JPS60238746A - 炭化水素ガス濃度検知装置 - Google Patents
炭化水素ガス濃度検知装置Info
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- JPS60238746A JPS60238746A JP59094644A JP9464484A JPS60238746A JP S60238746 A JPS60238746 A JP S60238746A JP 59094644 A JP59094644 A JP 59094644A JP 9464484 A JP9464484 A JP 9464484A JP S60238746 A JPS60238746 A JP S60238746A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は炭化水素全含有する常温〜300℃の気体流体
中の炭化水素ガス濃度検知装置に関する。
中の炭化水素ガス濃度検知装置に関する。
本発明でいう炭化水素ガスとは常温〜300℃において
ガス状であり3〜4μの範囲内の赤外波長域に−CH3
,−CH2−。
ガス状であり3〜4μの範囲内の赤外波長域に−CH3
,−CH2−。
=CH2,=CH−の伸縮振動に基づく赤外吸収帯金持
つパラフィン系、オレフィン系炭化水素及びそれらが結
合した化合物の少なくとも1つt含有するガス体をいう
。
つパラフィン系、オレフィン系炭化水素及びそれらが結
合した化合物の少なくとも1つt含有するガス体をいう
。
一般に、炭化水素ガス体の濃度検知装置としては、水素
炎イオン化検知器を応用したガスクロマトグラフ、赤外
線吸収を応用したもの、可視光及び紫外光吸収全応用し
たもの、レーザー光によるラマン散乱全応用したもの等
が知られている。
炎イオン化検知器を応用したガスクロマトグラフ、赤外
線吸収を応用したもの、可視光及び紫外光吸収全応用し
たもの、レーザー光によるラマン散乱全応用したもの等
が知られている。
従来実用されている炭化水素濃度検知装置の多くは、水
素炎イオン化検知器を応用したもの及び赤外線吸収全応
用したものである。前者は、水素炎中に有機物質が混入
してくると炭素を中心としたイオン會発生しそのイオン
の数は有機物質の1に比例する事ケ原理とし、後者は炭
化水素による赤外線吸収全原理とするものである。炭化
水素分子による赤外線吸収は気相における定1分析にお
いてもLambert −Beerrの法則が成立し、
入射赤外線強度1o+透過赤外線強度I、赤外線吸光度
E、赤外線吸光係数に、炭化水素濃度Cとすると次の式
が成立する。
素炎イオン化検知器を応用したもの及び赤外線吸収全応
用したものである。前者は、水素炎中に有機物質が混入
してくると炭素を中心としたイオン會発生しそのイオン
の数は有機物質の1に比例する事ケ原理とし、後者は炭
化水素による赤外線吸収全原理とするものである。炭化
水素分子による赤外線吸収は気相における定1分析にお
いてもLambert −Beerrの法則が成立し、
入射赤外線強度1o+透過赤外線強度I、赤外線吸光度
E、赤外線吸光係数に、炭化水素濃度Cとすると次の式
が成立する。
1゜
E = lay −7−= K−C
赤外線吸光係数に請求める為には濃度既知の炭化水素試
料での赤外線吸光係数求めれば算出でき、赤外線吸光係
数がわかれば成る赤外線吸光度における炭fヒ水素の絶
対濃度がわかる。
料での赤外線吸光係数求めれば算出でき、赤外線吸光係
数がわかれば成る赤外線吸光度における炭fヒ水素の絶
対濃度がわかる。
しかしいずれも検知装置中にサンプルガスを導入させる
方法會とっており、応答速度が遅い事、導入管のメンテ
ナンス(炭化水素の冷却結露)の問題でプロセス計器と
して充分な性能葡持つものがない。
方法會とっており、応答速度が遅い事、導入管のメンテ
ナンス(炭化水素の冷却結露)の問題でプロセス計器と
して充分な性能葡持つものがない。
本発明者等は上記の難点全解消すべく検討した結果、プ
ロセス計器として充分な性能を備え、赤外線吸収を応用
した炭化水素ガス濃度検知装置を発明するに到った。
ロセス計器として充分な性能を備え、赤外線吸収を応用
した炭化水素ガス濃度検知装置を発明するに到った。
尚、炭化水素粒子の紫外線によるレーリー散乱を応用し
た炭化水素ガス検知装置も検討したが、この方式は粒子
の大きさによる影響が大きく炭化水素ガス濃度検知装置
としては適性がない事が判明した。
た炭化水素ガス検知装置も検討したが、この方式は粒子
の大きさによる影響が大きく炭化水素ガス濃度検知装置
としては適性がない事が判明した。
即ち本発明は炭化水素全含有する常温〜300℃の気体
流体中の炭化水素濃度を連続的に検知する装置において
、ダクトの両側面に開口部全般け、そこに赤外発光部、
赤外フィルター及び赤外検知部全配置してなる炭化水素
ガス濃度検知装置を提係するものである。
流体中の炭化水素濃度を連続的に検知する装置において
、ダクトの両側面に開口部全般け、そこに赤外発光部、
赤外フィルター及び赤外検知部全配置してなる炭化水素
ガス濃度検知装置を提係するものである。
本発明+d、ダクトの両側面に開ロ部′f!:設け、赤
外発光部と赤外受光部?対向設置することを基本構成と
する。
外発光部と赤外受光部?対向設置することを基本構成と
する。
尚、赤外受光部は赤外フィルターと赤外検知部より構成
されるものとする。
されるものとする。
第1図により詳述すると、ダクト(1)の両側面に開口
部(2,2’)全段は赤外発光部(3)と前部に赤外フ
ィルター(4)ヲ配した赤外検知部(5)全対向する様
に設置する。
部(2,2’)全段は赤外発光部(3)と前部に赤外フ
ィルター(4)ヲ配した赤外検知部(5)全対向する様
に設置する。
赤外発光源としては赤外発光ダイオード、赤外発光ラン
プ例えばタングステンランプ 及び水銀灯、赤外発光発
熱体例えば炭化ケイ素焼結体や酸化ジルコニウム(含酸
化イツトリウム。
プ例えばタングステンランプ 及び水銀灯、赤外発光発
熱体例えば炭化ケイ素焼結体や酸化ジルコニウム(含酸
化イツトリウム。
酸化トリウム)の焼結体、その他ニクロム線を巻いたも
のや炭素アーク等がある。
のや炭素アーク等がある。
赤外フィルターとしては色ガラスフィルター、多層膜干
渉フィルターがあるが、フィルターとしては、空気によ
る赤外吸収がなくかつ炭化水素による赤外吸収の大きい
3〜4μの赤外波長域において赤外透過率の良好なもの
會選択する。
渉フィルターがあるが、フィルターとしては、空気によ
る赤外吸収がなくかつ炭化水素による赤外吸収の大きい
3〜4μの赤外波長域において赤外透過率の良好なもの
會選択する。
赤外検知部(5)は赤外センサー、星光系光学材料、増
幅器から構成される。赤外センサーは大別すると量子型
と熱型がある。
幅器から構成される。赤外センサーは大別すると量子型
と熱型がある。
量子型は赤外線全光童子としてとらえそのエネルギーに
よる電離作用の結果としての電気伝導度の変化をとらえ
るものである。
よる電離作用の結果としての電気伝導度の変化をとらえ
るものである。
i子型センサーにはPbS、 Pb5e 、 PbTe
、 InSb 、 l1ryCdTe (7)ような
結晶化合物半導体を利用したものと、Ge : /ht
、 、 Ge :H(1。
、 InSb 、 l1ryCdTe (7)ような
結晶化合物半導体を利用したものと、Ge : /ht
、 、 Ge :H(1。
Ga : Asのように母体に不純物を混入させた結晶
体全利用した光伝導セルがあるが、これらのタイプのも
のは一般に、特定赤外波長に対して非常に高い検出感度
會示し時定数も小さいが使用時に冷却全必要とする為、
用途は特殊なものに限られる。
体全利用した光伝導セルがあるが、これらのタイプのも
のは一般に、特定赤外波長に対して非常に高い検出感度
會示し時定数も小さいが使用時に冷却全必要とする為、
用途は特殊なものに限られる。
熱型は、赤外線を熱としてとらえその熱エネルギーによ
る温度上昇ラミ1気的変化、光学的変化等の物理1の変
化としてとらえるものである。弊屋センサーとしては次
の様なものがある。
る温度上昇ラミ1気的変化、光学的変化等の物理1の変
化としてとらえるものである。弊屋センサーとしては次
の様なものがある。
の 熱起電力全利用した熱電対列(サーモパイル)があ
り、これはB1−8b、 B1−MoやInch−To
等の薄膜熱電対列金用いている。■ 熱による電気抵抗
変化音利用した抵抗微熱計(ボロメータ)があり、これ
にはNi + P t 、 Aqt、などの金属薄片を
用いるものやNi、 Mn、Goなどの酸fヒ物全適当
に混合して焼結した半導体ケ用いるもの等がある。■
熱による小室内のガス圧の変化を利用した一種の気体温
度計である気体セルにューマテイツクセル)があり、そ
の中には不活性ガス例えdキセノン、ヘリウムケ用い熱
によるガス圧変化全光学的変化としてとらえるゴーレイ
セルと、電気容量変化としてとらえるマイクロホン検知
器等がある。■ 熱による電荷発生(焦電効果)を利用
した焦電型センサー(パイロ)があり、これにll″1
tPbTiO3(チタン酸鉛)、LsNbQ LZ T
CLOa (リチウム酔タンタル)、I πS(三値fヒゲリシン)、SBN、 PZTなどの単
結晶又はセラミックやWF、(ポリフッ化ビニリデン)
などの高分子フィルムを用いるものがある。
り、これはB1−8b、 B1−MoやInch−To
等の薄膜熱電対列金用いている。■ 熱による電気抵抗
変化音利用した抵抗微熱計(ボロメータ)があり、これ
にはNi + P t 、 Aqt、などの金属薄片を
用いるものやNi、 Mn、Goなどの酸fヒ物全適当
に混合して焼結した半導体ケ用いるもの等がある。■
熱による小室内のガス圧の変化を利用した一種の気体温
度計である気体セルにューマテイツクセル)があり、そ
の中には不活性ガス例えdキセノン、ヘリウムケ用い熱
によるガス圧変化全光学的変化としてとらえるゴーレイ
セルと、電気容量変化としてとらえるマイクロホン検知
器等がある。■ 熱による電荷発生(焦電効果)を利用
した焦電型センサー(パイロ)があり、これにll″1
tPbTiO3(チタン酸鉛)、LsNbQ LZ T
CLOa (リチウム酔タンタル)、I πS(三値fヒゲリシン)、SBN、 PZTなどの単
結晶又はセラミックやWF、(ポリフッ化ビニリデン)
などの高分子フィルムを用いるものがある。
集光系光学材料として赤外センサーの前部に赤外透過レ
ンズ例工ば石英レンズやシリコンレンズ等を用いるか、
赤外センサー’If逆向き圧してその後部に白金、金、
銀、アルミ、クロム、ニッケル等の金属全蒸着し鏡面と
した赤外反射凹面鏡音用いる。
ンズ例工ば石英レンズやシリコンレンズ等を用いるか、
赤外センサー’If逆向き圧してその後部に白金、金、
銀、アルミ、クロム、ニッケル等の金属全蒸着し鏡面と
した赤外反射凹面鏡音用いる。
本発明者等は、赤外発光部及び赤外受光部を熱及び炭化
水素汚染から保護する手段も検討した。第2図によジ詳
述すると、赤外発光部及び赤外受光部の前に赤外透過透
明板(6,6’)例えば石英ガラス等會設置する。更に
、その透明板(6,60會熱及び炭化水素汚染から保護
する為透明板(6,6’)の前部に冷清浄送気部(8,
8’)i設はエアーパージ金貨なう。冷清浄送気体とし
ては空気又は不活性ガス例えば窒素ガス等を用いる。又
、非測定時あるいは冷清浄送気停止時にはシャッター(
7、7’)により測定口全遮蔽し、炭化水素等による赤
外透過透明板(6,6’)の汚染を防止して測定精度の
保持全可能とした。又、ガス流体の微量検出方法にはい
ろいろな方法が考えられるが、ガス流体の測定間隔を大
きくするすなわち光路長全長くすることが最も良い。第
3図により詳述すると、ダク) (1)の両側面開口部
(2゜2′)に前述金属全蒸着し鏡面とした赤外反射平
面鏡(9,9勺全複数個配置し赤外発光部と受光部との
間欠多重光路とする。但し、多重光路方式とした場合は
実際の炭化水素濃度に対しての検出量は多重倍となる事
に注意する。
水素汚染から保護する手段も検討した。第2図によジ詳
述すると、赤外発光部及び赤外受光部の前に赤外透過透
明板(6,6’)例えば石英ガラス等會設置する。更に
、その透明板(6,60會熱及び炭化水素汚染から保護
する為透明板(6,6’)の前部に冷清浄送気部(8,
8’)i設はエアーパージ金貨なう。冷清浄送気体とし
ては空気又は不活性ガス例えば窒素ガス等を用いる。又
、非測定時あるいは冷清浄送気停止時にはシャッター(
7、7’)により測定口全遮蔽し、炭化水素等による赤
外透過透明板(6,6’)の汚染を防止して測定精度の
保持全可能とした。又、ガス流体の微量検出方法にはい
ろいろな方法が考えられるが、ガス流体の測定間隔を大
きくするすなわち光路長全長くすることが最も良い。第
3図により詳述すると、ダク) (1)の両側面開口部
(2゜2′)に前述金属全蒸着し鏡面とした赤外反射平
面鏡(9,9勺全複数個配置し赤外発光部と受光部との
間欠多重光路とする。但し、多重光路方式とした場合は
実際の炭化水素濃度に対しての検出量は多重倍となる事
に注意する。
かかる構成を有する本発明の検知装置を用いることによ
り、気体流体中の炭化水素濃度を簡単に、信頼性よく検
知することができる。
り、気体流体中の炭化水素濃度を簡単に、信頼性よく検
知することができる。
第1図は本発明の基本構造図、第2図は装置ケ熱及び炭
化水素付着より保護する為の周辺機材を設置する場合の
構造図、第3図は多重光路系とする場合の構造図である
。 1・・・・・・m気p−り)、2 、2’・山・・排気
ダクト開口部、3・・・・・・赤外発光部、 4・・・
・・・干渉フィルター、5・・・・・・赤外検知部、6
.6’・・・・・・透明保護板、7,7′・・曲シャッ
ター、8.8′・・・・・・冷清浄不活性ガス送気部、
9,9′・・用赤外反射平面鏡。 出 願 人 メイトサイエンス株式会社同 セーレン株
式会社 代理人 弁理士 用瀬良治 同 弁理士 斉 藤 武 彦
化水素付着より保護する為の周辺機材を設置する場合の
構造図、第3図は多重光路系とする場合の構造図である
。 1・・・・・・m気p−り)、2 、2’・山・・排気
ダクト開口部、3・・・・・・赤外発光部、 4・・・
・・・干渉フィルター、5・・・・・・赤外検知部、6
.6’・・・・・・透明保護板、7,7′・・曲シャッ
ター、8.8′・・・・・・冷清浄不活性ガス送気部、
9,9′・・用赤外反射平面鏡。 出 願 人 メイトサイエンス株式会社同 セーレン株
式会社 代理人 弁理士 用瀬良治 同 弁理士 斉 藤 武 彦
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、炭化水素を含有する常温〜300℃の気体流体中の
炭化水素濃度衾連続的に検知する装置において、ダクト
(1)の両側面に開口部(2,2”li設け、そこに赤
外発光部(3)、赤外フィルター(4)及び赤外検知部
(5権配置することを特徴とする炭化水素ガス濃度検知
装置。 2、前記赤外フィルターの赤外線透過波長域全3〜4μ
の範囲内とする特許請求第1項記載の炭化水素ガス濃度
検知装置。 3 前記ダクト(1)K配置する赤外発光部(3)、赤
外フィルター(4)及び/又は赤外検知部(5)葡熱及
び炭化水素付着より保護する透明板(6,6勺及び/又
はシャッター(7、7’)及び/又は冷清浄不活性ガス
送気部(8,8’)全配置することt特徴とする特許請
求第1項記載の炭化水素ガス濃度検知装置。 4、前記ダクト(1)の側面開口部(2,2”1間に鏡
面(9,9勺全複数個配置し赤外発光部(3)、赤外受
光部間で多重光路とし光路長音長くすることを特徴とす
る特許請求第1項又は第3項記載の炭化水素ガス濃度検
知装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59094644A JPS60238746A (ja) | 1984-05-14 | 1984-05-14 | 炭化水素ガス濃度検知装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59094644A JPS60238746A (ja) | 1984-05-14 | 1984-05-14 | 炭化水素ガス濃度検知装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60238746A true JPS60238746A (ja) | 1985-11-27 |
Family
ID=14115968
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59094644A Pending JPS60238746A (ja) | 1984-05-14 | 1984-05-14 | 炭化水素ガス濃度検知装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60238746A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02249951A (ja) * | 1989-03-24 | 1990-10-05 | Toho Gas Co Ltd | ガスセンサのガス検知部構造 |
EP0456202A2 (en) * | 1990-05-11 | 1991-11-13 | Applied Materials, Inc. | Particle monitor system and method |
US5545897A (en) * | 1994-10-04 | 1996-08-13 | Santa Barbara Research Center | Optically-based chemical detection system |
US5578829A (en) * | 1994-05-23 | 1996-11-26 | Texas Instruments Incorporated | On-line monitor for moisture contamination in HCL gas and copper contamination in NH4 OH solutions |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5536790A (en) * | 1978-06-26 | 1980-03-14 | Measurex Corp | Gas measuring device with calibration means* and method of measuring gas |
JPS5653447A (en) * | 1979-08-29 | 1981-05-13 | Econics Corp | Flue gas analyzer |
-
1984
- 1984-05-14 JP JP59094644A patent/JPS60238746A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5536790A (en) * | 1978-06-26 | 1980-03-14 | Measurex Corp | Gas measuring device with calibration means* and method of measuring gas |
JPS5653447A (en) * | 1979-08-29 | 1981-05-13 | Econics Corp | Flue gas analyzer |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02249951A (ja) * | 1989-03-24 | 1990-10-05 | Toho Gas Co Ltd | ガスセンサのガス検知部構造 |
EP0456202A2 (en) * | 1990-05-11 | 1991-11-13 | Applied Materials, Inc. | Particle monitor system and method |
US5578829A (en) * | 1994-05-23 | 1996-11-26 | Texas Instruments Incorporated | On-line monitor for moisture contamination in HCL gas and copper contamination in NH4 OH solutions |
US5545897A (en) * | 1994-10-04 | 1996-08-13 | Santa Barbara Research Center | Optically-based chemical detection system |
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