JPS60220102A - 原料液中の軽質留分除去方法 - Google Patents
原料液中の軽質留分除去方法Info
- Publication number
- JPS60220102A JPS60220102A JP7500384A JP7500384A JPS60220102A JP S60220102 A JPS60220102 A JP S60220102A JP 7500384 A JP7500384 A JP 7500384A JP 7500384 A JP7500384 A JP 7500384A JP S60220102 A JPS60220102 A JP S60220102A
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- JP
- Japan
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- tower
- steam
- pressure
- separation tank
- liquid
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- Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（目的及び従来技術）
本発明は軽質留分を含有する原料液から軽質留分を除去
する方法に関するものであり、特に、その際のスチーム
使用量を節減することを目的とする。
する方法に関するものであり、特に、その際のスチーム
使用量を節減することを目的とする。
軽質留分を含有する原料液をスチームと向流接触させ、
塔頂部から有用成分を回収し、あるいは塔底部から不要
成分を除去した水溶液を得ることを目的とした、いわゆ
るスチームストリッピングは広く使用されているが、こ
の方法の経、済性を高めるには、熱回収を効果的に行っ
てスチーム原単位を低下させることが重要である。
塔頂部から有用成分を回収し、あるいは塔底部から不要
成分を除去した水溶液を得ることを目的とした、いわゆ
るスチームストリッピングは広く使用されているが、こ
の方法の経、済性を高めるには、熱回収を効果的に行っ
てスチーム原単位を低下させることが重要である。
向流接触塔に供給される熱量は、ａ、向ｆｉｔ接触塔の
塔壁からの熱損失、ｂ、塔頂から取り出される軽質留分
に伴なわれて系外へ逃げる熱量、及びＣ０塔底から抜き
出される塔底液に伴なわれて系外へ逃げる熱量の形で失
われるが、本発明は、塔底から抜、き出される塔底液に
伴なわれて系外へ逃げる熱量の回収に関するものである
。
塔壁からの熱損失、ｂ、塔頂から取り出される軽質留分
に伴なわれて系外へ逃げる熱量、及びＣ０塔底から抜き
出される塔底液に伴なわれて系外へ逃げる熱量の形で失
われるが、本発明は、塔底から抜、き出される塔底液に
伴なわれて系外へ逃げる熱量の回収に関するものである
。
従来この熱量を回収するために行われている方法の１つ
は、向流接触塔の塔底液と原料液との熱交換を行わせる
方法であるが、この方法の欠点としては、原料液中の成
分が予熱により固化、析出する場合、熱交換器内で閉塞
する可能性があることである。他の方法は、塔底から抜
き出した塔服液を熱圧縮機（エジェクター）により減圧
下に保持された分離槽に供給し、スチームを発生させ、
そのスチームを利用する方法であるが、この方法の欠点
は、エジェクターの駆動スチームとして圧力レベルの高
い中圧以上のスチームが必要なことである。
は、向流接触塔の塔底液と原料液との熱交換を行わせる
方法であるが、この方法の欠点としては、原料液中の成
分が予熱により固化、析出する場合、熱交換器内で閉塞
する可能性があることである。他の方法は、塔底から抜
き出した塔服液を熱圧縮機（エジェクター）により減圧
下に保持された分離槽に供給し、スチームを発生させ、
そのスチームを利用する方法であるが、この方法の欠点
は、エジェクターの駆動スチームとして圧力レベルの高
い中圧以上のスチームが必要なことである。
本発明は、簡単な手段で塔底液の保有する熱量を回収し
、スチームを発生させる方法を提供するものである。
、スチームを発生させる方法を提供するものである。
（発明の構成）
即ち本発明は、軽質留分を含有する原料液を向流接触塔
の上部より供給してスチームと向流接触させ、軽質留分
を塔頂部から取り出し、塔底液を該向流接触塔の塔頂圧
力より高く且つ塔底圧力より低い圧力に保持されたフラ
ッシュ分離槽に供給し、該フラッシュ分離槽の底部より
軽質留分を除去された液体を得ると共にフラッシュ分離
槽において発生したスチームを前記向流接触塔の中間部
分に導入することよりなる。
の上部より供給してスチームと向流接触させ、軽質留分
を塔頂部から取り出し、塔底液を該向流接触塔の塔頂圧
力より高く且つ塔底圧力より低い圧力に保持されたフラ
ッシュ分離槽に供給し、該フラッシュ分離槽の底部より
軽質留分を除去された液体を得ると共にフラッシュ分離
槽において発生したスチームを前記向流接触塔の中間部
分に導入することよりなる。
これを添付第１図により説明すると、向流接触塔ｌの上
部に、ライン２からの原料液が熱交換器３で予熱されて
供給され、塔下部にライン４から供給されるスチームと
向流接触しつつ塔内を流下する。原料液中の軽質留分は
スチームストリッピングされて塔頂からライン５により
抜き出され、熱交換器３で原料液と熱交換して冷却され
た後、塔頂分離槽６を経て、ライン７により糸外へ導か
れる０分離された液はライン８により向流接触塔の上部
へ還流される。
部に、ライン２からの原料液が熱交換器３で予熱されて
供給され、塔下部にライン４から供給されるスチームと
向流接触しつつ塔内を流下する。原料液中の軽質留分は
スチームストリッピングされて塔頂からライン５により
抜き出され、熱交換器３で原料液と熱交換して冷却され
た後、塔頂分離槽６を経て、ライン７により糸外へ導か
れる０分離された液はライン８により向流接触塔の上部
へ還流される。
向流接触塔の塔底液は、ライン９により抜き出され、更
にフラッシュ分離槽１０に導かれるが、このフラッシュ
分離槽の圧力は、向流接触塔の塔頂圧力より高く且つ塔
底圧力より低い圧力に保持されている。従ってフラッシ
ュ分離槽では、自流接触塔の塔底圧力との差に対応する
スチームが発生する。この発生スチームの圧力は、向流
接触塔の塔頂圧力よりは高く塔底圧力よりは低いので向
流接触塔の中間部分の適当な圧力の部分へライン１１に
より導入する。この場合、フラッシュ分離槽の圧力を高
めにすれば塔底に近い部分に供給、できるが、発生スチ
ーム量は少なくなる。フラッシュ分離槽の圧力を低めに
すれば、発生スチーム量は多くなるが、塔頂に近い部分
にしか供給できない、従ってフラッシュ分離槽の圧力を
向流接触塔の塔頂圧力と塔底圧力との間でどのように定
め且つその発生スチームを向流接触塔のどの部分に供給
するかは、向流接触塔の接触効率を考慮し、フラッシュ
分離槽での発生スチームをスチームストリッピングに有
効に利用できる限度内で、なるべく圧力を低く、発生ス
チーム量が大となるように最適化すればよい。一般には
、向流接触塔の中段よりやや上方の段に供給できる圧力
とするのがよい。勿論、フラッシュ（分離槽での発生ス
チームを別途スチームと共に所望の圧力で向流接触塔の
所定の段に供給することもできる。軽質留分を除去され
、さらに発生スチームの形で熱量を回収された液体は、
フラッシュ分離槽１０の下部から、ライン１２により取
り出される。この液体はなお余熱を有するので、更に原
料液との熱交換を行わせることも可能である。
にフラッシュ分離槽１０に導かれるが、このフラッシュ
分離槽の圧力は、向流接触塔の塔頂圧力より高く且つ塔
底圧力より低い圧力に保持されている。従ってフラッシ
ュ分離槽では、自流接触塔の塔底圧力との差に対応する
スチームが発生する。この発生スチームの圧力は、向流
接触塔の塔頂圧力よりは高く塔底圧力よりは低いので向
流接触塔の中間部分の適当な圧力の部分へライン１１に
より導入する。この場合、フラッシュ分離槽の圧力を高
めにすれば塔底に近い部分に供給、できるが、発生スチ
ーム量は少なくなる。フラッシュ分離槽の圧力を低めに
すれば、発生スチーム量は多くなるが、塔頂に近い部分
にしか供給できない、従ってフラッシュ分離槽の圧力を
向流接触塔の塔頂圧力と塔底圧力との間でどのように定
め且つその発生スチームを向流接触塔のどの部分に供給
するかは、向流接触塔の接触効率を考慮し、フラッシュ
分離槽での発生スチームをスチームストリッピングに有
効に利用できる限度内で、なるべく圧力を低く、発生ス
チーム量が大となるように最適化すればよい。一般には
、向流接触塔の中段よりやや上方の段に供給できる圧力
とするのがよい。勿論、フラッシュ（分離槽での発生ス
チームを別途スチームと共に所望の圧力で向流接触塔の
所定の段に供給することもできる。軽質留分を除去され
、さらに発生スチームの形で熱量を回収された液体は、
フラッシュ分離槽１０の下部から、ライン１２により取
り出される。この液体はなお余熱を有するので、更に原
料液との熱交換を行わせることも可能である。
このようにして、フラッシュ分離槽での発生スチームに
相当する分だけ、ライン４から供給するスチームを節減
することができる。
相当する分だけ、ライン４から供給するスチームを節減
することができる。
フラッシュ分離槽は、８１図に示したように自流接触塔
と独立に設置しなくても、自流接触塔の下部に連設して
も効果は同じであり、設置面積が少なくて済む利点があ
る。
と独立に設置しなくても、自流接触塔の下部に連設して
も効果は同じであり、設置面積が少なくて済む利点があ
る。
なお向流接触塔において、フラッシュ分離槽での発生ス
チームを導入する部分を境に、上方に比べて下方は蒸気
負荷が減少するので、塔内構造物についてはそれに対応
する配慮が必要である。
チームを導入する部分を境に、上方に比べて下方は蒸気
負荷が減少するので、塔内構造物についてはそれに対応
する配慮が必要である。
実施例１
下記の量及び組成を有するアンモニア廃水をスチームに
てストリッピングして、塔頂よリアンモニアを回収する
向流接触塔において本発明を実施した。
てストリッピングして、塔頂よリアンモニアを回収する
向流接触塔において本発明を実施した。
原料液供給量 ６３．３ ｔ／Ｈ
原料液組成 アンモニア ７．１ ｗｔ％（４，５ｔ／
Ｈ） 水 ６９．６ ｗｔ ％ ＣａＣｌ２ １３．３ ｗｔ％ ＮａＣ１１０，Ｏｗｔ ５ １１図に示したような構成のプロセスにより、向流接触
塔（径１７００ｍｍ、２６段）の下部より９゜ｉｔ／Ｈ
のスチームを供給して、塔底圧力フ６０ｍｍＨｇ、温度
１０６℃、塔頂圧力５００ｍｍＨｇ、温度７１″Ｃ，フ
ラッシュ分離槽の圧力５５０ｍｍＨｇ、温度９７℃で操
業したところ、塔頂より下記の量及び組成のアンモニア
濃縮液を得た。
Ｈ） 水 ６９．６ ｗｔ ％ ＣａＣｌ２ １３．３ ｗｔ％ ＮａＣ１１０，Ｏｗｔ ５ １１図に示したような構成のプロセスにより、向流接触
塔（径１７００ｍｍ、２６段）の下部より９゜ｉｔ／Ｈ
のスチームを供給して、塔底圧力フ６０ｍｍＨｇ、温度
１０６℃、塔頂圧力５００ｍｍＨｇ、温度７１″Ｃ，フ
ラッシュ分離槽の圧力５５０ｍｍＨｇ、温度９７℃で操
業したところ、塔頂より下記の量及び組成のアンモニア
濃縮液を得た。
塔頂液生成量 ６．２ ｔ／Ｈ
塔頂液組成 アンモニア ７２．１ ｗｔ％（４、５ｔ
／Ｈ） 水 ２７．９ ｗｔ％ またフラッシュ分離槽の槽底液の生成量及び組成は次の
通りであった。
／Ｈ） 水 ２７．９ ｗｔ％ またフラッシュ分離槽の槽底液の生成量及び組成は次の
通りであった。
槽底法生成量 ６６．２ ｔ／Ｈ
槽底液組成 アンモニア １０ ＰＰｍ水 ７７．７ｗ
ｔ１％ ＣａＣｌ２１２．７ ｗｔ％ ＮａＣ１９，６ｗｔ％ 比較例１ 第２図に示したような、フラッシュ分離槽を有しない通
常のプロセスでスチームストリッピングを行ったところ
、実施例１で用いたと全く同じ組成で同量のアンモニア
廃水を、同じ圧力及び温度条件で処理してアンモニア残
存量がｌ１０ＰＰの塔底液を得るために必要な供給スチ
ームは１０゜Ｏｔ／Ｈであった・ この時の向流接触塔の塔頂液及び塔底液の生成量及び組
成は次の通りであった。
ｔ１％ ＣａＣｌ２１２．７ ｗｔ％ ＮａＣ１９，６ｗｔ％ 比較例１ 第２図に示したような、フラッシュ分離槽を有しない通
常のプロセスでスチームストリッピングを行ったところ
、実施例１で用いたと全く同じ組成で同量のアンモニア
廃水を、同じ圧力及び温度条件で処理してアンモニア残
存量がｌ１０ＰＰの塔底液を得るために必要な供給スチ
ームは１０゜Ｏｔ／Ｈであった・ この時の向流接触塔の塔頂液及び塔底液の生成量及び組
成は次の通りであった。
塔頂液生成量 ５．４ ｔ／Ｈ
塔頂液組成 アンモニア ８２．４ ｗｔ％（４，５ｔ
／Ｈ） 水 １７．６ ｗｔ ％ 塔底液生成量 ６７．８ ｔ／Ｈ 塔底液組成 アンモニア １０ ｐｐｍ水 ７８．３
ｗｔ ％ ＣａＣｌ２１２．４ ｗｔ％ ＮａＣ１９，３ｗｔ％ 即ち同じ組成で同じ量のアンモニア廃水を処理した場合
、実施例１は比較例１よりもスチーム使用量が０．９ｔ
／Ｈ（９，０％相当）の節減になる。
／Ｈ） 水 １７．６ ｗｔ ％ 塔底液生成量 ６７．８ ｔ／Ｈ 塔底液組成 アンモニア １０ ｐｐｍ水 ７８．３
ｗｔ ％ ＣａＣｌ２１２．４ ｗｔ％ ＮａＣ１９，３ｗｔ％ 即ち同じ組成で同じ量のアンモニア廃水を処理した場合
、実施例１は比較例１よりもスチーム使用量が０．９ｔ
／Ｈ（９，０％相当）の節減になる。
第１図は本発明を実施する場合のフローシートの一例、
第２図は従来法のフローシートである。 特許出願人 徳 山 曹 達 株 式 会 社団 日
揮 株 式 会 社 代理人 弁理士 青 麻 昌 二 第１図 第２１！１
第２図は従来法のフローシートである。 特許出願人 徳 山 曹 達 株 式 会 社団 日
揮 株 式 会 社 代理人 弁理士 青 麻 昌 二 第１図 第２１！１
Claims (1)
- 軽質留分を含有する原料液を向流接触塔の上部より供給
してスチームと向流接触させ、軽質留分を塔頂部から取
り出し、塔底液を該向流接触塔の塔頂圧力より高く且つ
塔底圧力より低い圧力に保持されたフラッシュ分離槽に
供給し、該フラッシュ分離槽の底部より軽質留分を除去
された液体を得ると共に、フラッシュ分Ｍ４ａにおいて
発生したスチームを前記向流接触塔の中間部分に導入す
ることよりなる原料液中の軽質留分除去方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7500384A JPS60220102A (ja) | 1984-04-16 | 1984-04-16 | 原料液中の軽質留分除去方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7500384A JPS60220102A (ja) | 1984-04-16 | 1984-04-16 | 原料液中の軽質留分除去方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60220102A true JPS60220102A (ja) | 1985-11-02 |
| JPH0448481B2 JPH0448481B2 (ja) | 1992-08-06 |
Family
ID=13563586
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7500384A Granted JPS60220102A (ja) | 1984-04-16 | 1984-04-16 | 原料液中の軽質留分除去方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60220102A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50103470A (ja) * | 1974-01-22 | 1975-08-15 |
-
1984
- 1984-04-16 JP JP7500384A patent/JPS60220102A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50103470A (ja) * | 1974-01-22 | 1975-08-15 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0448481B2 (ja) | 1992-08-06 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |