JPS60246098A - プログラマブルリードオンリメモリ - Google Patents
プログラマブルリードオンリメモリInfo
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- JPS60246098A JPS60246098A JP60095318A JP9531885A JPS60246098A JP S60246098 A JPS60246098 A JP S60246098A JP 60095318 A JP60095318 A JP 60095318A JP 9531885 A JP9531885 A JP 9531885A JP S60246098 A JPS60246098 A JP S60246098A
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- Japan
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- memory
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- word line
- circuit
- transistors
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- G—PHYSICS
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- G11C—STATIC STORES
- G11C16/00—Erasable programmable read-only memories
- G11C16/02—Erasable programmable read-only memories electrically programmable
- G11C16/06—Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
- G11C16/10—Programming or data input circuits
- G11C16/12—Programming voltage switching circuits
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
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- G11C16/00—Erasable programmable read-only memories
- G11C16/02—Erasable programmable read-only memories electrically programmable
- G11C16/06—Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
- G11C16/08—Address circuits; Decoders; Word-line control circuits
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- G—PHYSICS
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- G11C—STATIC STORES
- G11C16/00—Erasable programmable read-only memories
- G11C16/02—Erasable programmable read-only memories electrically programmable
- G11C16/06—Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
- G11C16/30—Power supply circuits
Landscapes
- Read Only Memory (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、消去可能なプログラマブルリードオンリメ
モリ集積回路に関し、特に、ワードラインの電圧をボン
ピングして70−ティングゲート電子なだれ注入金属酸
化物半導体メモリのプログラムを可能にする装置にr!
R′rする。
モリ集積回路に関し、特に、ワードラインの電圧をボン
ピングして70−ティングゲート電子なだれ注入金属酸
化物半導体メモリのプログラムを可能にする装置にr!
R′rする。
江匡艮1悲凡1
フローティングゲートを電子なだれ注入金属酸化物半導
体(FAMO8)メモリは周知であり、広く用いられて
いるプログラマブルリードオンリメモリの1つのタイプ
である。そのような装置は、不揮発性の態様でメモリセ
ルのプログラミングを可能にする。そのような消去可能
なプログラマブルリードオンリメモリ(EPROM>装
置は、プログラミング期間中にゲート電圧をドレイン電
圧よりもはるかに高くするために比較的高い電圧を一必
要とする。これは、ドレインから70−ティングゲート
上に電子が引き上げられることを可能にし、ここで電子
は集合的に情報のビットを表わす。
体(FAMO8)メモリは周知であり、広く用いられて
いるプログラマブルリードオンリメモリの1つのタイプ
である。そのような装置は、不揮発性の態様でメモリセ
ルのプログラミングを可能にする。そのような消去可能
なプログラマブルリードオンリメモリ(EPROM>装
置は、プログラミング期間中にゲート電圧をドレイン電
圧よりもはるかに高くするために比較的高い電圧を一必
要とする。これは、ドレインから70−ティングゲート
上に電子が引き上げられることを可能にし、ここで電子
は集合的に情報のビットを表わす。
このメモリセルは、この素子が十分な紫外線にさらされ
てフローティングゲート上の電子を励起させかつゲート
から離れて移動するまで、ストアされた情報を保持する
。そのような装置をプログラムすることは高いワードラ
イン電圧を要求するのみならず高いドレイン電圧および
高いトレイン電流をも要求するので、合理的な速度でF
AMO3EPROMをプログラムするために外部の高電
圧電源が必要とされる。
てフローティングゲート上の電子を励起させかつゲート
から離れて移動するまで、ストアされた情報を保持する
。そのような装置をプログラムすることは高いワードラ
イン電圧を要求するのみならず高いドレイン電圧および
高いトレイン電流をも要求するので、合理的な速度でF
AMO3EPROMをプログラムするために外部の高電
圧電源が必要とされる。
そのような電源を必要とすることは望ましくないことで
ある。必要とされるのは、より低い電圧の電源を使用さ
せる一方で速いプログラミング速度を維持する、EPR
OMセルをプログラムするための装置である。
ある。必要とされるのは、より低い電圧の電源を使用さ
せる一方で速いプログラミング速度を維持する、EPR
OMセルをプログラムするための装置である。
11悲1L
この発明は、光にさらすことによって消去され、さらに
ワードラインのグループと関連するボンピング回路によ
って比較的低いプログラミング電圧で急速な態様でプロ
グラムされるプログラマブルリードオンリメモリを提供
している。一実施例において、EFROMは、ワードラ
インの第1の組と、ビットラインの第2の組と、1本の
ビットラインと1本のワードラインとにそれぞれ接続さ
れた複数のメモリセルと、ワードラインの各々に選択的
に接続可能なワードラインボンピング回路と、ワードラ
インのそれぞれに接続され単一のワードラインをボンピ
ング回路に選択的に接続するデコーダとを備えている。
ワードラインのグループと関連するボンピング回路によ
って比較的低いプログラミング電圧で急速な態様でプロ
グラムされるプログラマブルリードオンリメモリを提供
している。一実施例において、EFROMは、ワードラ
インの第1の組と、ビットラインの第2の組と、1本の
ビットラインと1本のワードラインとにそれぞれ接続さ
れた複数のメモリセルと、ワードラインの各々に選択的
に接続可能なワードラインボンピング回路と、ワードラ
インのそれぞれに接続され単一のワードラインをボンピ
ング回路に選択的に接続するデコーダとを備えている。
好ましい実施例において、ボンピング回路は、前記プロ
グラミング電圧と出力端子との間に直列に接続された第
1および第2のダイオードを含み、クロックされた電気
信号源によって駆動されるコンデンサがこれらのダイオ
ード間のノードに結合されている。
グラミング電圧と出力端子との間に直列に接続された第
1および第2のダイオードを含み、クロックされた電気
信号源によって駆動されるコンデンサがこれらのダイオ
ード間のノードに結合されている。
この発明は、EPROMによって要求されるプログラミ
ング電圧をより低くづる一方で個々のセルに対する短い
プログラミング時間を維持するという態様でワードライ
ンをボンピングする手法を提供しているので、特に有利
である。
ング電圧をより低くづる一方で個々のセルに対する短い
プログラミング時間を維持するという態様でワードライ
ンをボンピングする手法を提供しているので、特に有利
である。
好ましい実施例の詳 な−
第1図は、EPROMセルのアレイの一部を描いた回路
図である。4つの個々のFAMO8型EPROMセル1
0.11..12および13は、ワードライン14およ
び15と、ビットライン16および17とに結合される
ものとして示されている。図示されているように、各セ
ルは、ワードラインに結合された制御ゲートと、ビット
ラインと接地(VSS)との間に結合された他の2つの
電極とを有している。たとえば、セル12はワードライ
ン15およびビットライン16に結合されている。セル
10−13のような個々のメモリセルは周知であり、さ
らに多くの技術文献ならびに特許の主題とされている。
図である。4つの個々のFAMO8型EPROMセル1
0.11..12および13は、ワードライン14およ
び15と、ビットライン16および17とに結合される
ものとして示されている。図示されているように、各セ
ルは、ワードラインに結合された制御ゲートと、ビット
ラインと接地(VSS)との間に結合された他の2つの
電極とを有している。たとえば、セル12はワードライ
ン15およびビットライン16に結合されている。セル
10−13のような個々のメモリセルは周知であり、さ
らに多くの技術文献ならびに特許の主題とされている。
要約すると、もしもドイレン接合が電子なだれ降伏まで
駆動されると、高エネルギ電子は、比較的厚いゲート酸
化物層を貫通しかつフローティングゲート上で捉えられ
るようになる。70−ティングゲート上の電子の存在ま
たは欠如は、適当な電圧をワードラインおよびビットラ
インに与えることによって検出され、さらにこの態様に
おいて、70−ティングゲートの内容は情報のビットを
表わす。ワードラインおよびビットラインに対する典型
的な読取り電圧は、それぞれ5および2■である。
駆動されると、高エネルギ電子は、比較的厚いゲート酸
化物層を貫通しかつフローティングゲート上で捉えられ
るようになる。70−ティングゲート上の電子の存在ま
たは欠如は、適当な電圧をワードラインおよびビットラ
インに与えることによって検出され、さらにこの態様に
おいて、70−ティングゲートの内容は情報のビットを
表わす。ワードラインおよびビットラインに対する典型
的な読取り電圧は、それぞれ5および2■である。
個々のセルをプログラムするために、ワードラインおよ
びビットラインは十分に高い電圧まで上昇させられて電
子なだれを引き起こし、これによってビットラインから
電流が引出されてフローティングゲート上に電子を与え
る。従来のEPROMにおいて、プログラミングは、所
望のワードラインを15Vのオーダの比較的高い電圧源
に単に切換え可能な態様で接続し、一方で適当なビット
ラインを約9Vに結合することによって実現された。こ
の発明は、ワードラインをそのような高電圧源に結合す
る必要性を取り除き、さらにそれがより低い電圧源に結
合される一方でEFROMの個々のセルを急速な速度で
プログラムする能力を維持することを可能にするもので
ある。これは、ワードラインをより低い電位の電源に切
換え可能な態様で接続し、さらにその後ボンピング回路
によってワードラインをボンピングして、所望のセルを
急速にプログラムするのに十分な高電位までワードライ
ンを上昇させることによって実現される。この態様にお
いて、セルは次の式によって与えられるより低いワード
ライン電圧でプログラムされる。
びビットラインは十分に高い電圧まで上昇させられて電
子なだれを引き起こし、これによってビットラインから
電流が引出されてフローティングゲート上に電子を与え
る。従来のEPROMにおいて、プログラミングは、所
望のワードラインを15Vのオーダの比較的高い電圧源
に単に切換え可能な態様で接続し、一方で適当なビット
ラインを約9Vに結合することによって実現された。こ
の発明は、ワードラインをそのような高電圧源に結合す
る必要性を取り除き、さらにそれがより低い電圧源に結
合される一方でEFROMの個々のセルを急速な速度で
プログラムする能力を維持することを可能にするもので
ある。これは、ワードラインをより低い電位の電源に切
換え可能な態様で接続し、さらにその後ボンピング回路
によってワードラインをボンピングして、所望のセルを
急速にプログラムするのに十分な高電位までワードライ
ンを上昇させることによって実現される。この態様にお
いて、セルは次の式によって与えられるより低いワード
ライン電圧でプログラムされる。
V (WLプログラミング)=VPP’+VPLJPこ
こでVPPは与えられたプログラミング電圧であり、さ
らにVPUPMはボンピング回路によって与えられた付
加的な電位である。
こでVPPは与えられたプログラミング電圧であり、さ
らにVPUPMはボンピング回路によって与えられた付
加的な電位である。
この発明のワードラインボンピング回路の好ましい実施
例が第2図に示されている。そこに示されているように
、この回路は3つのトランジスタQl、Q2およびQ3
と、コンデンサC1とを含んでいる。トランジスタQ1
は、はぼ−3vのしきい値電圧を有するデプレション型
の素子である。
例が第2図に示されている。そこに示されているように
、この回路は3つのトランジスタQl、Q2およびQ3
と、コンデンサC1とを含んでいる。トランジスタQ1
は、はぼ−3vのしきい値電圧を有するデプレション型
の素子である。
トランジスタQ2およびQ3は、約0■のしきい値電圧
を有する真性トランジスタである。トランジスタQ1お
よびQ2は、第1のノードNと、典型的には12.5V
のオーダであるプログラミング電位VPPの電源との間
に直列に結合されたソースおよびトレインを有している
。トランジスタQ1およびQ2のゲートはともにそれら
の間のノードに結合されている。このような態様で結合
されているので、トランジスタQ2はダイオードを有効
に形成し、このダイオードはVPPからノードNに電流
を流すが、しかし逆の方向には流さない。デプレション
型素子Q1は、負荷抵抗をもたらし、これは選択されて
いないボンピング回路への電流を制限する。
を有する真性トランジスタである。トランジスタQ1お
よびQ2は、第1のノードNと、典型的には12.5V
のオーダであるプログラミング電位VPPの電源との間
に直列に結合されたソースおよびトレインを有している
。トランジスタQ1およびQ2のゲートはともにそれら
の間のノードに結合されている。このような態様で結合
されているので、トランジスタQ2はダイオードを有効
に形成し、このダイオードはVPPからノードNに電流
を流すが、しかし逆の方向には流さない。デプレション
型素子Q1は、負荷抵抗をもたらし、これは選択されて
いないボンピング回路への電流を制限する。
トランジスタQ3は、出力端子V OU T’とノード
Nとの間に結合され、そのゲートもまたノードNに結合
されている。トランジスタQ3はダイオードを有効に形
成し、このダイオードはノードNから端子VOUTに向
かってのみ電流を流し、さらに逆方向には流さない。ま
た、コンデンサC1の一方の端子もノードNに結合され
ている。コンデンサC1の他方の端子は、典型的には切
換えられた5Vの電源であるクロックされた電気信号源
に結合されている。
Nとの間に結合され、そのゲートもまたノードNに結合
されている。トランジスタQ3はダイオードを有効に形
成し、このダイオードはノードNから端子VOUTに向
かってのみ電流を流し、さらに逆方向には流さない。ま
た、コンデンサC1の一方の端子もノードNに結合され
ている。コンデンサC1の他方の端子は、典型的には切
換えられた5Vの電源であるクロックされた電気信号源
に結合されている。
損失を無視すると、第2図に示された回路は以下の態様
で作動する。コンデンサC1に与えられたクロック信号
がローのときに、ノードNは最初にほぼVPP、すなわ
ち典型的には12.5Vとなる。コンデンサC1に与え
られたクロック信号がハイ、たとえば5■に進むときに
、ノードNはVPP以上、すなわち理論的には17.5
V(12,5V+5V)まで上昇されるであろう。これ
は、端子VOUTにおける出力電圧をVPP以上、すな
わち理論的には17.5Vまで上昇させる。
で作動する。コンデンサC1に与えられたクロック信号
がローのときに、ノードNは最初にほぼVPP、すなわ
ち典型的には12.5Vとなる。コンデンサC1に与え
られたクロック信号がハイ、たとえば5■に進むときに
、ノードNはVPP以上、すなわち理論的には17.5
V(12,5V+5V)まで上昇されるであろう。これ
は、端子VOUTにおける出力電圧をVPP以上、すな
わち理論的には17.5Vまで上昇させる。
コンデンサのクロック信号がO■まで戻るときに、ノー
ドNは12.5VすなわちVPPまで降下するが、ダイ
オードQ3はカットオフされ、端子VOUTをVPP以
上の電圧に保持するであろう。
ドNは12.5VすなわちVPPまで降下するが、ダイ
オードQ3はカットオフされ、端子VOUTをVPP以
上の電圧に保持するであろう。
実際には、端子VOUTにおけるワードライン電圧は以
下の表現によって与えられるであろう。
下の表現によって与えられるであろう。
vOUT=vPP十B(△■ボンピングクロック)−2
ダイオード降下 ここで、Bはボンピングされたノードおよびボンピング
コンデンサ上の寄生容量の合計に対重るボンピングコン
デンサの比率である。
ダイオード降下 ここで、Bはボンピングされたノードおよびボンピング
コンデンサ上の寄生容量の合計に対重るボンピングコン
デンサの比率である。
単一のEPROMセルは極端に小さく、かつボンピング
回路は比較的大きいので、ボンピング回路がいくつかの
ワードラインによって共用されることが望ましい。好ま
しい実施例において、第2図のボンピング回路は、第3
図に描かれた態様において8つのワードラインによって
共用されている。第3図に示されるように、第2図のボ
ンピング回路20はライン22に結合され、このライン
22はワードラインWLO,WLI(図示せず)・・・
WL7のシーケンスの各々に結合される。個々のセルを
読出しかつ書込むための周知のデコーディング回路30
もまた各ワードラインに接続されている。
回路は比較的大きいので、ボンピング回路がいくつかの
ワードラインによって共用されることが望ましい。好ま
しい実施例において、第2図のボンピング回路は、第3
図に描かれた態様において8つのワードラインによって
共用されている。第3図に示されるように、第2図のボ
ンピング回路20はライン22に結合され、このライン
22はワードラインWLO,WLI(図示せず)・・・
WL7のシーケンスの各々に結合される。個々のセルを
読出しかつ書込むための周知のデコーディング回路30
もまた各ワードラインに接続されている。
各ワードラインはまた、その関連する個々のEPROM
セルを伴うワードラインWLOとボンピング回路20と
の間に結合されたデコーディングトランジスタ40の1
つまたはそれ以上の対を含んでいる。第3図に示された
回路に対して、トランシタ40および41の2つの対は
、セルがそこに接続されているワードラインの端部から
ボンピング回路20を分離するように示されている。メ
モリの物理的配列と、ボンピング回路20の特定の位置
と、ワードラインにおける損失とに従って、より多くの
またはより少ないワードラインが、より多くのまたはよ
り少ないトランジスタの対を介して個々のボンピング回
路に結合される。
セルを伴うワードラインWLOとボンピング回路20と
の間に結合されたデコーディングトランジスタ40の1
つまたはそれ以上の対を含んでいる。第3図に示された
回路に対して、トランシタ40および41の2つの対は
、セルがそこに接続されているワードラインの端部から
ボンピング回路20を分離するように示されている。メ
モリの物理的配列と、ボンピング回路20の特定の位置
と、ワードラインにおける損失とに従って、より多くの
またはより少ないワードラインが、より多くのまたはよ
り少ないトランジスタの対を介して個々のボンピング回
路に結合される。
デコーディングトランジスタ40.41の対の動作は以
下のとおりである。もしも、たとえばワードラインWL
7に結合された1つまたはそれ以」二のセルをプログラ
ムすることが望まれているならば、トランジスタ32お
よび33のゲートに与えられるデコードされた信号XT
7を発生する周知のデコーダが用いられる。デコーダの
ために、信号XT7はハイとなり、他のすへての信号×
TO−XT6はローとなるであろう。したがって、トラ
ンジスタ32および33のみがオンとなり、XT倍信号
受取る他のすべてのトランジスタ、たとえばトランジス
タ24および25はAフとなるであろう。
下のとおりである。もしも、たとえばワードラインWL
7に結合された1つまたはそれ以」二のセルをプログラ
ムすることが望まれているならば、トランジスタ32お
よび33のゲートに与えられるデコードされた信号XT
7を発生する周知のデコーダが用いられる。デコーダの
ために、信号XT7はハイとなり、他のすへての信号×
TO−XT6はローとなるであろう。したがって、トラ
ンジスタ32および33のみがオンとなり、XT倍信号
受取る他のすべてのトランジスタ、たとえばトランジス
タ24および25はAフとなるであろう。
相補的な信号XT7はローとなり、トランジスタ34お
よび35をターンオフすることによって、ワードライン
WL7をアース電位から切り離す。
よび35をターンオフすることによって、ワードライン
WL7をアース電位から切り離す。
他の相補的信号XTO−XT6はすべてハイとなるので
、他のすべてのワードラインWLO−WL6に関連する
対応するトランジスタはターンオンされてこれらのワー
ドラインをアース電位に接続する。たとえば、トランジ
スタ27および28はオンにされてワードラインWLO
をアース電位に接続する。この態様において、ボンピン
グ回路20は、上述の例においてアドレスされたワード
ラインWL7をボンピングするだけである。
、他のすべてのワードラインWLO−WL6に関連する
対応するトランジスタはターンオンされてこれらのワー
ドラインをアース電位に接続する。たとえば、トランジ
スタ27および28はオンにされてワードラインWLO
をアース電位に接続する。この態様において、ボンピン
グ回路20は、上述の例においてアドレスされたワード
ラインWL7をボンピングするだけである。
ボンピング回路20からの烏電圧がワードラインへ通過
させられることを保証するために、XT信号自身は、第
2図に関連して説明されたようなボンピングを用いてボ
ンピングされる。信号XTO−XT7はボンピングされ
て、ボンピングされたワードライン電圧以上の少なくと
も1つのMO8素子のしきい値となる。これは、第2図
のワードラインのボンピングにおけるコンデンサに結合
されたクロックよりも広い電圧レンジを有するクロック
でXT信号自体をボンピングすることによって達成され
る。
させられることを保証するために、XT信号自身は、第
2図に関連して説明されたようなボンピングを用いてボ
ンピングされる。信号XTO−XT7はボンピングされ
て、ボンピングされたワードライン電圧以上の少なくと
も1つのMO8素子のしきい値となる。これは、第2図
のワードラインのボンピングにおけるコンデンサに結合
されたクロックよりも広い電圧レンジを有するクロック
でXT信号自体をボンピングすることによって達成され
る。
この発明の上述の回路は、プログラムの速度を犠牲にす
ることなく、EPROMワードラインに内部的に与えら
れる電圧よりも低い、外部から与えられたプログラム電
圧によって、プログラムされ得るEPROMの製造を可
能にしている。この発明は好ましい実施例を参照して説
明されたが、この発明の範囲は特許請求の範囲によって
規定されるということが理解されるべきである。
ることなく、EPROMワードラインに内部的に与えら
れる電圧よりも低い、外部から与えられたプログラム電
圧によって、プログラムされ得るEPROMの製造を可
能にしている。この発明は好ましい実施例を参照して説
明されたが、この発明の範囲は特許請求の範囲によって
規定されるということが理解されるべきである。
第1図は、EPROMセルのアレイの一部と、関連する
ピッl−およびワードラインとを描く概略図である。 第2図は、ポンピング回路の概略図である。 第3図は、ボンピング回路が単一のワードラインに結合
されるM様を描<EPROMの一部の概略図である。 図において、10,11,12.13はFAMO8型E
’P ROMセル、14..151i’/−ドライン
、16.17はビットライン、20はボンピング回路、
30はデコーディング回路、40.41はデコーディン
グトランジスタの対を示づ。 特許出願人 アドバンスト・マイクロ・デイバ(は 力
12 る λ (
ピッl−およびワードラインとを描く概略図である。 第2図は、ポンピング回路の概略図である。 第3図は、ボンピング回路が単一のワードラインに結合
されるM様を描<EPROMの一部の概略図である。 図において、10,11,12.13はFAMO8型E
’P ROMセル、14..151i’/−ドライン
、16.17はビットライン、20はボンピング回路、
30はデコーディング回路、40.41はデコーディン
グトランジスタの対を示づ。 特許出願人 アドバンスト・マイクロ・デイバ(は 力
12 る λ (
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1) 光にさらすことによって消去されるプログラマ
ブルリードオンリメモリであって、第1の複数のワード
ラインと、 第2の複数のビットラインと、 1本のビットラインと1本のワードラインとにそれぞれ
接続された複数のメモリセルと、前記ワードラインのそ
れてれに選択的に接続可能なワードラインボンピング回
路と、 前記ワードラインの各々に接続されて単一のワードライ
ンを前記ボンピング回路に選択的に接続するデコーダと
を備えた、プログラマブルリードオンリメモリ。 (2) 前記ワードラインボンピング回路は、電気信号
の第1の信号源と第1のノードとの間に接続された第1
のダイオード手段と、出力端子と前記第1のノードとの
間に接続された第2のダイオード手段と、 電気信号のクロックされた信号源と前記第1のノードと
の間に接続されたコンデンサ手段とをさらに含む、特許
請求の範囲第1項記載のプログラマブルリードオンリメ
モリ。 (3) 前記第1および第2のダイオード手段は、前記
出力端子に向かって電流を流すが前記電気信号の第1の
信号源に向かっては電流を流さない、特許請求の範囲第
2項記載のプログラマブルリードオンリメモリ。 (4) 前記第1のダイオード手段は、前記第1のノー
ドと前記電気信号源との間に接続された第1の真性電界
効果トランジスタを含む、特許請求の範囲第3項記載の
プログラマブルリードオンリメモリ。 (5) 前記第2のダイオード手段は、前記第2のノー
ドと前記出力端子との間に接続された第2の真性電界効
果トランジスタを含む、特許請求の範囲第4項記載のプ
ログラマブルリードオンリメモリ。 (6) 前記ワードラインボンピング回路は、前記第1
のダイオード手段と前記第1の電気信号源との間に接続
された電流制限手段をさらに含む、特許請求の範囲第2
項記載のプログラマブルリードオンリメモリ。 (7) 前記電流制限手段は、デプレションモードのト
ランジスタを含む、特許請求の範囲第6項記載のプログ
ラマブルリードオンリメモリ。 (8) 前記デコーダは、トランジスタの対を複数個含
み、多対は、異なるワードラインに結合されかつアドレ
ス信号を受取るように接続される、特許請求の範囲第1
項記載のプログラマブルリードオンリメモリ。 くっ) 多対の第1のトランジスタは前記ボンピング回
路と前記メモリセルとの間に接続され、多対の第2のト
ランジスタは前記ワードラインと接地との間に接続され
る、特許請求の範囲第8項記載のプログラマブルリード
オンリメモリ。 (10) 第1のアドレス信号が前記多対の第1のトラ
ンジスタに与えられかつ相補的アドレス信号が多対の第
2のトランジスタに同時に与えられる、特許請求の範囲
第9項記載のプログラマブルリードオンリメモリ。 (11) 前記アドレス信号は第2のボンピング回路に
結合される、特許請求の範囲第10項記載のプログラマ
ブルリードオンリメモリ。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US60733784A | 1984-05-04 | 1984-05-04 | |
US607337 | 1984-05-04 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60246098A true JPS60246098A (ja) | 1985-12-05 |
Family
ID=24431853
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP60095318A Pending JPS60246098A (ja) | 1984-05-04 | 1985-05-02 | プログラマブルリードオンリメモリ |
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JP (1) | JPS60246098A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JP3137993B2 (ja) * | 1991-01-16 | 2001-02-26 | 富士通株式会社 | 不揮発性半導体記憶装置 |
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Family Cites Families (3)
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GB2094086B (en) * | 1981-03-03 | 1985-08-14 | Tokyo Shibaura Electric Co | Non-volatile semiconductor memory system |
-
1985
- 1985-05-02 JP JP60095318A patent/JPS60246098A/ja active Pending
- 1985-05-02 EP EP85303131A patent/EP0164868A3/en not_active Withdrawn
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4967399A (en) * | 1987-08-03 | 1990-10-30 | Oki Electric Industry Co., Ltd | Erasable and programmable read-only memory system |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0164868A3 (en) | 1987-09-02 |
EP0164868A2 (en) | 1985-12-18 |
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