JPS60247904A - 磁気回路装置 - Google Patents
磁気回路装置Info
- Publication number
- JPS60247904A JPS60247904A JP10266284A JP10266284A JPS60247904A JP S60247904 A JPS60247904 A JP S60247904A JP 10266284 A JP10266284 A JP 10266284A JP 10266284 A JP10266284 A JP 10266284A JP S60247904 A JPS60247904 A JP S60247904A
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- JP
- Japan
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- magnetic
- permanent magnets
- permanent magnet
- magnetic poles
- permanent
- Prior art date
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- Granted
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F7/00—Magnets
- H01F7/02—Permanent magnets [PM]
- H01F7/0273—Magnetic circuits with PM for magnetic field generation
- H01F7/0278—Magnetic circuits with PM for magnetic field generation for generating uniform fields, focusing, deflecting electrically charged particles
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の属する技術分野〕
本発明は広い面積にわたって均一な磁場を得ることがで
きる磁気回路装置に関し、特に1例えばマグネトロン、
スパッタリング装置等に適した磁気回路装置に関する。
きる磁気回路装置に関し、特に1例えばマグネトロン、
スパッタリング装置等に適した磁気回路装置に関する。
エレクトロニクス用素材あるいは部品に各種の膜を形成
する場合、スパッタリング装置が用いられることが多い
。
する場合、スパッタリング装置が用いられることが多い
。
この種の装置の磁気回路として6例えば第1図に示すも
のが実用化されている。この磁気回路は、スピーカ用磁
気回路のように、中心の磁極11とリング状の磁極12
とで連続した環状磁場を作シ、磁束φに対して矢印Eで
示す電界が直交し、直交電磁界放電により密度の高いプ
ラズマを発生させ、この領域でスパッタリングを行う。
のが実用化されている。この磁気回路は、スピーカ用磁
気回路のように、中心の磁極11とリング状の磁極12
とで連続した環状磁場を作シ、磁束φに対して矢印Eで
示す電界が直交し、直交電磁界放電により密度の高いプ
ラズマを発生させ、この領域でスパッタリングを行う。
しかし、スパッタリングされる領域は図に示すように磁
界発生領域のみであシ、中心部あるいは外周はほとんど
されず、有効な領域は限定される。これは磁気回路が限
定されるために生ずることである。
界発生領域のみであシ、中心部あるいは外周はほとんど
されず、有効な領域は限定される。これは磁気回路が限
定されるために生ずることである。
このような欠点に鑑み1本発明の目的は広い領域で均一
な磁場を得ることができる磁気回路を提供することにあ
る。
な磁場を得ることができる磁気回路を提供することにあ
る。
本発明によれば、長さ方向に着磁された長四角形状の第
1の永久磁石を間にして、この第1の永久磁石の両側に
磁極の向きを同じにして第2及び第5の永久磁石を並設
し、しかもこれら第1.第2及び第3の永久磁石の磁極
端面を揃え、さらに前記第1の永久磁石の磁極端面を囲
みつつ前記第2及び第5の永久磁石の磁極端面を磁気的
に短絡させる環状のヨークを前記第2及び第5の永久磁
石の磁極端に取シつけて成シ。
1の永久磁石を間にして、この第1の永久磁石の両側に
磁極の向きを同じにして第2及び第5の永久磁石を並設
し、しかもこれら第1.第2及び第3の永久磁石の磁極
端面を揃え、さらに前記第1の永久磁石の磁極端面を囲
みつつ前記第2及び第5の永久磁石の磁極端面を磁気的
に短絡させる環状のヨークを前記第2及び第5の永久磁
石の磁極端に取シつけて成シ。
前記第1の永久磁石の上下両主面上に発生する磁束が均
一となるようにしたことを特徴とする磁気回路装置が得
られる。
一となるようにしたことを特徴とする磁気回路装置が得
られる。
以下に本発明の詳細な説明する。
第2図は長四角形状永久磁石の磁力線を示す。
磁石21の磁極を長さ方向(X方向)に形成すると、磁
力線φ。の他に、側面から磁力線φ1も発生し、側面あ
るいは磁極端面ではフリンジングがあって磁場勾配が一
様とは言えない。
力線φ。の他に、側面から磁力線φ1も発生し、側面あ
るいは磁極端面ではフリンジングがあって磁場勾配が一
様とは言えない。
本発明は上記の如き側面あるいは端面の7リンジングを
極力抑えようとするものである。
極力抑えようとするものである。
第3図は本発明装置の斜視図である。
長四角形状の永久磁石21の磁極端面にそれぞれ、軟磁
性体板ル、24が接合されている。永久磁石21の両側
には磁極を同じ向きにして同程度の長さの永久磁石5,
26を等間隔に配している。
性体板ル、24が接合されている。永久磁石21の両側
には磁極を同じ向きにして同程度の長さの永久磁石5,
26を等間隔に配している。
27.28は軟磁性体で構成された環状のヨークで。
この環状部分内に軟磁性体板n、24が位置するように
永久磁石25 、26の磁極端とそれぞれ磁気的に結合
している。
永久磁石25 、26の磁極端とそれぞれ磁気的に結合
している。
このような磁気回路においては、磁石21の両側に磁石
5,26の同極が配されているので、磁石21と磁石5
.磁石かとの磁気力線は反発し、磁石21の側面のフリ
ンジングはほとんど抑えられる。一方、磁石5.26の
端面にそれぞれ、磁気的に結合された環状ヨーク27
、28が磁石21の両端の周囲にあり、磁石21とヨー
ク27.28とは磁気的に反発するために、磁石21の
端面からの7リンジングは極力抑えられる。
5,26の同極が配されているので、磁石21と磁石5
.磁石かとの磁気力線は反発し、磁石21の側面のフリ
ンジングはほとんど抑えられる。一方、磁石5.26の
端面にそれぞれ、磁気的に結合された環状ヨーク27
、28が磁石21の両端の周囲にあり、磁石21とヨー
ク27.28とは磁気的に反発するために、磁石21の
端面からの7リンジングは極力抑えられる。
この結果、第4図、第5図に示すように、磁石21の上
下両主面の磁場発生が極めて好ましい状態となる。
下両主面の磁場発生が極めて好ましい状態となる。
従って、磁石21の上下両主面を広くすれば。
広い面積でのスパッタリングが可能となり、第1図に示
す従来装置のように有効領域が限定されなくて済む。ま
た、第1図では磁気回路装置の一方の面でしかスパッタ
リングができなかったが1本発明によれば、磁気回路装
置の両面で行うことができ、2倍の生産性となり、産業
上極めて有効な装置である。
す従来装置のように有効領域が限定されなくて済む。ま
た、第1図では磁気回路装置の一方の面でしかスパッタ
リングができなかったが1本発明によれば、磁気回路装
置の両面で行うことができ、2倍の生産性となり、産業
上極めて有効な装置である。
以下余日
第1図は従来装置の一例の斜視図、第2図は本発明の詳
細な説明するための斜視図、第3図は本発明Q−実施例
の斜視図、第4図、第5図はそれぞれ、第5図のA−A
線、 B−B線による断面図。 図中、21.25.26は永久磁石、 23.24は軟
磁性体板、27.28はヨーク。
細な説明するための斜視図、第3図は本発明Q−実施例
の斜視図、第4図、第5図はそれぞれ、第5図のA−A
線、 B−B線による断面図。 図中、21.25.26は永久磁石、 23.24は軟
磁性体板、27.28はヨーク。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、長さ方向に着磁された長四角形状の第1の永久磁石
を間にして、この第1の永久磁石の両側に磁極の向きを
同じにして第2及び第5の永久磁石を並設し、しかもこ
れら第1.第2及び第3の永久磁石の磁極端面を揃え、
さらに前記第1の永久磁石の磁極端面を囲みつつ前記第
2及び第5の永久磁石の磁極端面を磁気的に短絡させる
環状のヨークを前記第2及び第6の永久磁石の磁極端に
取りつけて成り、前記第1の永久磁石の上下主面上に発
生する磁束が均一となるようにしたごとを特徴とする磁
気回路装置。 以下余白
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10266284A JPS60247904A (ja) | 1984-05-23 | 1984-05-23 | 磁気回路装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10266284A JPS60247904A (ja) | 1984-05-23 | 1984-05-23 | 磁気回路装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60247904A true JPS60247904A (ja) | 1985-12-07 |
JPH0252842B2 JPH0252842B2 (ja) | 1990-11-14 |
Family
ID=14333442
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10266284A Granted JPS60247904A (ja) | 1984-05-23 | 1984-05-23 | 磁気回路装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60247904A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU180112U1 (ru) * | 2017-04-20 | 2018-06-04 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Поволжский государственный технологический университет" | Магнетрон с увеличенным коэффициентом использования материала мишени |
-
1984
- 1984-05-23 JP JP10266284A patent/JPS60247904A/ja active Granted
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU180112U1 (ru) * | 2017-04-20 | 2018-06-04 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Поволжский государственный технологический университет" | Магнетрон с увеличенным коэффициентом использования материала мишени |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0252842B2 (ja) | 1990-11-14 |
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