JPS60238495A - クロムの電気メツキ - Google Patents
クロムの電気メツキInfo
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- JPS60238495A JPS60238495A JP60094548A JP9454885A JPS60238495A JP S60238495 A JPS60238495 A JP S60238495A JP 60094548 A JP60094548 A JP 60094548A JP 9454885 A JP9454885 A JP 9454885A JP S60238495 A JPS60238495 A JP S60238495A
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- 239000011651 chromium Substances 0.000 title claims description 20
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 17
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 title claims description 17
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 title claims description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 28
- ICIWUVCWSCSTAQ-UHFFFAOYSA-M iodate Chemical compound [O-]I(=O)=O ICIWUVCWSCSTAQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 11
- SXDBWCPKPHAZSM-UHFFFAOYSA-M bromate Inorganic materials [O-]Br(=O)=O SXDBWCPKPHAZSM-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 10
- SXDBWCPKPHAZSM-UHFFFAOYSA-N bromic acid Chemical compound OBr(=O)=O SXDBWCPKPHAZSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M perchlorate Inorganic materials [O-]Cl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 10
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 8
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 claims description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 6
- -1 bromate decaiodate Chemical compound 0.000 claims description 5
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 4
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 3
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 5
- UJSFOUIWHNMLMV-UHFFFAOYSA-N bromic acid perchloric acid Chemical compound Br(=O)(=O)O.Cl(=O)(=O)(=O)O UJSFOUIWHNMLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 13
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 11
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 9
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 9
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- AXZAYXJCENRGIM-UHFFFAOYSA-J dipotassium;tetrabromoplatinum(2-) Chemical compound [K+].[K+].[Br-].[Br-].[Br-].[Br-].[Pt+2] AXZAYXJCENRGIM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 3
- 239000002659 electrodeposit Substances 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 229910001487 potassium perchlorate Inorganic materials 0.000 description 3
- XWNSFEAWWGGSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-acetyl-4-methylheptanedinitrile Chemical compound N#CCCC(C)(C(=O)C)CCC#N XWNSFEAWWGGSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004153 Potassium bromate Substances 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 206010000496 acne Diseases 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 2
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 2
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940094037 potassium bromate Drugs 0.000 description 2
- 235000019396 potassium bromate Nutrition 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 101100041620 Arabidopsis thaliana SAC5 gene Proteins 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100032392 Circadian-associated transcriptional repressor Human genes 0.000 description 1
- 101710130150 Circadian-associated transcriptional repressor Proteins 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000131360 Morinda citrifolia Species 0.000 description 1
- 244000046146 Pueraria lobata Species 0.000 description 1
- 235000010575 Pueraria lobata Nutrition 0.000 description 1
- 229910000589 SAE 304 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007792 addition Methods 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 239000008280 blood Substances 0.000 description 1
- 210000004369 blood Anatomy 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000005363 electrowinning Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000010436 fluorite Substances 0.000 description 1
- 229910021397 glassy carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002932 luster Substances 0.000 description 1
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 1
- 235000017524 noni Nutrition 0.000 description 1
- JLKDVMWYMMLWTI-UHFFFAOYSA-M potassium iodate Chemical compound [K+].[O-]I(=O)=O JLKDVMWYMMLWTI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000001230 potassium iodate Substances 0.000 description 1
- 229940093930 potassium iodate Drugs 0.000 description 1
- 235000006666 potassium iodate Nutrition 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- ABTOQLMXBSRXSM-UHFFFAOYSA-N silicon tetrafluoride Chemical compound F[Si](F)(F)F ABTOQLMXBSRXSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/04—Electroplating: Baths therefor from solutions of chromium
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
Uよ夕刊用分野
本発明はクロム電気メツキ用浴組成物および該浴組成物
を用いてクロムを電着するための方法に従来技術および
問題点 基材上にクロムを電気メッキするために(クロムの電解
採取に対するものとして)、クロム酸(CrO3の水溶
液が触媒アニオン、通常1%サルフェートと共に使用さ
れている。フッ化物およびフッ化珪素もまた触媒として
使用されている。最も有用な添加物は多分フルオリトイ
オンコンプレックスのそれであり、これはクロムメッキ
工程の電流効率を向上せしめる。結果として電着速度が
上昇する。更に、電着生成物はより高い硬度と、より高
い割れ密度(クラック・デンシティ−(crackde
ns 1ty)))を有している。フッ化物を含有する
浴の操作上の不利益はそれらが浴組成における変化並び
に電解質汚染(主として鉄)に対して特に敏感な点であ
る。この電解質の攻撃的な性質は電流密度が非常に低い
アノードおよびカソード領域および容器の構造体に使用
される月利の両方に対して甚大な腐食を生じさH゛る。
を用いてクロムを電着するための方法に従来技術および
問題点 基材上にクロムを電気メッキするために(クロムの電解
採取に対するものとして)、クロム酸(CrO3の水溶
液が触媒アニオン、通常1%サルフェートと共に使用さ
れている。フッ化物およびフッ化珪素もまた触媒として
使用されている。最も有用な添加物は多分フルオリトイ
オンコンプレックスのそれであり、これはクロムメッキ
工程の電流効率を向上せしめる。結果として電着速度が
上昇する。更に、電着生成物はより高い硬度と、より高
い割れ密度(クラック・デンシティ−(crackde
ns 1ty)))を有している。フッ化物を含有する
浴の操作上の不利益はそれらが浴組成における変化並び
に電解質汚染(主として鉄)に対して特に敏感な点であ
る。この電解質の攻撃的な性質は電流密度が非常に低い
アノードおよびカソード領域および容器の構造体に使用
される月利の両方に対して甚大な腐食を生じさH゛る。
更にフッ化物含量の分析上の調節は比較的複雑であって
それらの利点とは反対にこの溶液の使用を制限する傾向
がある。
それらの利点とは反対にこの溶液の使用を制限する傾向
がある。
しかし尚これらの添加は本発明との関連において使用し
てもよい。
てもよい。
カソードにおける電流密度は通常カソード・エツジにお
i−する樹木模様の形成(treeing)、即ち高電
界勾配部分における調製不能の成長(spikygro
wths)を避けるために約30 A /dm2.c=
3 kA/712)に制限される。
i−する樹木模様の形成(treeing)、即ち高電
界勾配部分における調製不能の成長(spikygro
wths)を避けるために約30 A /dm2.c=
3 kA/712)に制限される。
問題点を解決するための手段
本発明方法は、Cr 03を200g/&から600g
/ρ、例えば450g10.の濃度て、ザルフJ−1・
をS 04:Cr0a=、I : I 20からに80
の重量比で、過塩素酸塩をCrO4:Cr0i= I
:500から1・50、好ましくはI :200から1
:80の重量比て、および金属カチオン(例えば、アル
カリ金属カチオン)を過塩素酸塩の少なくとも実質」−
1/2、好ましくは等しい当量で含有するクロムの電気
メツキ用浴組成物に関する。浴組成物は更に児素酸塩お
よび/または沃素酸塩を(■3rO3/10 !I’)
l Cro ’lの120から150の宙吊1+、に
おいて含んでいてもよい。
/ρ、例えば450g10.の濃度て、ザルフJ−1・
をS 04:Cr0a=、I : I 20からに80
の重量比で、過塩素酸塩をCrO4:Cr0i= I
:500から1・50、好ましくはI :200から1
:80の重量比て、および金属カチオン(例えば、アル
カリ金属カチオン)を過塩素酸塩の少なくとも実質」−
1/2、好ましくは等しい当量で含有するクロムの電気
メツキ用浴組成物に関する。浴組成物は更に児素酸塩お
よび/または沃素酸塩を(■3rO3/10 !I’)
l Cro ’lの120から150の宙吊1+、に
おいて含んでいてもよい。
更に本発明はG r O3を2009/l!から600
?/Q、例えば450g/(の濃度で、サルフェートを
S O4:CrO,= I : 120から1:80の
重量比で、臭素酸塩または沃素酸塩を(Br03または
I O3):Cr0a−1:20から1’:600、好
ましくは1:25からI:150の重量比で、および金
属カチオン類(例えばアルカリ金属カチオン)を臭素酸
塩または沃素酸塩の少なくとも1/2、好ましくは実質
的に等j、い当量で含有するクロム電気メツキ用浴組成
物に関する。臭素酸塩と沃素酸塩は上記制限内で混合し
て用いて乙よい。
?/Q、例えば450g/(の濃度で、サルフェートを
S O4:CrO,= I : 120から1:80の
重量比で、臭素酸塩または沃素酸塩を(Br03または
I O3):Cr0a−1:20から1’:600、好
ましくは1:25からI:150の重量比で、および金
属カチオン類(例えばアルカリ金属カチオン)を臭素酸
塩または沃素酸塩の少なくとも1/2、好ましくは実質
的に等j、い当量で含有するクロム電気メツキ用浴組成
物に関する。臭素酸塩と沃素酸塩は上記制限内で混合し
て用いて乙よい。
好ましくは、浴は使用前に調製し次いで電気分解する。
本発明はまた、」二連の如き浴組成物中の基材をカソー
ドとし、好ましくは過塩素酸塩単独の場合は4から12
kA/z”、沃素酸塩単独の場合はl+から4kA/z
2、臭素酸塩単独の場合はIOから50kA/z2およ
び臭素酸塩/過塩素酸塩混合物の場合は15から50k
A/R2のカソード上の電流密度において印加すること
を特徴とする導電性J((材上にクロムを電着−4′ろ
方/J9を提+J(する。
ドとし、好ましくは過塩素酸塩単独の場合は4から12
kA/z”、沃素酸塩単独の場合はl+から4kA/z
2、臭素酸塩単独の場合はIOから50kA/z2およ
び臭素酸塩/過塩素酸塩混合物の場合は15から50k
A/R2のカソード上の電流密度において印加すること
を特徴とする導電性J((材上にクロムを電着−4′ろ
方/J9を提+J(する。
ごの方法は好ま1.<は45°Cがら65℃の温度で行
なう。過塩素酸塩と沃素酸塩は非t1’i費添加物と考
えられるが、臭素酸塩はその揮発性によって操作中、特
に温度を上げる場合には補給しなければならない。
なう。過塩素酸塩と沃素酸塩は非t1’i費添加物と考
えられるが、臭素酸塩はその揮発性によって操作中、特
に温度を上げる場合には補給しなければならない。
本発明を実施例により説明ずろ、。
り[ツム酸(Cr(1+) 450’i/Qおよび硫酸
(tI2SC,) a) 4 、5 g/ρを含む溶液
を調製した。こA1を明細書中SAとして記すが、本発
明に従うものではない。
(tI2SC,) a) 4 、5 g/ρを含む溶液
を調製した。こA1を明細書中SAとして記すが、本発
明に従うものではない。
りo J、\酸/硫酸混合物の3つの試料に温脱イオン
水に溶かし、た過塩素酸カリウム(KC12,)の溶液
を添加し2g/ρ、52/ρおよびl0y10.の過塩
素酸カリウムをイ」胎内に含むSAに相当する溶液を調
製した。これらの溶液を攪拌し、通常行なわれている如
く硝酸塩の如き不純物をプレートアウト(platin
g out)するために使用前にIAh/12間電気分
解した。これらの溶液をそれぞれ5AC2,5AC5、
および5ACIOと記載する。これらは本発明のらので
ある。
水に溶かし、た過塩素酸カリウム(KC12,)の溶液
を添加し2g/ρ、52/ρおよびl0y10.の過塩
素酸カリウムをイ」胎内に含むSAに相当する溶液を調
製した。これらの溶液を攪拌し、通常行なわれている如
く硝酸塩の如き不純物をプレートアウト(platin
g out)するために使用前にIAh/12間電気分
解した。これらの溶液をそれぞれ5AC2,5AC5、
および5ACIOと記載する。これらは本発明のらので
ある。
SAC5の2つのザンプルに臭素酸カリウム(KBrO
Jを5g/Qおよび20g/Qの量で加え、得られた溶
液を5AC5B5およびS A−C5B 20とした。
Jを5g/Qおよび20g/Qの量で加え、得られた溶
液を5AC5B5およびS A−C5B 20とした。
これらは本発明のものである。これらはまた臭素酸カリ
ウムを温脱イオン水に溶解することにより調製し、これ
を5AC5を製造するための成分に加え、必要に応じ必
要な濃度に調製し、次いで攪拌し、使用前に電気分解を
施した。
ウムを温脱イオン水に溶解することにより調製し、これ
を5AC5を製造するための成分に加え、必要に応じ必
要な濃度に調製し、次いで攪拌し、使用前に電気分解を
施した。
これと同様にして4509/Q CrO2,4,57/
121−I2SO4およびそれぞれ5fF/(!KBr
O3,20’i/ Q K B ro 3.57/(沃
素酸カリウム(KIO3)および209/i2 K I
O3を含む溶液5AB5.5AB20.5AI5およ
び5AT20を調製した。
121−I2SO4およびそれぞれ5fF/(!KBr
O3,20’i/ Q K B ro 3.57/(沃
素酸カリウム(KIO3)および209/i2 K I
O3を含む溶液5AB5.5AB20.5AI5およ
び5AT20を調製した。
これらの全ての溶液はクロム電着浴として使用するとき
は55℃;こ保持する。これらの実験においてカソード
は常に18/8ステンレススヂールであり、アノード(
カソードの面積の2倍を存する)tj鉛製てあ−)た3
、これらの全ての溶液を他のカソード、例えば銅、クロ
ノ8、ガラス質炭素等にメッキする。
は55℃;こ保持する。これらの実験においてカソード
は常に18/8ステンレススヂールであり、アノード(
カソードの面積の2倍を存する)tj鉛製てあ−)た3
、これらの全ての溶液を他のカソード、例えば銅、クロ
ノ8、ガラス質炭素等にメッキする。
実j血例量−へ
SAの挙動を比較のため記載する。
電流密度2kA/m2ではクロム電着が5μおよびは2
5μの厚さに成長したときはいずれもカソード」二のど
んな小さな表面不整をも平滑な組織でマスキングした暗
灰色のマットが得られた。この様な電着は通常相当に低
い電流密度、或いは相当高い浴温度の特徴と考えられて
いる。700から8501−[Vにおける硬度はそれで
も尚適当であった(たいていの技術上の目的にとって8
00から900が適当であると考えられる)。
5μの厚さに成長したときはいずれもカソード」二のど
んな小さな表面不整をも平滑な組織でマスキングした暗
灰色のマットが得られた。この様な電着は通常相当に低
い電流密度、或いは相当高い浴温度の特徴と考えられて
いる。700から8501−[Vにおける硬度はそれで
も尚適当であった(たいていの技術上の目的にとって8
00から900が適当であると考えられる)。
5kA/z’において6または25μに成長したクロム
電着は結節状であり、輝き、鏡状であって手触りがスム
ースである。突起(pimples)が肉眼で観察され
、それらは剥げ落ち易い構造を有する、多分50μ程度
の小結節(nodules)からの派生物である。硬度
は900がら1o5or4vであった。
電着は結節状であり、輝き、鏡状であって手触りがスム
ースである。突起(pimples)が肉眼で観察され
、それらは剥げ落ち易い構造を有する、多分50μ程度
の小結節(nodules)からの派生物である。硬度
は900がら1o5or4vであった。
7十kA/vt2においては表面全体かこれらの派生物
によって覆われ、従って6μに成長したときは輝きのあ
るマットであり平滑であったか、25μに成長したとき
は表面の粗い生地を有する肉眼で霜降りであることが観
察される。
によって覆われ、従って6μに成長したときは輝きのあ
るマットであり平滑であったか、25μに成長したとき
は表面の粗い生地を有する肉眼で霜降りであることが観
察される。
10kA/x′においてはこの霜降り状の外観が6μの
電着に対してさえ発生し、20 kA /rtt、2に
おtlてはこの外観は乳白色の粗い表面生地を示してい
る。
電着に対してさえ発生し、20 kA /rtt、2に
おtlてはこの外観は乳白色の粗い表面生地を示してい
る。
この電流密度の範囲における電流の効果はり〔1ムメヅ
キ厚6μおよび25μまで1こついては以下の通りであ
る(6μで得られた結果は結節状派生物によって受ける
悪影響は25μの場合より少なかった)。
キ厚6μおよび25μまで1こついては以下の通りであ
る(6μで得られた結果は結節状派生物によって受ける
悪影響は25μの場合より少なかった)。
電流密度(kΔ/πつ 2457+10電流効果6(η
%) 8 11 Il、13 1.52510 +0
10 19 22 実施例SN庸λ 同一条件下における浴組成物5AC2(即ち、過塩素酸
カリウム29/(を含有する)の挙動は以下の通りであ
った; 2kA/m2におりる結果は実施例SAにおけるのと同
様であった。
%) 8 11 Il、13 1.52510 +0
10 19 22 実施例SN庸λ 同一条件下における浴組成物5AC2(即ち、過塩素酸
カリウム29/(を含有する)の挙動は以下の通りであ
った; 2kA/m2におりる結果は実施例SAにおけるのと同
様であった。
5kA/ff2および6kA/m’においては、クロム
電着が6μに成長しようと25μに成長しよう°と、い
ずれも平滑であって光沢および輝きを有′し、25μM
においては時にクラックを有する結節である(適当な大
きさのクラックとそのクロムメッキにおける分布は有用
なことがある)。小結節からの大きな派生物が存在しな
い。硬度は約9008■であった。
電着が6μに成長しようと25μに成長しよう°と、い
ずれも平滑であって光沢および輝きを有′し、25μM
においては時にクラックを有する結節である(適当な大
きさのクラックとそのクロムメッキにおける分布は有用
なことがある)。小結節からの大きな派生物が存在しな
い。硬度は約9008■であった。
7−1kA /、2における結果は実施例SA 5kA
/屑2に類似していたが手触りは粗かった。
/屑2に類似していたが手触りは粗かった。
10kA/x2における結果は実施例SA 7−)A/
屑2と同様である。
屑2と同様である。
671メツキに対オる電流効果は以下の通りてあった
電流密度(kA/ff2) 2 4 7+ 10電流効
果(η%)7101217 25μメツキに対する電流密度は上の2つの電流密度に
おけるより2%良い以外は略類似していた。
果(η%)7101217 25μメツキに対する電流密度は上の2つの電流密度に
おけるより2%良い以外は略類似していた。
実施例5AC5
同一条件下での浴組成物5AC5の挙動は以下の通りで
ある。
ある。
2kA/x”の結果は実施例SAと同じであった。
5kA/i’、7−)kA/m”および1okA/u’
における6μに成長したクロム電着は光沢を有し輝き平
滑であってクラックを有しない。また、25μに成長し
たものは光沢があり鏡状であって平滑である。
における6μに成長したクロム電着は光沢を有し輝き平
滑であってクラックを有しない。また、25μに成長し
たものは光沢があり鏡状であって平滑である。
10kA/z2では2本のクラックが認められた。
5kA/*2における硬度は約970 [−i Vおよ
び1OkA/i2におけるそれは1050から1100
n vてあ−った。
び1OkA/i2におけるそれは1050から1100
n vてあ−った。
12 +kA /y+2.15 kA’/g2および2
0kA/屑2ではそれぞれ表面に突起(pimple)
があり、やや剥げ落ち易くまた全体としても剥げ落ち易
い。これらは全て暗色のマットであり生地が粗い。
0kA/屑2ではそれぞれ表面に突起(pimple)
があり、やや剥げ落ち易くまた全体としても剥げ落ち易
い。これらは全て暗色のマットであり生地が粗い。
6μメツキに対する電流密度は以下の通りであっ電流密
度(kA/z2) 2 5 7+ 10 12+ 15
20電流効果(91%) 6 10 1213 14
15 1625μメツキに対する電流密度は15kA
/12(23%)および20 kA/R2(24%)に
お(」る以外間しであった。
度(kA/z2) 2 5 7+ 10 12+ 15
20電流効果(91%) 6 10 1213 14
15 1625μメツキに対する電流密度は15kA
/12(23%)および20 kA/R2(24%)に
お(」る以外間しであった。
末U組−岱(−8−へ−(ン−1がΣ
同一条件下での浴組成物5ACIOの挙動は以下の通り
てあ−)た 2にΔ/m2の結果は実施例SΔと同しであった。。
てあ−)た 2にΔ/m2の結果は実施例SΔと同しであった。。
5にΔ/がおよびIOkΔ/友2においては、夕〔1)
・電着が6または25μに成長したものは肉眼で輝き鏡
状てあって手触りが平滑てあっノー。5kA/ m 2
にお1ノる硬度は約960 HVおよび1okA/7I
2にお(Jろそれは+100から120011Vであ
−)ノニ。
・電着が6または25μに成長したものは肉眼で輝き鏡
状てあって手触りが平滑てあっノー。5kA/ m 2
にお1ノる硬度は約960 HVおよび1okA/7I
2にお(Jろそれは+100から120011Vであ
−)ノニ。
12+にΔ/屑2における結果はよくなく、ややSAの
2にΔ/ m 2の処理に似ている。l 2−!−kA
/〃2より6高い全ての電流密度においてクロム電着は
最高の暗色マットでありかつ担い表面生地を有している
。
2にΔ/ m 2の処理に似ている。l 2−!−kA
/〃2より6高い全ての電流密度においてクロム電着は
最高の暗色マットでありかつ担い表面生地を有している
。
6μメツキに対する電流効果は以下の通りてあっノこ
25μメツキイこ対する電流効果は使用可能な電流密度
の範囲内で同しであった。
の範囲内で同しであった。
実施例SA、SΔC2,5AC5および5AC10にお
いて20%の電流効果が25μメソギ中で得ることかで
きろが、全て総合的に剥げ落し易い構造を有する沈着層
を有している3゜この様な電着物は以下の如くして得ら
れjコ。
いて20%の電流効果が25μメソギ中で得ることかで
きろが、全て総合的に剥げ落し易い構造を有する沈着層
を有している3゜この様な電着物は以下の如くして得ら
れjコ。
浴組成物 SA 5AC25AC55ACIOの電流密
度(kA’/I2) の電流密度(kA/rつ 実施例SΔC5B5およびS A C5B 2−08A
C5B5およびSΔC5B 20の浴組成物の使用は肉
眼で粗い表面の組織を有する暗灰色の電着層を与えるか
、20kA/u’における5Ac51’(20以外は絹
様灰色を示(7スムースな手触りを有(、ていた。
度(kA’/I2) の電流密度(kA/rつ 実施例SΔC5B5およびS A C5B 2−08A
C5B5およびSΔC5B 20の浴組成物の使用は肉
眼で粗い表面の組織を有する暗灰色の電着層を与えるか
、20kA/u’における5Ac51’(20以外は絹
様灰色を示(7スムースな手触りを有(、ていた。
6μメツギに対する電流効果は以下の通りであっ]こ
電流密度(kA/m’) 2 5 10 15 2.0
市流効1.!(η%) SAC5B5 10 2] ’23 23 24SAC
51(20420293530 害璋倒か一小膓見よ透り−L県旦A[5およびSΔ11
0 これらの浴組成物を用いて得られた結果を以下に要約オ
ろ。
市流効1.!(η%) SAC5B5 10 2] ’23 23 24SAC
51(20420293530 害璋倒か一小膓見よ透り−L県旦A[5およびSΔ11
0 これらの浴組成物を用いて得られた結果を以下に要約オ
ろ。
電流密度(kA/i2) 電流効果(η%)SAB5
5 19 SΔB20 +5 33 SA820 20 35 SA]5 2 28 SAI20 .2 26 SAI5 5 24 SAI20 5. 23 」二記表において、5AB5では黒灰色電着、粗い成長
であった。
5 19 SΔB20 +5 33 SA820 20 35 SA]5 2 28 SAI20 .2 26 SAI5 5 24 SAI20 5. 23 」二記表において、5AB5では黒灰色電着、粗い成長
であった。
5AB20は絹様灰色、平滑、密着被覆、微細クラック
を有しない多孔性、1400−1jOOH,Vであった
。
を有しない多孔性、1400−1jOOH,Vであった
。
5AI5および5AT20は密度の高い灰色の密着性沈
澱、400〜5001−I Vおよび二、三の微細クラ
ックを有するメッキが得られた。 5AI5および5A
I20では灰色の沈着、“低い密着性、6001(Vお
よび二、三の微細クラックを有していた。
澱、400〜5001−I Vおよび二、三の微細クラ
ックを有するメッキが得られた。 5AI5および5A
I20では灰色の沈着、“低い密着性、6001(Vお
よび二、三の微細クラックを有していた。
SAI溶液に関しては電流効果は電流密度か2から5k
A/x”になるにつれて実際に低下することが見られる
であろう。この効果は樹木極柱(treeLing)の
形成を妨げ安定に平滑な電着を形成させる。
A/x”になるにつれて実際に低下することが見られる
であろう。この効果は樹木極柱(treeLing)の
形成を妨げ安定に平滑な電着を形成させる。
第1頁の続き
■発明者 ジョン・アンドリュ ノ
ー命ネイスミス ノ1
■発明者 ディピッド会ノ1ウ ノ
フ
@発明者 マルコーム・アシュレ ・
イ・ベイト
′ギリス国スコツトランド、レイナークシャー エム・
工/・106・ディー・イー、ストラトヘブン、オール
ド・ガくル・プレースl幡 [ギリス国イングランド、シェフイールド ニス・11
9・′−ル・エイ、イクリーズオール、パークヘッド・
ロード4幡 「ギリス国イングランド、シェフイールド ニス・19
6・ニル・ディー、ウォーターソープ、バーウッド−ド
ライブ播
工/・106・ディー・イー、ストラトヘブン、オール
ド・ガくル・プレースl幡 [ギリス国イングランド、シェフイールド ニス・11
9・′−ル・エイ、イクリーズオール、パークヘッド・
ロード4幡 「ギリス国イングランド、シェフイールド ニス・19
6・ニル・ディー、ウォーターソープ、バーウッド−ド
ライブ播
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 、 CI’0−*を200y/ρから60097Q
の濃度で、ザルフェートをSO4:CrO3の重量比で
1:120から1:80て過塩素酸塩をC(!04:C
r(Itsの重量比で1・500から1・50で、およ
び金属カチオンを過塩素酸塩の少なくとも1/2当量含
aするクロムの電気メツキ用浴組成物。 2、更に臭素酸塩および/または沃素酸塩を(13rO
s4−103): Cr03=1 :50から1:20
の重量比で含有する第1項記載の浴組成物。 3、Cr(L+を20(N/(lから600g/(の濃
度で、ザルフェートをSO,:CrO,=l :120
から1・80の重量比で、臭素酸塩および/または沃素
酸塩を(Br03+ I’03): Cr03=l :
600から1.20の重量比で、および金属カチオンを
(臭素酸塩十沃素酸塩)の少なくとも1/2当量含有す
るクロムメッキ用浴釦成物7 4 過塩素酸塩をcQo4:cro3= l :200
から1.80の重量比で含有する第1項または第2項記
載の浴組成物。 5、(臭素酸塩+沃素酸塩)を(Br03+ I 03
)Cr03=1 +150から1・25の重量比で有す
る第3項記載の浴組成物。 6、金属カチオンが過塩素酸塩、臭素酸塩および沃素酸
塩の合計量に対し実質上当量である前項いずれかに記載
の浴組成物。 7、一部または全ての金属カチオンがアルカリ金属カチ
オンである前項いずれかに記載の浴組成物。 8、実施例5AC2,5AC5、SΔCl01SAC5
B5.5AC5B20.5AB5、SAB、20.5A
I5および5AI20のいずれかに言及して記載された
成分を実質上含有する浴組成物。 9、クロム電気メッキに使用する前に電気分解されてい
る前項いずれかに記載の浴組成物。 10、前項いずれかに記載の浴組成物中に挿入した基材
1こ対し陽電荷を印加することを特徴とする基材上にク
ロムを電着させる方法。 11、浴組成物が臭素酸塩または沃素酸塩のいずれかを
含まず、基材上の電流密度が4から12kA/m2であ
る第10項記載の方法。 12、浴組成物が過塩素酸塩の臭素酸塩を含まず、基材
上の電流密度が1十から4kA/z’である第10項記
載の方法。 13、浴組成物が過塩素酸塩も沃素酸塩も含まず、基材
上の電流密度が10から50kA/112である第1θ
項記載の方法。 14、臭素酸塩/過塩素酸塩混合物を含み、基材上の電
流密度が15から50kA/g2である第10項記載の
方法。 15、温度が45から65℃である第1θ項から14項
いずれかに記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB848411063A GB8411063D0 (en) | 1984-05-01 | 1984-05-01 | Chromium electroplating |
GB8411063 | 1984-05-01 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60238495A true JPS60238495A (ja) | 1985-11-27 |
Family
ID=10560314
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60094548A Pending JPS60238495A (ja) | 1984-05-01 | 1985-04-30 | クロムの電気メツキ |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4648947A (ja) |
JP (1) | JPS60238495A (ja) |
CA (1) | CA1287321C (ja) |
DE (1) | DE3514673A1 (ja) |
GB (1) | GB8411063D0 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10168593A (ja) * | 1996-12-12 | 1998-06-23 | Teikoku Piston Ring Co Ltd | Cr合金めっき皮膜、そのめっき方法、および前記皮膜を有する部材 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5243320A (en) * | 1988-02-26 | 1993-09-07 | Gould Inc. | Resistive metal layers and method for making same |
ITTO20070704A1 (it) * | 2007-10-05 | 2009-04-06 | Create New Technology S R L | Sistema e metodo di placcatura di leghe metalliche mediante tecnologia galvanica |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5621075B2 (ja) * | 1974-12-11 | 1981-05-16 | ||
JPS5621356B2 (ja) * | 1976-12-16 | 1981-05-19 | ||
JPS5839791A (ja) * | 1981-08-24 | 1983-03-08 | エム・アンド・テイ・ケミカルズ・インコ−ポレツド | 光沢クロムメツキ浴 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3654101A (en) * | 1970-01-09 | 1972-04-04 | M & T Chemicals Inc | Novel chromium plating compositions and processes |
US3706639A (en) * | 1971-02-19 | 1972-12-19 | Du Pont | Rejuvenated chromium plating medium containing chromic compound |
GB1419613A (en) * | 1974-06-13 | 1975-12-31 | Lea Ronal Inc | Cyanidefree electroplating baths |
DE2500730C3 (de) * | 1975-01-10 | 1980-04-24 | Bergische Metallwarenfabrik Dillenberg & Co Kg, 5601 Gruiten | Galvanisches Chrombad |
FR2423556A1 (fr) * | 1978-03-08 | 1979-11-16 | Yissum Res Dev Co | Procede de revetement electrolytique de chrome sur divers metaux et bains utilises dans ce but |
US4450050A (en) * | 1983-02-03 | 1984-05-22 | M&T Chemicals Inc. | Process for bonding high efficiency chromium electrodeposits |
-
1984
- 1984-05-01 GB GB848411063A patent/GB8411063D0/en active Pending
-
1985
- 1985-04-23 DE DE19853514673 patent/DE3514673A1/de not_active Ceased
- 1985-04-30 CA CA000480358A patent/CA1287321C/en not_active Expired - Lifetime
- 1985-04-30 JP JP60094548A patent/JPS60238495A/ja active Pending
- 1985-05-01 US US06/729,216 patent/US4648947A/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5621075B2 (ja) * | 1974-12-11 | 1981-05-16 | ||
JPS5621356B2 (ja) * | 1976-12-16 | 1981-05-19 | ||
JPS5839791A (ja) * | 1981-08-24 | 1983-03-08 | エム・アンド・テイ・ケミカルズ・インコ−ポレツド | 光沢クロムメツキ浴 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10168593A (ja) * | 1996-12-12 | 1998-06-23 | Teikoku Piston Ring Co Ltd | Cr合金めっき皮膜、そのめっき方法、および前記皮膜を有する部材 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CA1287321C (en) | 1991-08-06 |
GB8411063D0 (en) | 1984-06-06 |
DE3514673A1 (de) | 1985-11-07 |
US4648947A (en) | 1987-03-10 |
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