JPS6023933A - マスク集束型カラ−受像管 - Google Patents

マスク集束型カラ−受像管

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Publication number
JPS6023933A
JPS6023933A JP13106583A JP13106583A JPS6023933A JP S6023933 A JPS6023933 A JP S6023933A JP 13106583 A JP13106583 A JP 13106583A JP 13106583 A JP13106583 A JP 13106583A JP S6023933 A JPS6023933 A JP S6023933A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mask
masks
shadow
color picture
picture tube
Prior art date
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Pending
Application number
JP13106583A
Other languages
English (en)
Inventor
Eiji Kanbara
蒲原 英治
Kazuyuki Kiyono
和之 清野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP13106583A priority Critical patent/JPS6023933A/ja
Publication of JPS6023933A publication Critical patent/JPS6023933A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J29/00Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
    • H01J29/46Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the ray or beam, e.g. electron-optical arrangement
    • H01J29/80Arrangements for controlling the ray or beam after passing the main deflection system, e.g. for post-acceleration or post-concentration, for colour switching
    • H01J29/81Arrangements for controlling the ray or beam after passing the main deflection system, e.g. for post-acceleration or post-concentration, for colour switching using shadow masks

Landscapes

  • Electrodes For Cathode-Ray Tubes (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明はスクリーン面に近接対向して2枚のマスクを眠
気的に治緑して対向配置し、1子ビームに対してマスク
部あるいは王にマスク部で静4レンズ系を形成するマス
ク集束型カラー受像管に1刃し、特にそのマスク構体に
関するものである。
〔発明の技術的背景とその問題点〕
シャドウマスク方式のカラー受像管はシャドウマスクの
存在のために電子ビームの利用率が2O4程度と低くス
クリーン面の輝度が制限されてしまう。従つ−C輝度を
向上するための最も簡単な方法はシャドウマスクのアパ
ーチャ径を大きくして電子ビームの利用率を高めること
である。しかし乍ら単にアパーチャ径を大きくしただけ
では解像度の劣化や色純度の低下を招く。そこでアパー
チャを通過した電子ビームを強く集束してスクリーン面
の螢光体に到達する電子ビームを正確に対応させ乍らそ
のスポット形状を小G<抑制する方法が考えられる。こ
のための手段としてマスク部または主にマスク部にしい
て静電レンズを形成させる後段加速管或はマスク集束管
が古くから提案されている。このようなカラー受像管は
、例えば米国%許第3.892,995号、米国特許第
2,971,117号、米国特許第4.112,563
号、或は特公昭47−31265号公報、実公昭45−
4819号公報などに示されて力る。之等の後段加速管
或はマスク集束管のうち2枚マスクの構成によ〕静電レ
ンズを形成させるものは、2枚のマスクに異なる屯位を
供給するために1パーチヤの開孔部を除いたマスク全面
に、例えば絶縁体を配して絶縁保持する構造が考えられ
る。
しかし乍らこのようなマスク構造を有するものは絶縁体
部での沿面リークによる絶縁破壊や、絶縁体への電子ビ
ーム衝撃による絶縁体の帯電などの不都合が生じ実用性
に欠けるものである。
このような欠点を防止するために、例えば特開昭58−
97243号公報では、2枚のマスクの少なくともアパ
ーチャを有する有効部には絶縁体を配置せず有効部外で
絶縁保持する横置も考えられている。しかし乍らこの(
jq造では2枚のマスクの有効部は空間的に離間してお
シ、2枚のマスクに異なる重圧を供給した時2枚のマス
ク間に静電力によって互に引き合う作用が生じるためマ
スク間隔が狭くなり、ひいては絶縁破壊を生じてしまう
問題を有しており、同じく実用性に欠けるものである。
〔発明の目的〕
本発明の目的は、2枚マスク構成により静電レンズを形
成させるマスク集束型カラー受像管において、2枚のマ
スク間に働く静電力によるマスク間隔の挟まりを防止し
、且つ絶縁体部での帯電や沿面リークを極力防止するよ
うにしたマスク集束型カラー受像管を得ることにある。
〔発明の概要〕
本発明はシャドウマスクの有効部の2枚のマスクの間に
は少くとも5点以上の局部的な絶縁支持部を配すること
によってマスク間隔を一定とし且つ絶縁支持部での帯電
や沿面リークを大幅に減少せしめるマスク集束型カラー
受像管である。
〔発明の実施例〕
以[図面を参照しつつ本発明を詳1?mに説明する。
JI図は本発明のマスク集束型カラー受像管の概略構成
例を示すものである。第1図に示すマスク集束型カラー
受像管は、実質的に矩形状のスクリーン面(1)を有す
るフェースプレート(2)とこのフェースプレート(2
)の側壁部からファンネル(3)を介して連結されたネ
ック(4)と、ネック内に配設された電子銃(57と、
ファンネル(3)からネック(4)にかけての外壁に装
着された偏向装置(6)と、スクリーン(1)に所定間
隔をもって近接対向して配置された2枚のシャドウマス
ク(7)及び(8)と、ファンネル(3)の内壁にネッ
ク(4)の一部まで塗布された導電膜(9)とから構成
されている。電子銃(5)より射出された3本の電子ビ
ームQ(1、(11)及び+12は加速集束され且つ偏
向装置(6)により偏向され、2枚のシャドウマスク(
8)及び(7)によって各々色選択且つ集束されてスク
リーン面(1)に到達する。スクリーン面(1)には3
本の1子ビームに対応して3色の螢光体部がスト2イブ
状に設け′られで〉す、・武芋ビームの衝撃によってそ
れぞれの1電子ビームに応じた螢光体部が発光する。こ
の時螢光体0りの上には・it fビーム衝撃による発
光をフェースプレート外面に効率よく引き出すためにA
1等の金属薄膜(図示せず)が設けられており、この人
l薄膜には覗子銃側の第1のシャドウマスク(8)の周
辺部からコネクターQυ、内部導電膜(9)及び高圧端
子θ9を介して第1のアノード高電圧が供給される。ま
たスクリーン側に配置された第2のシャドウマスク(力
には同じくコネクター(2湯及び高圧端子(2(l介し
て第1のアノード高電圧よりは低い第2のアノード高電
圧が供給される。ここで第1のシャドウマスク(8)の
周辺部(8b)はマスクフレーム四に支持固定され、マ
スクフレームOeは弾性を有する接続子08を介してフ
ェースプレート側壁に設けられた係止具Qnに係止され
ている。同じく第2のシャドウマスク(7)の周辺部(
7L1)は絶縁機構を有する復孜のタイビード(図示せ
ず)によってマスクフレームtteに支持固定され、同
時に第1及び第2のシャドウマスク(8)及び(7)の
周辺部(7b)及び(8b)の間に絶縁体(ハ)が設け
られている。
また第1及び第2のシャドウマスク(8)及び(7)の
多数のアパーチャを有する実質的に矩形状の有効部(8
a)及び(7a)の間はその大部分は空間的に離間して
いるが、小領域で局部的に複数の絶縁体G■が設けられ
ている。第2図はこのようなシャドウマスクの一部を拡
大して示すもので、第1及び第2のシャドウマスク(8
)及び(7)の有効部間の絶縁体(50はアパーチャl
5IIO及び(57)の部分以外に設けられて≧す、之
等の絶縁体GOは2枚のシャドウマスクに異なる高電圧
が供給された時に生ずる静4力によって引き合い2枚の
マスク間隔が狭くなる作用を効果的に防止する。また複
数のアパーチャ領域を含む外部線内に設けられる応等絶
縁体(!50のシャドウマスクと接する面積は、この外
郭線内のアパーチャ部を除いたシャドウマスク而遺より
も小さくする方が好ましい。このようにすることによっ
て、絶縁体部での帯4や沿面リークを大幅に減少させる
ことができる。このような絶縁体(51を局部的に設け
る平面的位置及び個数はシャドウマスクの大きさ、機械
的強度及びシャドウマスク間の電位差によっても異なる
が、第3図に示すよう1(有効部(7a)、(sa)の
中央点とこの中央点をはさんで各対角線上の点との合計
5点設けることが実用的に好ましい。また絶縁体G@の
設置数は多い程2枚のシャドウマスク間隔を一定に保持
することができるが、帯電や沿面リークの問題からあま
り多くすることは好ましくなく、有効部の水平軸、垂直
軸及び対角軸を含んで中央点を通る同一の各線上には多
くとも3点以内にすることが好ましい。
次に以上のような構成のシャドウマスクの製作法につい
て説明する。
第4図に示すように、基準孔I30を有する平坦な第1
のフラットマスク0υを基準ピン02を有する箱型の例
えばステンレス等からなる定板(ハ)の上に基準ピン0
乃と基準孔(至)を一致させて載置する。次いで周辺部
(至)に絶縁体フィルムシート(至)を、有効部の例え
ば第3図に示すように任意の部位に;if!l緑体フィ
ルムシート(5■を載置する。ついで同じく基準JL 
(31を有するもう1枚の第2の7ラツトマスク(41
を基準ピン(3秒に合亡て載置し、最後に鉄板豊からな
る上板(4υを載置する。フラットマスク材は通常は、
純鉄からなる厚さ0.1 am乃至0.3 mrxの薄
板が用いられ、第4図の段1イでは多数のアパーチャ0
4)。
(45) ハ既にエツチング等により穿設されている。
 Lまた箱型の定板(3Jの下部にはヒーター(42及
び電磁石(43が設けられており、全ての部材を設置し
た後′電磁石(43を動作させ、磁力により定板c3国
と上板(旬との間のフラットマスクC31)及び四を密
着させる。 1次いでヒーター(44を動作させてフラ
ットマスクを し加熱させ熱溶解したパラフィン■を2
枚のフラノ 1トマスクノ有効部に注入する。次いでヒ
ーター(431jによる加熱を停止し注入したパラフィ
ン(4(イ)が冷却 信置形化して後電磁石(43を停
止しパラフィンG14)によって密着固定さルた2枚の
フラットマスクC31) 、 (419を定板(至)か
ら取り外す。このようにして製作された2枚の7ラツト
マスクはそれぞれのアパーチャC34) 、 (aが旧
しく一対一に対応して配置され、且つ 12枚のフラッ
トマスクは全面においてパラフィンと絶縁体フィルムシ
ートをはさんで密着した伏、Iぷで固定された状態とな
る。
次いで固定g:hた2枚のフラットマスクはプレス成形
によって同時に成形され、第5図に示すように曲面状の
有効部(40と、この有効部を支持する周辺部(47)
を有する形状に吸作される。
次に第1のシャドウマスク(8)の周辺部をマスクフレ
ームαeに溶接等により固定し、第2のシャドウマスク
(7)は絶縁1構を有するタイビードl!iυを介〜て
マスクフレーム(IIPに溶接固定する。このようCし
て構成されたシャドウマスク構体を再び加部7アパーチ
ヤ(財)、(49を含む2枚のシャドウマスク田に充填
されているパラフィンを熱溶解また・は化を的溶解によ
り除去する。次いで2枚のンヤドウンスクの有効部間の
A録体フイルムンート60)だけ辷化学的溶解により第
2図に示すような状I川にまご選択的て除去する。
以上の実施例で用いられる絶縁体フィルムシートとして
はポリイミドフィルム、例えば商品名力lトンを用贋る
ことができる。之等のポリイミド系の化学的溶解剤とし
ては水酸化ナトリウムを用いることができる。また耐熱
性接着剤の場合はポリイミド系の例えば商品名トレニー
スを用いることができ、その他セラミック系やガラス系
の絶縁体を用いることもできる。
また以上の実施例については、2枚のシャドウマスクの
アパーチャ部に形成されるレンズ系は実質的に円筒レン
ズ系のもので説明したが、本発明はこれに限ることなく
4極子レンズ系或はダイポール系レンズであってもよい
〔発明の効果〕
以上のように本発明によれば、2枚のシャドウマスクの
有効部間に局部的に絶縁体支持部を設けることによって
2枚のシャドウマスク間の電位差による静電力によって
生ずるマスク間隔の狭小化を効果的に防止し、有効部全
面に絶縁体支持部を設ける場合に比して絶縁体支持部で
の帯電や沿面リークを大幅に減少せしめ実用性に富んだ
マスク集束型カラー受像管を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
第1因は本発明のマスク集束型カラー受像管の概略構成
を示す断面図、第2図は第1図の要部を拡大して示す模
式図、第3図はシャドウマスクの平面を示す模式図、第
4図及び葱5図はシャドウマスク構体の製作法及び組立
を説明するだめの分解斜視図である。 (7)・・・第2のシャドウマスク (8)・・・第1のシャドウマスク t′5■・・絶縁体 代理人 弁理士別 近 憲 佑 (ほか1名)第 1 
図 第 2 図 第 3 図 第 5 図 −157−

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 l)それぞれ一定の曲面状に多数のアパーチャを有する
    実質的に矩形状の有効部と前記有効部につながる周辺部
    からなる2枚のマスクを所定間隔をもって固定保持した
    マスク集束型カラー受像管において、前記有効部の前記
    2枚のマスクの間には少なくとも5点以上の局部的外絶
    縁体支持部を有することを特徴とするマスク集束型カラ
    ー受像管。 2)前記絶縁体支持部が前記実質的に矩形状の有効部の
    中央点と前記中央点をはさんで各対角線上の合計5点で
    あることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のマス
    ク集束型カラー受像管。 3)前記各絶縁体支持部の前記有効部と平面的に接する
    外郭線内の前記絶縁体支持部の前記有効部と接する面積
    は前記外郭線内の前記有効部のアパーチャを有しない部
    分の面積より小さいことを特徴とする特許請求の範囲第
    1項記載のマスク集束型カラー受像管。
JP13106583A 1983-07-20 1983-07-20 マスク集束型カラ−受像管 Pending JPS6023933A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62232839A (ja) * 1986-03-25 1987-10-13 ノキア(ドイッチュランド)ゲー.エム.ベー.ハー 平形画像再生装置の制御電極

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62232839A (ja) * 1986-03-25 1987-10-13 ノキア(ドイッチュランド)ゲー.エム.ベー.ハー 平形画像再生装置の制御電極

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