JPS60228904A - 露光装置内の光源位置測定装置 - Google Patents
露光装置内の光源位置測定装置Info
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- JPS60228904A JPS60228904A JP60025317A JP2531785A JPS60228904A JP S60228904 A JPS60228904 A JP S60228904A JP 60025317 A JP60025317 A JP 60025317A JP 2531785 A JP2531785 A JP 2531785A JP S60228904 A JPS60228904 A JP S60228904A
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- Japan
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- source position
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/20—Manufacture of screens on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted or stored; Applying coatings to the vessel
- H01J9/22—Applying luminescent coatings
- H01J9/227—Applying luminescent coatings with luminescent material discontinuously arranged, e.g. in dots or lines
- H01J9/2271—Applying luminescent coatings with luminescent material discontinuously arranged, e.g. in dots or lines by photographic processes
- H01J9/2272—Devices for carrying out the processes, e.g. light houses
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、カラー受像管の発光ないし螢光面の製造に使
用される露光装置内の長形光源の位置を測定するための
装置に関し、更に詳しくは、止め面を有する基板と投影
光学装置とを有し、受像管スクリーンとアパーチャーマ
スクユニットとに替って露光装置上に置き得るようＫし
た測定装置に関するものである。
用される露光装置内の長形光源の位置を測定するための
装置に関し、更に詳しくは、止め面を有する基板と投影
光学装置とを有し、受像管スクリーンとアパーチャーマ
スクユニットとに替って露光装置上に置き得るようＫし
た測定装置に関するものである。
露光装置（ライトハウス）内の露光ランプの位置測定装
置は米国特許第３．４８２，４９５号明細書で公知であ
る。かかる露光装置は、カラー受像管のスクリーンを形
成する螢光体層を露光するのに使用される。従来の露光
装置は、上部にコリメータを有する点状光源を備えてい
る。また位置測定（アラインメント）のための装置は止
め而（位置ぎめストッパ）を有する基板からなり、これ
が露光装置の上に置かれたときに前記止め面により露光
装置と位置整合される。前記基板は、その下面忙８つの
投影光学装置を有し、各投影光学装置はそれぞれ２個の
可調節ミラーと１個の両面凸レンズとを備えており、こ
れが露光ランプの像を基板の中心に配置されたスクリー
ン上に形成するようになっている。このスクリーンは正
方形に９分割され、その内の外周の８つの正方形はそれ
ぞれ十字状のターゲットを有し、これらは８つの前記投
影光学系によシ照明されるようになされている。
置は米国特許第３．４８２，４９５号明細書で公知であ
る。かかる露光装置は、カラー受像管のスクリーンを形
成する螢光体層を露光するのに使用される。従来の露光
装置は、上部にコリメータを有する点状光源を備えてい
る。また位置測定（アラインメント）のための装置は止
め而（位置ぎめストッパ）を有する基板からなり、これ
が露光装置の上に置かれたときに前記止め面により露光
装置と位置整合される。前記基板は、その下面忙８つの
投影光学装置を有し、各投影光学装置はそれぞれ２個の
可調節ミラーと１個の両面凸レンズとを備えており、こ
れが露光ランプの像を基板の中心に配置されたスクリー
ン上に形成するようになっている。このスクリーンは正
方形に９分割され、その内の外周の８つの正方形はそれ
ぞれ十字状のターゲットを有し、これらは８つの前記投
影光学系によシ照明されるようになされている。
従ってこの従来＠置では、使用に際してまず位置微圧の
ために測定（アライメント）装置を標準露光装置上に置
き、次いで８つの光学系を前記８つの正方形がその中心
で照明される様に調節する。
ために測定（アライメント）装置を標準露光装置上に置
き、次いで８つの光学系を前記８つの正方形がその中心
で照明される様に調節する。
その後、この様に較正された測定（アライメント）装置
を実際の製造用の露光装置上に置き直し、その露光ラン
プと位置決めストッパとを、８つの正方形が再びその中
心で照明される様に調節していた。
を実際の製造用の露光装置上に置き直し、その露光ラン
プと位置決めストッパとを、８つの正方形が再びその中
心で照明される様に調節していた。
〔解決すべき問題点〕 □
従来技術におけるめんどうな位置較正の手順を省くため
、露光装置内の長形光源の位置を測定してその位置に対
応する測定値を生じる簡単な装置を提供することが本発
明の目的である。
、露光装置内の長形光源の位置を測定してその位置に対
応する測定値を生じる簡単な装置を提供することが本発
明の目的である。
〔問題点の解決手段とその作用および効果〕この目的は
特許請求の範囲第１項に記載の装置によって達成される
。本発明のその他の実施例は従属請求範囲第２項ないし
第５項に記載されている。
特許請求の範囲第１項に記載の装置によって達成される
。本発明のその他の実施例は従属請求範囲第２項ないし
第５項に記載されている。
この新規な装置によって、また１分以下の測定時間内で
、露光装置内の露光ランプの位置を直接的に測定するこ
とができる。表示装置は補正の方向および量を直接に指
示する。露光ランプ内の光源位置に関する測定精度は約
±５μｍであシ理想位置からの角偏位は±０．０２’よ
シ若干良好に決定される。
、露光装置内の露光ランプの位置を直接的に測定するこ
とができる。表示装置は補正の方向および量を直接に指
示する。露光ランプ内の光源位置に関する測定精度は約
±５μｍであシ理想位置からの角偏位は±０．０２’よ
シ若干良好に決定される。
以下において、本発明の実施例を添付の第１図ないし第
６図を参照して更に詳細に説明する。
６図を参照して更に詳細に説明する。
第１ａ図は、カラー受像管のフェースブレニド上の螢光
体層の露光用の露光装置の模式長手方向断面図である。
体層の露光用の露光装置の模式長手方向断面図である。
露光ボックス（１）内においての図の紙面と直角に延び
る長い本体を有する光源（２）が示されている。この光
輻射体ないし光源の一部分を形成スる露光ランプについ
ては詳細には示して６１Ｑ”。
る長い本体を有する光源（２）が示されている。この光
輻射体ないし光源の一部分を形成スる露光ランプについ
ては詳細には示して６１Ｑ”。
通常、露光ランプとしては、紫外光を発生する超高圧水
銀灯を使用する。この露光ランプは図示しない部材に取
付けられ、該部材は露光ランプの位置調節を可能とする
。更に、電圧哄給および露光ランプの冷却の仕方に関し
ては図示しない。露光装置は、その上部円錐部において
リム部を有し、その上に６つの位置ぎめストッパ（３ａ
） ＋ （３ｂ） −（３ｃ）＋ （４ａ） −（４ｂ
）及（５）が設けられている。製造処際し、カラー受像
管のフェースプレートとアパーチャーマスクユニットと
は露光のために位置ぎめストッパ上に置かれる。光源位
置の測定のために１測定装置の基板（６）も同じ要領で
設置されて横位置ぎめストッパ（４ａ） 、 （４ｂ）
及（５）に押し付けられる。光源（２）を通りその長手
軸に関して直角に走る露光装置の軸を番号（ロ）で示す
。露光台に通常付属するその他のすべての部品は明瞭化
のために省略した。
銀灯を使用する。この露光ランプは図示しない部材に取
付けられ、該部材は露光ランプの位置調節を可能とする
。更に、電圧哄給および露光ランプの冷却の仕方に関し
ては図示しない。露光装置は、その上部円錐部において
リム部を有し、その上に６つの位置ぎめストッパ（３ａ
） ＋ （３ｂ） −（３ｃ）＋ （４ａ） −（４ｂ
）及（５）が設けられている。製造処際し、カラー受像
管のフェースプレートとアパーチャーマスクユニットと
は露光のために位置ぎめストッパ上に置かれる。光源位
置の測定のために１測定装置の基板（６）も同じ要領で
設置されて横位置ぎめストッパ（４ａ） 、 （４ｂ）
及（５）に押し付けられる。光源（２）を通りその長手
軸に関して直角に走る露光装置の軸を番号（ロ）で示す
。露光台に通常付属するその他のすべての部品は明瞭化
のために省略した。
測定装置の基板（６）は６つの止め面（７ａ、 ｂ ｃ
ｔ８８ ｔ ｂｅ及９）を持つように図示されているが
、これによって露光装置に位置整合させる事ができる。
ｔ８８ ｔ ｂｅ及９）を持つように図示されているが
、これによって露光装置に位置整合させる事ができる。
基板（６）は更に２つの開口αＱとα■とを有し、その
各々の上に１つすらの投影光学装置（６）、（至）が配
置されている。これらの各投影光学装置（２）ないしく
自）は、筒Ｑ４とレンズ（至）とからなる。筒α→の端
部には位置検出ダイオード（ＰＤ）が像面（ＢＥ）中に
位置している。この位置検出ダイオードとしては、例え
ば米国カリフォルニア州すンタモニカ所在のユナイテッ
ド・デテクタ・テクレロジー・インコーホレーテッド（
Ｕｎｉｔｅｄ Ｄｅｔｅｃｔｏｒ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇ
ｙ Ｉｎｃ 、 ）製の双軸位置検出器形の市場で入手
可能のものが使用し得る。前記各投影光学装置は、光源
の像を像面（ＢＥ）Ｋ作る。これらの投影光学装置は、
光源の長手軸に対して＃１ぼ直角な面内にあり、互いの
光軸（ＩＱが４５’と１６５０の間にある角度αを形成
している。位置検出ダイオード（ＦＤ）へは次に続く表
示装置（至）を伴う評価回路αのが接続されており、こ
れらについては後で詳細に説明する。
各々の上に１つすらの投影光学装置（６）、（至）が配
置されている。これらの各投影光学装置（２）ないしく
自）は、筒Ｑ４とレンズ（至）とからなる。筒α→の端
部には位置検出ダイオード（ＰＤ）が像面（ＢＥ）中に
位置している。この位置検出ダイオードとしては、例え
ば米国カリフォルニア州すンタモニカ所在のユナイテッ
ド・デテクタ・テクレロジー・インコーホレーテッド（
Ｕｎｉｔｅｄ Ｄｅｔｅｃｔｏｒ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇ
ｙ Ｉｎｃ 、 ）製の双軸位置検出器形の市場で入手
可能のものが使用し得る。前記各投影光学装置は、光源
の像を像面（ＢＥ）Ｋ作る。これらの投影光学装置は、
光源の長手軸に対して＃１ぼ直角な面内にあり、互いの
光軸（ＩＱが４５’と１６５０の間にある角度αを形成
している。位置検出ダイオード（ＦＤ）へは次に続く表
示装置（至）を伴う評価回路αのが接続されており、こ
れらについては後で詳細に説明する。
第１ｂ図は止め面（７）、 （８）、 （９）の位置ぎ
めストッパ（３）、（４）および（５）の配置と基板（
６）の形状とを特に示す。
めストッパ（３）、（４）および（５）の配置と基板（
６）の形状とを特に示す。
第２図は投影光学装置（２）の筒ａ４内の位置検出ダイ
オード（ＰＤ）の表面図である。位置検出ダイオード（
ＰＤｌ ）と（ＦＤ２ ）との上には、測定装置として
使用する時にこれに投影される光源の像四の例が画かれ
ている。位置検出ダイオード内には全種系が画かれてい
るがそのＹ軸は位置検出ダイオード（ＰＤＩ）と（ｐａ
２）との長手軸に直交して走シ、そのＹ軸はそれに対し
て平行に走っている。投影光学装置は、光源が理想的な
位置にあるときその像（イ）がＹ軸に重なる様な１合に
基板（６）上に配置されている。
オード（ＰＤ）の表面図である。位置検出ダイオード（
ＰＤｌ ）と（ＦＤ２ ）との上には、測定装置として
使用する時にこれに投影される光源の像四の例が画かれ
ている。位置検出ダイオード内には全種系が画かれてい
るがそのＹ軸は位置検出ダイオード（ＰＤＩ）と（ｐａ
２）との長手軸に直交して走シ、そのＹ軸はそれに対し
て平行に走っている。投影光学装置は、光源が理想的な
位置にあるときその像（イ）がＹ軸に重なる様な１合に
基板（６）上に配置されている。
照明によって位置検出ダイオード（ＰＤ）から生じた電
気信号は、光源の部分的領域の光密度中心の直接決定を
可能にする。第２図において、これらの光密度中心は参
照符号（２）とに）で示されておシ、光源が理想位置で
ないことを示している。偏よりは、Ｙ軸変位、つまシ光
密度中心＠に）間を結ぶ直線に）とＹ軸との交点の全種
原点からの距離と、角βだけの直線（至）の回転とから
成る。この癲βは、直線に）とＹ軸との間に形成される
。偏よシの量は少なくとも２つの位置検出ダイオード（
ＰＤ）の信号を組合わせて容易に計算し得る。光源の直
線性のチェックのためＫは更に別の位置検出ダイオード
が必要である。この場合のための別々の２つの位置検出
ダイオード（ＦＤ３ ）と（ＦＤ４）とが第２・図 ｌ
に破線で示しである。
気信号は、光源の部分的領域の光密度中心の直接決定を
可能にする。第２図において、これらの光密度中心は参
照符号（２）とに）で示されておシ、光源が理想位置で
ないことを示している。偏よりは、Ｙ軸変位、つまシ光
密度中心＠に）間を結ぶ直線に）とＹ軸との交点の全種
原点からの距離と、角βだけの直線（至）の回転とから
成る。この癲βは、直線に）とＹ軸との間に形成される
。偏よシの量は少なくとも２つの位置検出ダイオード（
ＰＤ）の信号を組合わせて容易に計算し得る。光源の直
線性のチェックのためＫは更に別の位置検出ダイオード
が必要である。この場合のための別々の２つの位置検出
ダイオード（ＦＤ３ ）と（ＦＤ４）とが第２・図 ｌ
に破線で示しである。
第６図は評価回路−に関するブロック図を示し、こ九に
対しては投影光学装置（２）の位置検出ダイオード（Ｐ
Ｄｌ）と（ＦＤ２）および投影光学装置（２）の位置検
出ダイオード（ＰＤ１’）と （’ＰＤ２’）とが接続
されている。位置検出ダイオード（ＰＤｌ）と（ＦＤ２
）および位置検出ダイオード（ｐＤ１’）と（ＰＤ２’
）との信号を組合わせる評価回路α樽が同−設計である
と考えて、この回路は１つ丈は示し、この部分のみをこ
こに説明する。
対しては投影光学装置（２）の位置検出ダイオード（Ｐ
Ｄｌ）と（ＦＤ２）および投影光学装置（２）の位置検
出ダイオード（ＰＤ１’）と （’ＰＤ２’）とが接続
されている。位置検出ダイオード（ＰＤｌ）と（ＦＤ２
）および位置検出ダイオード（ｐＤ１’）と（ＰＤ２’
）との信号を組合わせる評価回路α樽が同−設計である
と考えて、この回路は１つ丈は示し、この部分のみをこ
こに説明する。
位置検出ダイオード（ＰＤｌ）の作る信号を（Ａ１）と
（Ａ２）とで示し、位置検出ダイオード（ＦＤ２ ）の
作る信号を（Ｂ１）と（Ｂ２）で示す。信号（Ａ１）と
（Ａ２）の和は強度に対応し、信号（Ａ１）と（Ａ２）
の差は位置検出ダイオードＣＰＤＩ）上の光密度中心の
位置に対応する。和と差の商は強度に無関係な標準化位
置信号でｈｂ、ミｖメートル単位で較正可能である。位
置検出ダイオード（ＰＤｌ）と（ＦＤ２）との２つの標
準化位置信号の和は平行移動距離の尺度として役立ち、
両信号の差は光源の角βの正接の尺度として役立つ。
（Ａ２）とで示し、位置検出ダイオード（ＦＤ２ ）の
作る信号を（Ｂ１）と（Ｂ２）で示す。信号（Ａ１）と
（Ａ２）の和は強度に対応し、信号（Ａ１）と（Ａ２）
の差は位置検出ダイオードＣＰＤＩ）上の光密度中心の
位置に対応する。和と差の商は強度に無関係な標準化位
置信号でｈｂ、ミｖメートル単位で較正可能である。位
置検出ダイオード（ＰＤｌ）と（ＦＤ２）との２つの標
準化位置信号の和は平行移動距離の尺度として役立ち、
両信号の差は光源の角βの正接の尺度として役立つ。
上述の測定値を形成するために、信号（Ａ１）と（Ａ２
）および（Ｂ１）と（Ｂ２）とはそれぞれ演算増幅器■
、（２４’）Ｋ供給され、また、和の演算の九めＫそれ
ぞれ演算増幅器（ハ）、 （２５’）に供給される。
）および（Ｂ１）と（Ｂ２）とはそれぞれ演算増幅器■
、（２４’）Ｋ供給され、また、和の演算の九めＫそれ
ぞれ演算増幅器（ハ）、 （２５’）に供給される。
次いで、得られた信号ｒＡ１＋Ａ２」およびｒＡｌ−Ａ
２」、またはｒ Ｂｌ ＋ Ｂ２ ＪおよびｒＢｌ−Ｂ
２Ｊは、それぞれ商を計算するためにアナログ回路（２
）ないしく２６’）Ｋ供給される。これらの信号（ＡＩ
−Ａ２）：’（ＡＩ＋Ａ２ ）ないしくＢｌ −Ｂ２）
： （Ｂ１十Ｂ２）から、それぞれ各演算増幅器に）な
いしく至）中で距離Ｖを表わす和、および−βを表わす
差が形成される。
２」、またはｒ Ｂｌ ＋ Ｂ２ ＪおよびｒＢｌ−Ｂ
２Ｊは、それぞれ商を計算するためにアナログ回路（２
）ないしく２６’）Ｋ供給される。これらの信号（ＡＩ
−Ａ２）：’（ＡＩ＋Ａ２ ）ないしくＢｌ −Ｂ２）
： （Ｂ１十Ｂ２）から、それぞれ各演算増幅器に）な
いしく至）中で距離Ｖを表わす和、および−βを表わす
差が形成される。
図示しない表示装置（至）で信号（至）と（Ｖ’）とが
、例えばデジタル表示される。そのために、例えば評価
回路α場の増幅度は演算増幅器に）の出力での±１０ｖ
が±２．５ ｒｍを示すことを意味する様に調節すると
よい。信号−βと一β′とは同様忙デジタルー示で表示
される。この場７今、評価回路−の増幅度は、演算増幅
器（至）の出力での±１０Ｖが±２００に等しい様に調
節する。この様な測定装置のセッドアツブによって、距
離に対して±５μｍｌおよび角度に対して±０．０２°
の分解能が得られる。
、例えばデジタル表示される。そのために、例えば評価
回路α場の増幅度は演算増幅器に）の出力での±１０ｖ
が±２．５ ｒｍを示すことを意味する様に調節すると
よい。信号−βと一β′とは同様忙デジタルー示で表示
される。この場７今、評価回路−の増幅度は、演算増幅
器（至）の出力での±１０Ｖが±２００に等しい様に調
節する。この様な測定装置のセッドアツブによって、距
離に対して±５μｍｌおよび角度に対して±０．０２°
の分解能が得られる。
第１ａ図は上部に配置した測定（アライメント）装置を
伴う露光装置の模式長手方向断面図、第１ｂ図は第１ａ
図の露光装置の上方からみた上面図、第２図は露光ラン
プの光源が結像された位置検出ダイオードの表面図、第
６図は評価回路のブロック図である。 図において、１は露光装置、２け長形光源、６は基鈑、
７．８．９は止め面、１２．１３は投影光学装置、１６
はその光軸、 １８は評価回路、１９は表示装置、ＢＥ
は像面、ＰＤは位置検出ダイオードを示す。 代理人 弁理士 木 村 三 朗 第１頁の続き ＠発明者 ベルンハルト・ラウ ドイ ルト ０発 明 者 ロルフ・シュミット ドイツフ ッ連邦共和国、７３０７ アイヒヴアルト ３、シュー
ベシュトラーセ ７／１ ソ連邦共和国、７３００ エッスリンゲン、デー・ボン
へアーシュトラーセ ２１ 手続補正書防式） 特許庁長官殿 昭和６０年５月３１日 １、事件の表示 昭和６０年特許願第０２５３１７号 ２、発明の名称 露光装置内の光源位置測定装置 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 名称 スタンダード・エレクトリック・ローレンツ・ア
クチェンゲゼルシャフト ４、代理人 住 所 東京都港区虎ノ門−丁目２１番１９号５、補正
命令の日付 昭和６０年５月８日（発送日：昭和６０年
５月２８日） ６、補正の対象 図面
伴う露光装置の模式長手方向断面図、第１ｂ図は第１ａ
図の露光装置の上方からみた上面図、第２図は露光ラン
プの光源が結像された位置検出ダイオードの表面図、第
６図は評価回路のブロック図である。 図において、１は露光装置、２け長形光源、６は基鈑、
７．８．９は止め面、１２．１３は投影光学装置、１６
はその光軸、 １８は評価回路、１９は表示装置、ＢＥ
は像面、ＰＤは位置検出ダイオードを示す。 代理人 弁理士 木 村 三 朗 第１頁の続き ＠発明者 ベルンハルト・ラウ ドイ ルト ０発 明 者 ロルフ・シュミット ドイツフ ッ連邦共和国、７３０７ アイヒヴアルト ３、シュー
ベシュトラーセ ７／１ ソ連邦共和国、７３００ エッスリンゲン、デー・ボン
へアーシュトラーセ ２１ 手続補正書防式） 特許庁長官殿 昭和６０年５月３１日 １、事件の表示 昭和６０年特許願第０２５３１７号 ２、発明の名称 露光装置内の光源位置測定装置 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 名称 スタンダード・エレクトリック・ローレンツ・ア
クチェンゲゼルシャフト ４、代理人 住 所 東京都港区虎ノ門−丁目２１番１９号５、補正
命令の日付 昭和６０年５月８日（発送日：昭和６０年
５月２８日） ６、補正の対象 図面
Claims (6)
- （１）止め面を有する基板と投影光学装置とを有し受像
管スクリーンとアパーチャー脅スクユニットとの代シに
露光装置上に載置可能な、カラー受像管螢光面製造用露
光装置内の長形光源の位置測定装置において、２つの投
影光学装置（１２，１３）を備え、それぞれの投影光学
装置の各像面（ＢＥ）中に電気的評価回路ａｌＫ接続さ
れた少なくとも２つの位置検出ダイオード（ＰＤ）’を
配設してなることを特徴とする露光装置内の光源位置測
定装置。 - （２）両投形光学装置（１２，１３）の光源に向いた光
軸α叶同士が４５・と１６５・の間の角度（α）を成し
ていることを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載の
光源位置測定装置。 - （３）位置検出ダイオード（ＰＤ）が幅よシも和尚に大
きな長さを有し、その長手軸が、像面上の正規の光源像
に対して直角に位置する様に像面（ＢＥ）内に１置され
ていることを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載の
光源位置検出装置。 - （４）評価（ロ）路ａ槌がアナログ計算回路であること
を特徴とする特許請求の範囲第１項に記載の光源位置検
出装置。 - （５）評価回路αので作られた信号の表示用に表示装置
（至）が設けられていることを特徴とする特許請求の範
囲第４項に記載の光源位置検出装置。 - （６）投影光学装置がそれぞれ４個の位置検出ダイオー
ド（ＦＤ）を含むことを特徴とする特許請求の範囲第１
項に記載の光源位置検出装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3405306.9 | 1984-02-15 | ||
| DE19843405306 DE3405306A1 (de) | 1984-02-15 | 1984-02-15 | Vorrichtung zum messen der lage einer im lichthaus angeordneten lichtquelle |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60228904A true JPS60228904A (ja) | 1985-11-14 |
Family
ID=6227734
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60025317A Pending JPS60228904A (ja) | 1984-02-15 | 1985-02-14 | 露光装置内の光源位置測定装置 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4630909A (ja) |
| EP (1) | EP0158041B1 (ja) |
| JP (1) | JPS60228904A (ja) |
| CA (1) | CA1258088A (ja) |
| DE (2) | DE3405306A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6477831A (en) * | 1987-09-18 | 1989-03-23 | Hitachi Ltd | Light exposing device |
| JPH07234105A (ja) * | 1994-02-23 | 1995-09-05 | Wacom Co Ltd | 光点位置計測方法 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50140159A (ja) * | 1974-04-27 | 1975-11-10 | ||
| JPS5121850A (en) * | 1974-08-14 | 1976-02-21 | Nippon Steel Corp | Chojakuzaino magarisokuteisochi |
| JPS58168905A (ja) * | 1982-03-30 | 1983-10-05 | Jeol Ltd | 光学式変位測定方式 |
Family Cites Families (2)
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1984
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1985
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Patent Citations (3)
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
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| US4630909A (en) | 1986-12-23 |
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| DE3405306A1 (de) | 1985-08-22 |
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