルスルフ−f)
”、2−(α−チェニル)チオフェン、2−(α−チェ
ニル)7ラン、2−(2−ピロリル)ピロール、2−(
2−ピロリル)チオフェン、2−フェニルチオフェン、
α−チェニルフェニルエーテル、β−フリル−α−チェ
ニルセレニド、2−(2−ピロリル)セレノフェン、2
−(2−セレニエニル)テルロ7エン、N−ビニルカル
バゾール、N−エチニルカルバゾール、メチルアズレン
、ピレン等の芳香族化合物が使用できる。また、芳香族
化合物ではないが各種置換ブタジェン化合物も使用でき
る。
また、電解重合時の電解質としては有機第4級アンモニ
ウム塩、無機塩、プロトン酸及びエステル等種々の化合
物が使用できる。溶剤としてはアセトニトリル系のもの
を通常使用するが、芳香族化合物の電解重合が可能で、
適当な電解質を溶解させるものであれば選択できる。
ウム塩、無機塩、プロトン酸及びエステル等種々の化合
物が使用できる。溶剤としてはアセトニトリル系のもの
を通常使用するが、芳香族化合物の電解重合が可能で、
適当な電解質を溶解させるものであれば選択できる。
以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、
本発明はこれら実施例に限定されな(10 実施例1 抵抗率500mのn型単結晶81基板上に約2μ憤のポ
リ塩化ビニリデン(分子量50万)フィルムをスピンコ
ードし、この基板をアセトニトリルとテトラヒドロフラ
ンの2:1の混合溶媒にα3モル/lのテトラエチルア
ンモニウムパラトルエンスルホネートと1モル/lのピ
ロールを溶解させた電解液に白金対向電極と共に入れ、
t2■電圧で20分間電解酸化を行うとn型S1基板上
に、ポリ塩化ビニリデンとポリピロールの複合フィルム
が形成された。
本発明はこれら実施例に限定されな(10 実施例1 抵抗率500mのn型単結晶81基板上に約2μ憤のポ
リ塩化ビニリデン(分子量50万)フィルムをスピンコ
ードし、この基板をアセトニトリルとテトラヒドロフラ
ンの2:1の混合溶媒にα3モル/lのテトラエチルア
ンモニウムパラトルエンスルホネートと1モル/lのピ
ロールを溶解させた電解液に白金対向電極と共に入れ、
t2■電圧で20分間電解酸化を行うとn型S1基板上
に、ポリ塩化ビニリデンとポリピロールの複合フィルム
が形成された。
nWsiの裏面からオーム性金電極を取出し、他方、複
合フィルムの上面に金電極を形成し、nWsi/ポリ塩
化ビニリデン・ポリピロール複合フィルムの電流電圧特
性を測定したところ、p−n接合に見られる典型的な非
対称な整流特性(±1vでの整流比1000以上)を示
した。
合フィルムの上面に金電極を形成し、nWsi/ポリ塩
化ビニリデン・ポリピロール複合フィルムの電流電圧特
性を測定したところ、p−n接合に見られる典型的な非
対称な整流特性(±1vでの整流比1000以上)を示
した。
また、この接合の複合フィルム上面より太陽光(110
漢W/cIn” ) を照射することにより、開放端電
圧015Vの光起電力を示し、効率は1チであった。ま
た、この接合を50日間室温放置したところ暗状態及び
光照射時の電流・電圧特性に変化が見られなかった。
漢W/cIn” ) を照射することにより、開放端電
圧015Vの光起電力を示し、効率は1チであった。ま
た、この接合を50日間室温放置したところ暗状態及び
光照射時の電流・電圧特性に変化が見られなかった。
実施例2
ステンレス板上にCVD法により厚さ1μ漢のアモルフ
ァスSi を堆積させ、リンをドーピングし、100Ω
譚のn型アモルファスS1を形成した。この基板のアモ
ルファスSl側に、約2μmのポリ塩化ビニルをスピン
コードし、裏面は絶縁性ゴム系樹脂を被覆し、この基板
をアセトニトリルとテトラヒドロフランの1:1の混合
溶媒にテトラエチルアンモニウムテトラフルオロボレー
ト0.6モル/lと1モル/lのチオフェンを溶解させ
た電解液に白金対向電極と共に入れ、13■電圧で60
分間電解酸化を行うとアモルファスSi基板上にポリ塩
化ビニルとポリチオフェンの複合フィルムが形成された
。
ァスSi を堆積させ、リンをドーピングし、100Ω
譚のn型アモルファスS1を形成した。この基板のアモ
ルファスSl側に、約2μmのポリ塩化ビニルをスピン
コードし、裏面は絶縁性ゴム系樹脂を被覆し、この基板
をアセトニトリルとテトラヒドロフランの1:1の混合
溶媒にテトラエチルアンモニウムテトラフルオロボレー
ト0.6モル/lと1モル/lのチオフェンを溶解させ
た電解液に白金対向電極と共に入れ、13■電圧で60
分間電解酸化を行うとアモルファスSi基板上にポリ塩
化ビニルとポリチオフェンの複合フィルムが形成された
。
ステンレス板上に被覆した絶縁性ゴム系樹脂を除去し、
電極を取付け、他方、複合フィルム上に金電極を形成し
、電流、電圧特性を測定したところ、±1■で整流比1
000以上の整流特性な示した。また、この接合に複合
フィルムの上方より110 mW/m2の光照射を行っ
たところ、解放端電圧0.55 Vの光起電力を示し、
効率は、1%であった。
電極を取付け、他方、複合フィルム上に金電極を形成し
、電流、電圧特性を測定したところ、±1■で整流比1
000以上の整流特性な示した。また、この接合に複合
フィルムの上方より110 mW/m2の光照射を行っ
たところ、解放端電圧0.55 Vの光起電力を示し、
効率は、1%であった。
以上説明したように、本発明による複合導電性フィルム
を用いた太陽電池は、n型半導体基板上にコートする高
分子フィルムとして機械的強度の強い材料を用いること
により、安定で信頼性の高い太陽電池が形成できる利点
がある。
を用いた太陽電池は、n型半導体基板上にコートする高
分子フィルムとして機械的強度の強い材料を用いること
により、安定で信頼性の高い太陽電池が形成できる利点
がある。
特許出願人 日本電信電話公社
代理人 中本 宏
同 弁上 昭
同 吉 嶺 桂
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 n型半導体基板上に形成した高分子フィルムと、該
フィルム付基板上に電解酸化により電気化学的に形成し
た芳香族系高分子化合物とを包含することを特徴とする
導電性高分子フィルム太陽電池。 2、n型半導体基板上に高分子フィルムをコーティング
する工程、及びその上に電解酸化により芳香族系高分子
化合物を電気化学的に形成する工程の各工程を包含する
ことを特徴とする導電性高分子フィルム太陽電池の製造
方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59107504A JPS60251675A (ja) | 1984-05-29 | 1984-05-29 | 導電性高分子フイルム太陽電池及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59107504A JPS60251675A (ja) | 1984-05-29 | 1984-05-29 | 導電性高分子フイルム太陽電池及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60251675A true JPS60251675A (ja) | 1985-12-12 |
Family
ID=14460882
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59107504A Pending JPS60251675A (ja) | 1984-05-29 | 1984-05-29 | 導電性高分子フイルム太陽電池及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60251675A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005259436A (ja) * | 2004-03-10 | 2005-09-22 | Kyushu Univ | 太陽電池及びその製造方法 |
-
1984
- 1984-05-29 JP JP59107504A patent/JPS60251675A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005259436A (ja) * | 2004-03-10 | 2005-09-22 | Kyushu Univ | 太陽電池及びその製造方法 |
JP4730759B2 (ja) * | 2004-03-10 | 2011-07-20 | 国立大学法人九州大学 | 太陽電池及びその製造方法 |
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