JPS60224139A

JPS60224139A - 高密度磁気光学再生ヘツド

Info

Publication number: JPS60224139A
Application number: JP7994584A
Authority: JP
Inventors: Iwao Hatakeyama; 畠山　巌; Osamu Ishii; 修石井; Shigeru Hirono; 廣野　滋; Kotaro Nonaka; 野中　耕太郎; Morio Kobayashi; 盛男小林
Original assignee: Nippon Telegraph and Telephone Corp
Current assignee: Nippon Telegraph and Telephone Corp
Priority date: 1984-04-20
Filing date: 1984-04-20
Publication date: 1985-11-08
Anticipated expiration: 2010-04-10
Also published as: JPH0731834B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】産業上の利用分野本発明は、磁気記録媒体上の微細記録ビットを再生する
ために使用される高密度磁気光学再生ヘッドに関するも
のである。

従来技術磁気記録の再生ヘッドとして、ヘッドコアの磁化変化を
カー効果またはファラデー効果などの磁気光学効果を利
用して検出する転写ヘッドすなわち磁気光学再生ヘッド
が知られている。この磁気光学再生ヘッドの基本的原理
は、山田はかの「ガーネットを用いた磁気録画再生方式
」、電子通信学会、磁気記録研究会、ＭＲ７９−１１に
開示されている。

その磁気光学再生ヘッドの原理を説明するならば、第１
図に示すように、ガーネットやパーマロイなどの軟磁性
材料で作られてヘッドコアを構成する軟磁性膜１０を、
基板１２に支持された磁気記録媒体膜１４に近接して位
置付ける。一方、その軟磁性膜１０に、光源１６から偏
光子１８を通った光ビーム２０を、ビームスプリッタ２
２を介して照射し、そして、軟磁性膜１０で反射した光
ビームを、ビームスプリッタ２２と検光子２４を介して
光検出器２６に人力する。

以上のような磁気光学再生ヘッドにおいて、磁気記録媒
体膜１４からの漏洩磁界２８によって軟磁性膜１０が磁
化される。その結果、光源１６から偏光子１８とビーム
スプリッタ２２を透過してきた光ビーム２０すなわち偏
光ビームは、軟磁性膜１０で反射するとき、磁気光学効
果により、偏光面が回転する。

そのように偏光面が回転した戻り光を、ビームスブリッ
ク２２と検光子２４とを介して光検出器２６で受けると
、光ビームが当たった軟磁性膜１０の部分の磁化の方向
３０を区別して検出することができる。

しかしながら、この方法における最小記録ビットの大き
さは、光の回折限界によって決定されてしまうため、理
論的には、０．８μｍ波長のレーザを使用した場合、約
０．４μｍである。更に、実際には、軟磁性膜１０の表
面を保護する保護膜が必要であることと、軟磁性膜に本
質的に発生する磁区のために、最小記録ビットの大きさ
の限界は、数μｍに留まっている。

そこで、再生できる記録ビットの大きさを小さくするた
めに、いくつかの提案がなされている。

例えば、特公昭５６−３３７８１号公報は、第２図に示
すように、透明体コア３２の斜面に軟磁性膜１０を形成
し、その上に反射膜３４を設け、更に、強磁性体コア３
６を設けた磁気光学再生ヘッドを開示している。この磁
気光学再生ヘッドの場合、軟磁性膜１０の端面が、磁気
記録媒体膜１４に近接して位置付けられ、その磁気記録
媒体膜１４からの漏洩磁界２８は、第２図に点線で示す
ように、軟磁性膜１０の中を通り、その軟磁性膜１０の
下方部分を磁化する。そこで、その軟磁性膜の下方部分
に偏光ビーム２０が当たるように、透明体コア３２に偏
光ビーム２０が導される。そして、その偏光ビームが、
軟磁性膜１０で反射するとき、磁気光学効果により、偏
光面が回転する。そのように偏光面が回転した戻り光は
、透明体コア３２を通って戻る。

また、米国特許第３．７３７．２３６号明細書は、第３
図に示すように、コア３８をクラッド４０が囲んでいる
光ファイバ４２の先端面に、軟磁性膜１０を形成して成
る磁気光学再生ヘッドを開示している。この磁気光学再
生ヘッドは、軟磁性膜１０が磁気記録媒体膜１４に対し
て傾斜するように位置付けられ、磁気記録媒体膜１４か
らの漏洩磁界２８は、第３図に点線で示すように軟磁性
膜１０の中を通り、その漏洩磁界によって軟磁性膜１０
が磁化される。その結果、光源１６から偏光子１８とビ
ームスプリッタ２０を透過して光ファイバに結合された
光ビームすなわち偏光ビームは、コア３８を通り軟磁性
膜１０で反射するとき、磁気光学効果により、偏光面が
回転する。

そして、偏光面が回転した戻り光は、再びコア３６を通
りビームスプリッタ２２と検光子２４とを介して光検出
器２６で受けられる。

更に、特開昭５９−１１５５６号公報は、第４図に示す
ような磁気光学再生ヘッドを開示している。この磁気光
学再生ヘッドは、軟磁性膜１０が光導波路４４Ａと４４
Ｂとに挟まれて構成されており、光導波路４４Ａと４４
Ｂの下方部分は、互いに向かい合う傾斜面が作られて反
射面４６Ａと４６Ｂが形成されている。そして、その軟
磁性膜１０が磁気記録媒体膜１４に対して直角に位置す
るように置かれて使用される。

そのため、磁気記録媒体膜１４からの漏洩磁界は、軟磁
性膜１０の下方部分を通り、その軟磁性膜１０の下方部
分を磁化する。そこで、その軟磁性膜の下方部分に偏光
ビーム２０が当たるように、光源１Ｇから偏光子１８と
ビームスプリッタ２０を透過して先導波路４４Ａに結合
された光ビーム２０は、光導波路４４Ａに結合されて反
射面４６Ａで反射して、軟磁性膜１０を透過するとき、
磁気光学効果により、偏光面が回転する。そして、偏光
面が回転した戻り光は、反射面４６Ｂで反射され光導波
路４４Ｂを通り、ビームスプリッタ２２と検光子２４を
介して光検出器２６で受けられる。

以上第２図から第４図までに示した従来の磁気光学再生
ヘッドに共通していることは、第１図に示した磁気光学
再生ヘッドでは軟磁性膜の磁気的な情報の大きさは本質
的に記録媒体上と全く同じであるのに対して、軟磁性膜
を記録媒体面に対して斜めあるいは垂直に立てているた
めに、再生ビットサイズの限界が、軟磁性膜の膜厚によ
って決ることである。

そのため、膜厚を薄くすることにより、原理的にビット
サイズの限界をより小くできるという利点がある。また
、光はヘッド先端付近を照射すればよいため、光の回折
限界の制約は受けない。

このように第２図から第４図までに示した磁気光学再生
ヘッドは、第１図に示した磁気光学再生ヘッドに比べて
、最小記録ビットが格段と小さくできる。

しかしながら、第２図から第４図までに示した磁気光学
再生ヘッドにおいては、１μｍ以下の幅をもった磁気記
録ビットを再生することは次に示す理由により著しく困
難であるという重大な問題点がある。その理由は、以下
の如くである。

磁気記録ビットから発生する漏洩磁界の上にヘッドであ
る磁性体を置いた時にヘッド先端がどのように磁化され
るか第５図に示す。第５図において、磁気記録媒体膜１
４に形成された磁気記録ビットは、矢印Ａの方向に並ん
でおり、その磁気記録ビットに対して軟磁性膜１０すな
わちヘッドコアの端面は平行に位置しており、また、軟
磁性膜１０の磁化容易軸は、磁気記録媒体膜１４の面と
平行にとっている。そして、Ｄは、磁気記録ビットによ
って磁化された軟磁性膜領域の端面からの距離すなわち
磁化遷移長を示し、θ。は軟磁性膜の最下部での磁化の
傾き、ｔは軟磁性膜１０の厚さである。

この場合、軟磁性膜１０すなわちヘッドコアの先端部の
磁化分布は、磁気記録媒体膜１４の磁気記録ビットから
の漏洩磁界によるゼーマンエネルギー、磁荷分布が生じ
ることによる静磁エネルギー、および磁気異方性エネル
ギーのつり合いによりエネルギー最小状態となるように
なっている。

第５図における軟磁性膜の磁化分布は、磁気記録ビット
の磁化方向が第５図において上向きの場合を示している
が、次の磁気記録ビットにおいて磁化の方向が下向きで
あれば、軟磁性膜の磁化方向は反対方向となり、軟磁性
膜の最下部の磁化の傾きθ。は−θ。となる。これを区
別することによりデジタル信号を得ることができる。

以上かられかるように、幅ｄの磁気記録ビットを再生す
るためには、軟磁性膜１０の厚さｔはｄより小さい必要
がある。例えば、５ｅＯＯｂｉｔ／ｍｍ以上の高密度記
録を再生するためには厚さｔは０．２μｍ以下でなけれ
ばならない。このようにヘッドコア厚が薄くなると、ヘ
ッド先端即ち軟磁性膜先端に生じる磁荷が少くなりその
影響も小さくなるので磁化遷移長りも小さくなる。

一方、ヘッド先端の磁化変化を光で検出する場合、磁化
遷移長りは光ビームのスポット径より大きい方が出力の
ＳＮ比（信号対雑音比）が向上することは明らかである
。記録密度（ｂｉｔ／ｍｍ）に対する磁化遷移長りと先
端部分の磁化の傾きθ。

との関係を、計算によりめたものを第６図に示す。なお
、ヘッド磁化は１００ｅｎＢｕ　／　ｃｃとした。

第６図から、Ｄは、数μｍのオーダーであり、記録密度
が５０００ｂｉｔ　７ｍｍ以上では、磁化遷移長りは、
１μｍ以下になってしまうことが分かろう。

この場合、磁化遷移長りのみを大きくするためには、ヘ
ッド磁化をより大きくして静磁エネルギーを上げればよ
いが、磁化を大きくするとヘッド先端における反磁場が
大きくなり、θ。は小さくなる。すなわち、磁化の変化
分が小さくなり、信号のＳＮ比が下がる。

第７図（ａ）及びわ）は、ヘッド先端にスポット径がφ
の光ビームを照射している状態を模擬した図であり、第
７図（ａ）はＤ〉φの時を示し、第７図ら）はＤくφの
時を示す。光スポツト径φの中の磁化がすべてθ−９０
°に揃っていた時の出力を１きしての規格化出力Ｐ／Ｐ
ｏはＤくφの時Ｄ〉φの時となる。但し、光ビーム強度はスポット内におい均一と
している。

式（１）及び（２）から、記録密度が２０００ｂｉｔ　
７ｍｍの場合の、光スポツト径φと規格化出力Ｐ／Ｐ、
との関係の１例を図示すると第８図の如きである。ビー
ム径を小さくすることにより出力は大きく増加すること
が分かろう。

ところで、波長０．８μｍ程度の光ビームをスポット径
φ１μｍ以下に絞ることは、レンズを用いると可能であ
るが、実際のヘッド構成を考慮すれば大きなレンズをヘ
ッド先端に近づけることは不可能であり、この方法は現
実的でない。これを避けるために従来、光ファイバとか
先導波路で光を導く方法が考案されていた。

しかし、光導波路を用いたとしても、光ビームの幅を５
μｍ以下にすることは非常に困難である。

これは、光が導かれる条件がコア幅によって制限を受け
るためである。たとえ、コアとクラッドの屈折率差を極
端に大きくしてコア幅を１μｍ以下にしたとしても、そ
れに伴い反対に、そのように小さなコアには光を十分入
射させることが困難となり、出力が大幅に制限されるこ
とになる。

カー効果による出力信号のＳＮ比はこれまで検討されて
おり、ＳＮ比＝Ｋ　−１０’／２１θ□・・・（３）但し、Ｋ
は比例定数。

である。但しｒｏは光のパワー、θには磁気光学カー回
転角である。現在通常の光学系の構成において工。−敗
ｍＷ、θに−０，４°程度で飽和出力のＳＮ比が約３５
ｄＢ程度となっている。このような条件で５μｍのコア
幅の光導波路を用いると、第８図で分るように、飽和出
力の約０．１５程度の出力しか得られずＳＮ比が１６ｄ
Ｂ減となり、全体のＳＮ比１．９ｄＢにしかならない。

更に、高密度記録の再生においては、ＳＮ比が更に低下
し、実際には、５μｍのコア幅の先導波路は使用するこ
とはできない。

以上述べたように、ヘッド先端の磁化変化を先導波路に
導入された光によって検出しようとする従来の方法は、
数１０００　ｂｉｔ／＋ｍｍの高密度記録再生ができ且
つ十分なＳＮ比の出力を得ることは、極端に困難であっ
た。

発明の目的そこで、本発明は、上記した欠点を解決して、数１００
０ｂｉｔ　７ｍｍから１００００ｂｉｔ　７ｍｍ以上の
高記録密度の磁気記録ビットを高感度、高ＳＮ比で再生
することができる磁気光学再生ヘッドを提供せんとする
ものである。

発明の構成すなわち、本発明によるならば、磁気光学再生ヘッドの
光導波路の表面に先導波路より十分大きい屈折率を有す
る光透過層を付着せしめ、光パワーを光導波路表面付近
に集中させて、軟磁性膜に入射されたるか、または、上
記高屈折率層自体を光透過性磁性体で形成する。

詳述すると、本発明によるならば、光導波路と、該光導
波路の光軸と交差するように該先導波路の面に形成され
た磁気光学効果を有する磁性薄膜と、前記先導波路の光
伝送路に沿って該光導波路の表面に形成されて前記磁性
薄膜まで延在する高屈折率材料薄膜とを具備し、光学系
により偏光を前記先導波路に結合して前記磁性薄膜に入
射しさせ、該磁性薄膜で磁気光学効果を受けた光を光学
系により光検出器に導くことを特徴とする高密度磁気光
学再生ヘッドが提供される。

以上のように構成される磁気光学再生ヘッドにおいて、
先導波路に導かれた光ビームは、高屈折率材料薄膜にそ
の光パワーが集中し、実質的に極めて細い光ビームが、
磁性薄膜の磁気記録媒体でより強く磁化された狭い領域
に入射するので、高記録密度の磁気記録ビットを高感度
、高ＳＮ比で再生することができる。

更に本発明によれば、光導波路と、該先導波路の表面に
形成された高屈折率磁性材料薄膜とを具備し、光学系に
より偏光を前記光導波路に結合し、該偏光が前記高屈折
率磁性材料薄膜を通るとき磁気光学効果を受け、その磁
気光学効果を受けた光を光学系により光検出器に導くこ
とを特徴とする高密度磁気光学再生ヘッドが提供される
。

この磁気光学再生ヘッドにおいても、先導波路に導かれ
た光ビームは、高屈折率磁性材料薄膜にその光パワーが
集中し、一方、その高屈折率磁性材料薄膜自体が磁気光
学効果で入射光ビームの偏光面を回転させるので、その
高屈折率磁性材料薄膜に磁気記録媒体の磁界を作用させ
ることにより、高記録密度の磁気記録ビットを高感度、
高ＳＮ比で再生することができる。

実施例以下添付図面を参照して本発明による高密度磁気光学再
生ヘッドの実施例を説明する。

第９図（ａ）は、本発明による高密度磁気光学再生ヘッ
ドの第１実施例の断面図であり、第１Ｏ図は、第９図の
頂面の平面図である。

第１実施例の高密度磁気光学再生ヘッドは、ヘッド基板
５０を有しており、そのヘッド基板５０には、コア５２
とクラッド５４とからなる光導波路が形成されている。

詳述するならば、第１０図に示すように、ヘッド基板５
０の端面５０Ａに斜め入射して、入射角とほぼ同じ角度
で反射する光路を形成するように、ヘッド基板５０の頂
面５０Ｂ上に、クラッド５４が形成され、その上にコア
５２が形成されている。更に、コア５２の上面の上には
、高屈折率材料層５６が形成されている。

そして、ヘッド基板５０の端面５０Ａの光導波路と交差
する部分には、軟磁性膜すなわちヘッドコア５８が形成
されている。また、先導波路の入射端６０に対してヘッ
ドコア５８を挟んで反対側の出射端部には、軟磁性膜１
０で反射した反射光をもとにもどすための鏡６２が形成
されている。

この鏡６２は、光導波路の端面に導波路軸に垂直にＡｌ
膜などの反射膜を形成することにより構成しても、また
、空気との界面での反射で十分な反射光が得られるなら
ば、光導波路の端面を鏡面にしただけでもよい。

以上のうよな磁気光学再生ヘッドは、高屈折率材料層５
６側を磁気記録媒体側として、ヘッドコア５８が磁気記
録媒体の表面に対して直角又は傾斜するように、磁気記
録媒体に対して位置付けられて使用される。そして、第
９図（ａ）にも第１０図にも図示していない光源から偏
光子を通ってきた偏光ビームが、入射端６０から先導波
路に結合され、そして、ヘッドコア５８で反射し、更に
、鏡６２で反射して戻される反射光ビームは、入射端５
８から取り出され、図示していない検光子を介して光検
出器に結合される。

以上の如く偏光ビームを結合したときの光ビームのパワ
ー分布を第９図（ｂ）に実線６４で示す。なお、第９図
ら）において、点線６６は、高屈折率材料層５６が設け
られていないときの光ビームのパワー分布を示しており
、コア５２の厚さ２ａにわたってほぼガウス分布してい
る。それに対して、高屈折率材料層５６を設けることに
より、光ビームのパワーが厚さ２ｂの高屈折率材料層５
６に集中することがわかろう。そのために、磁化傾斜角
が大きい磁気記録媒体側のへラドコア５８の先端部に、
実質的に極めて細い光ビームを当てることができる。

詳細に検討するならば、先導波路内の光は、偏光状態を
保持する必要あるため単一モード条件を満足させる必要
がある。そのためにはスラブ導波路で規格化周波数υは
π／２とならなければならない。即ちここで、ｎはコアの屈折率、２ａはコア幅、Δはコアと
クラッドの比屈率差、λは光の波長である。

通常コアおよびクラッドは石英にＧｅ、　ｐなどをドー
プしたものを用いる。クラッドはコアより若干屈折率を
下げておりΔ＝０．３〜０．５％位である。

そこで、Δ−０，５％、ｎ＝１．５、π＝０．８５μｍ
とすると、（４）式より２ａ＝１１μｍとなり、第９図
的の曲線６６で示すように、光パワーはこの１１μｍコ
ア５２の内でほぼガウス分布している。

ところが、先導波路のコア５２の上に先導波路コアより
大きい屈折率を持つ材料層５６を、例えば、Ｔａ２１ｓ
　、ＡＳ２　Ｓ、　Ｓｉ等の薄膜を付着せしめたことに
より、光パワーは、第９図ら）に曲線６４で示すように
、高屈折率材料層５６に集中する。この時の光パワーが
集中する幅２ｂは、ｎ＝３．５（但し高屈折率材料とし
てＳｉを使用した場合）、△−０，５７、λ−０，８５
μｍとすると、２ｂ＝０．１μｍとなる。実際には光の
しみ出しがあるために多少大がるが、０．５μｍ以内に
集中させることができる。

この結果、ヘッドコア先端０．５μｍの部分の磁化変化
をみることができるため、第８図かられかるように、規
格化出力は０．７となり、高屈折率層を付着させない場
合の０．０６に比べて１０倍以上に出力が増大する。

また、第６図から分かるように、１０’　ｂｉｔ　７ｍ
ｍにおける磁化遷移長りは０．６μｍであり、０．５μ
ｍ幅の光ビームを用いることにより、上記（２）式から
０．４の規格化出力が得られる。これは飽和出力のＳＮ
比を３５ｄＢとすると、２７ｄＢのＳＮ比の出力となる
。この結果、現在へラドコア材として知られているパー
マロイ、Ｃｏ−Ｚｒ合金をヘッドコア材料に使用し、ま
た、通常のＡｌＧａＡｓ半導体レーザ、Ｓｉアバランシ
ェダイオード、偏光プリズム等を使用することによって
、１０’　ｂｉｔ　／ｍｍ程度の高密度記録でも十分高
いＳＮ比で再生出力を得ることができる。

なお、第９図（ａ）かられかるように、高屈折率材料層
５６は、光導入方向から徐々に厚さを増すようにテーパ
部５６Ａを設ける必要がある。これは急激な変化をすれ
ば光の散乱損失が増すからである。

また、図示していないが、高屈折率材料層５６の上に、
高屈折率材料層５６よりも屈折率が小さい媒体（例えば
５ｉＯ２）を０．１μｍ程度付着させることにより、光
の漏洩を防ぐと共に記録媒体との接触の際の機械的な保
護層とすることができる。

さらに、ヘッドコア５８内の磁化は光の入射面に対して
平行になっていないた必、ポーラーカー効果を用いるこ
とはできない。従って、第１０図に示しまた上述したよ
うに、光ビームは、入射角θ、でヘッドコア５８に斜め
に入射させている。入射角θ、が６０〜７５°程度でロ
ンジチューブナルカー効果、及びトランスバースカー効
果が最も大きくなる。

第１１図は、本発明による高密度磁気光学再生へラドの
もう１つの実施例を示すものである。この実施例の磁気
光学再生ヘッドは、ヘッド基板７０を有しており、その
ヘッド基板７０には、先導波路のコア７２が形成されて
いる。そのコア７２の上には、その端面７ＯＡまで延び
る高屈折率の透明な磁性材料層によりなるヘッドコア７
４が形成されている。

そして、ヘッド基板７０の端面７０Ａには、鏡７６が形
成されている。

この鏡７６も、先導波路の端面に導波路軸に垂直にΔβ
膜などの反射膜を形成することにより構成しても、また
、空気との界面での反射で十分な反射光が得られるなら
ば、先導波路の端面を鏡面にしただけでもよい。

以上のうよな磁気光学再生ヘッドは、高屈折率の透明な
磁性材料層からなるヘッドコア７２が磁気記録媒体膜１
４の面に対して直角にあるように、ヘッドコア７２の端
面が磁気記録媒体膜１４に近接して位置付けられて使用
される。そして、光源１６から偏光子１８とビームスプ
リッタ２２を介して送られてくる偏光ビーム２０が、コ
ア７８がコア７２と結合している偏波保持型光ファイバ
８０を介してコア７２に結合され、そして、鏡７６反射
した反射光ビームは、コア７２から取り出され、再び光
ファイバ８０を通り、ビームスプリッタ２２と検光子２
４を介して光検出器２６に結合される。

以上の如く偏光ビームを結合したときの光ビームは、ヘ
ッドコア７４をなす高屈折率の透明な磁性材料層が設け
られていないコア７２の部分では、曲線８２で示すよう
なパワー分布となり、高屈折率の透明な磁性材料層が設
けられた部分から、曲線８４で示すパワー分布となり、
パワー分布が高屈折率の透明な磁性材料層に偏り始め、
ヘッド基板７０の端面７ＯＡ付近では、曲線８６で示す
パワー分布となり、パワー分布が高屈折率の透明な磁性
材料層に極端に集中する。

第１１図のパワー分布曲線８２．８４．８６かられかる
ように、高屈折率の透明な磁性材料層が設けられていな
いときの光ビームのパワー分布は、コア７２の幅にわた
ってほぼガウス分布をなしており、それに対して、高屈
折率の透明な磁性材料層を設けた部分は、光ビームのパ
ワーが高屈折率の透明な磁性材料層に集中することがわ
かろう。換言するならば、光ビームは、ヘッドの先端に
向かって進むにつれて、そのパワー分布が薄くて高屈折
率の透明な磁性材料層からなるヘッドコア７４に集中す
る。

一方、そのように光パワーが集中している高屈折率の透
明な磁性材料層からなるヘッドコア７４は、磁気記録媒
体膜１４からの磁界を感じて磁化するため、光ビームは
、ファラデー効果によりその偏光面が回転し、その偏光
面が回転した光ビームは、鏡７６で反射して光ファイバ
を介して、最終的には光検出器２６に人力される。

高屈折率の透明な磁性材料層６８の材料としては、例え
ば、Ｂ＋ＹＩＧ等が適当である。Ｂ、−ＹＩＧの屈折率
は２．５であるため、（４）式より、０．８５μｍ波長
の場合へラドコアの厚さ２ａ＝　０．２μｍである。

従って、本実施例によれば、０．２μｍ幅のビットまで
は十分の出力が得られる。

Ｅｌｌ−Ｙ　Ｉｃ自体の磁化は１０１００ｅ　／　ｃｃ
以下と小さくすることができるため、従来技術の項で述
べたように先端での反磁界を十分小さくできヘッド先端
の磁化変化を大きくすることができる。この時、磁化遷
移長りは１μｍもあれば十分である。これはＢｉ−Ｙ　
Ｉ　Ｇのファラデー効果は大きく１°／μｍ程度は十分
得られるからである。

第１実施例と第２実施例とを比較するならば、光導波路
上へ高屈折率材料層を付着させることは同じであるが、
第２実施例では、高屈折率材料層を付着しているが、そ
の高屈折率材料層自体が光に対して透明な磁性材料であ
る。従って、高屈折率材料層自体がヘッドコアとなるた
め、第１実施例のように先導波路先端へさらに軟磁性膜
を付着させることは必要ない。

以上２つの実施例を示したが、本発明の本質は、光導波
路でヘッドコアに偏光を当ててヘッドコアの磁気光学効
果を利用する磁気光学再生ヘッドにおいて、光導波路表
面に光導波路より屈折率が大きい材料層を付着せしめて
、光パワーを微少領域に集中させて、ヘッドコアに入射
させるか、その高屈折率材料層自体をヘッドコアとして
用いることにある。従って、本明細書中に記載した具体
的例は、−例であり、本発明はそれら具体例に特定され
るものではなく、本発明の主旨に合致するものは本発明
の範囲に含まれるものである。

発明の詳細な説明したように、本発明による磁気光学再生ヘッドを
使用するならば、現存する材料及び光導波路、レーザ、
ディティフタ等を用いてヘッドを構成することにより、
高密度記録されて記録媒体のサブミクロンサイズのビッ
ト信号を高感度、高ＳＮ比で検出することができる。従
って、磁気テープ、フレキシブル磁気ディスク、ノλ−
ド磁気ディスク等の磁気ヘッドとして用いることにより
、超高密度記録再生が可能であり、磁気記録を用いるデ
ィジタル情報処理、■ＴＲ１オーディオ等において従来
の記録密度特性を大幅に向上させることができると共に
記録装置の小型化低価格化に大きく貢献することができ
る。

〔主な参照番号〕

１０・・軟磁性膜、１２・・基板、１４・・磁気記録媒
体膜、１６・・光源、１８・・偏光子、２０・・光ビー
ム、２２・・ビームスプリッタ、２４・・検光子、２６
・・光検出器、３２・・透明体コア、３６・・強磁性体
コア、４４Ａ、４４Ｂ・・光導波路、４６Ａ４４６Ｂ〜
・・反射面、５０・・ヘッド基板、５２・・コア、５４
・・クラッド、５６・・高屈折率材料層、５８・・軟磁
性膜によるヘッドコア、６２・・鏡、７０・・ヘッド基
板、７２・・先導波路のコア、７４・・高屈折率の透明
な磁性材料層によりなるヘッドコア、７６・・鏡特許出願人　日本電信電話公社代　理　人　弁理士　新居正彦第１図第２図］４第６図記録１友Ｃｂｒｔ／ａｍ）第８図

Claims

【特許請求の範囲】

（１）先導波路と、該光導波路の光軸と交差するように
該先導波路の面に形成された磁気光学効果を有する磁性
薄膜と、前記先導波路の光伝送路に沿って該光導波路の
表面に形成されて前記磁性薄膜まで延在する高屈折率材
料薄膜とを具備し、光学系により偏光を前記光導波路に
結合して前記磁性薄膜に入射しさせ、該磁性薄膜で磁気
光学効果を受けた光を光学系により光検出器に導くこと
を特徴とする高密度磁気光学再生ヘッド。
（２）先導波路と、該光導波路の表面に形成された高屈
折率磁性材料薄膜とを具備し、光学系により偏光を前記
光導波路に結合し、該偏光が前記高屈折率磁性材料薄膜
を通るとき磁気光学効果を受け、その磁気光学効果を受
けた光を光学系により光検出器に導くことを特徴とする
高密度磁気光学再生ヘッド。