JPS60215754A - 高硬度溶射層の製造方法 - Google Patents
高硬度溶射層の製造方法Info
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- JPS60215754A JPS60215754A JP7098684A JP7098684A JPS60215754A JP S60215754 A JPS60215754 A JP S60215754A JP 7098684 A JP7098684 A JP 7098684A JP 7098684 A JP7098684 A JP 7098684A JP S60215754 A JPS60215754 A JP S60215754A
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
- C23C4/18—After-treatment
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- Plasma & Fusion (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Coating By Spraying Or Casting (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は炭化物系セラミック等を含む高硬度溶射層の製
造方法に関するもので、この方法によシ溶射層の硬さ、
耐摩耗性、耐高温腐食性、耐熱衝撃性を改善することを
目的とする◇ （従来の技術） セラミック及びセラミックを含む溶射層には、その素材
のもつ諸物件から耐摩耗性、耐食性、断熱性などが期待
されておル、ディーゼルエンジン燃焼室構成部品、ガス
タービン部品、ボイラチューブ等で既に多くの実用例が
ある。
造方法に関するもので、この方法によシ溶射層の硬さ、
耐摩耗性、耐高温腐食性、耐熱衝撃性を改善することを
目的とする◇ （従来の技術） セラミック及びセラミックを含む溶射層には、その素材
のもつ諸物件から耐摩耗性、耐食性、断熱性などが期待
されておル、ディーゼルエンジン燃焼室構成部品、ガス
タービン部品、ボイラチューブ等で既に多くの実用例が
ある。
しかし一方では、硬さ不足や耐熱衝撃性か劣るために思
わぬトラブルを生ずる場合も多い◇ことに硬さは焼結晶
にくらべて一般に低く問題となる場合が多い。
わぬトラブルを生ずる場合も多い◇ことに硬さは焼結晶
にくらべて一般に低く問題となる場合が多い。
更に、硬い溶射層を得るため、セラミックやセラミック
と金属の複合溶射が行なわれる。
と金属の複合溶射が行なわれる。
目的とする硬さを得るため表層だけ１００チセラミツク
の溶射層を設ける方法（例えば特願昭５６−１４９６２
０号他）もあ６＠このような１００１ｓセラミツク層は
一般に金属にくらべて脆く、耐衝撃性や耐熱衝撃性が劣
化するＯ そのため耐衝撃性、耐熱衝撃性に優れた高硬度の溶射層
を簡易な手段によル造る方法の確立が望まれている。
の溶射層を設ける方法（例えば特願昭５６−１４９６２
０号他）もあ６＠このような１００１ｓセラミツク層は
一般に金属にくらべて脆く、耐衝撃性や耐熱衝撃性が劣
化するＯ そのため耐衝撃性、耐熱衝撃性に優れた高硬度の溶射層
を簡易な手段によル造る方法の確立が望まれている。
（不発明が解決しようとする問題点）
本発明は以上のような登詰に鑑みなされたもので、耐摩
耗性、耐高温腐食性、耐衝撃性及び耐熱衝撃性に優れた
高硬度の溶射層を加圧装置等を用いずに製造する方法を
提案せんとするものである。
耗性、耐高温腐食性、耐衝撃性及び耐熱衝撃性に優れた
高硬度の溶射層を加圧装置等を用いずに製造する方法を
提案せんとするものである。
（問題点を解決するための手段）
以下、本発明の詳細な説明する〇
本発明者等は、炭化物系セラミック（””ｈＣｌｅＴＩ
Ｃ等）を含む粉末を溶射材料として用い、これを溶射し
て、不活性ガス雰囲気中、大気中または真空中（１””
ＩＩＩＨｇ ）で、加熱処理を行ない、第１図乃至第
３図に示すような結果を得た。
Ｃ等）を含む粉末を溶射材料として用い、これを溶射し
て、不活性ガス雰囲気中、大気中または真空中（１””
ＩＩＩＨｇ ）で、加熱処理を行ない、第１図乃至第
３図に示すような結果を得た。
第１図扶、７５％ｃｒ、ｃ、 −２５％ＮｉＣｒ層と、
６０％ＴｉＣ−４０％ＮＩ Ｃｒ 層における加熱温度
と硬さの関係を示しておシ、同図から４００〜１０００
°０ の加熱が硬さ上昇をもたらすことが確認される◎ 第２図及び第３図Ｉｆｉ％Ｃｒ、Ｃ１濃度の異なる溶射
層の硬さに及ばず加熱時間及び加圧力の影響を示してい
る◎硬さは加熱時間とともに急激に上昇するが、８００
°０では３〜１０ｈで飽和する〇一方、加圧力の上昇に
ともない硬化が生ずるものの、その硬化量は加熱により
得られる値を大幅に凌ぐものではない。また加熱及び加
圧の効果は高ＣＦ、Ｃ，濃度のときほど大きい。
６０％ＴｉＣ−４０％ＮＩ Ｃｒ 層における加熱温度
と硬さの関係を示しておシ、同図から４００〜１０００
°０ の加熱が硬さ上昇をもたらすことが確認される◎ 第２図及び第３図Ｉｆｉ％Ｃｒ、Ｃ１濃度の異なる溶射
層の硬さに及ばず加熱時間及び加圧力の影響を示してい
る◎硬さは加熱時間とともに急激に上昇するが、８００
°０では３〜１０ｈで飽和する〇一方、加圧力の上昇に
ともない硬化が生ずるものの、その硬化量は加熱により
得られる値を大幅に凌ぐものではない。また加熱及び加
圧の効果は高ＣＦ、Ｃ，濃度のときほど大きい。
なお、同様な傾向はＴＩＣ、Ｃｒｙ、Ｃ，など他の炭化
物系セラミックを含む溶射層及びＮ１−Ｃｒ。
物系セラミックを含む溶射層及びＮ１−Ｃｒ。
Ｎｉ −Ｃｒ−ＡＬ等の金属溶射層やこれらの金属を含
む溶射層にも認められる。
む溶射層にも認められる。
更に、耐高温腐食性、耐熱衝撃性の改善にも効果がある
。
。
これらの効果の発生機構は、■空洞の酸化物などによる
充填、■溶融粒子の下地との衝突・凝固時に生じたひず
み場が作用した異常拡散による炭化物の固溶・析出等が
原因となっているものと考えられる。
充填、■溶融粒子の下地との衝突・凝固時に生じたひず
み場が作用した異常拡散による炭化物の固溶・析出等が
原因となっているものと考えられる。
以上のような結果から、本発明は炭化物系セラミックを
含む溶射層あるいは金属からなる溶射層に加熱処理を施
すことをその基本的特徴とするものである。
含む溶射層あるいは金属からなる溶射層に加熱処理を施
すことをその基本的特徴とするものである。
そのうち、上記溶射に用いられる炭化物系セラミック及
び金属は実際に使用する場合、次のような組成からなる
複合溶射粉末を用いるＯ θ〜９９ＶｏＬ％の炭化物系セラミック（Ｃｒ５Ｃ，、
Ｔ１（Ｈ等） １〜１００ ＶｏＬ％の金属 （Ｎｉ −Ｃｒ 、 Ｎｌ −Ｃｒ−ＡＬ等）又、加熱
処理条件としては、 温 度 ４００〜１０００°０（１２００°０以上だと
溶射材料が溶けてくる） 時間 ０，５〜１００ｈ 雰囲気 不活性ガス、大気中又紘＾空中（１Ｇ−”ｗＨ
ｇ）である・ 尚、溶射方法としては、通常の溶射法によル、例えはＣ
Ｆ、Ｃ，を用い九プラズマ溶射の場合、 溶射機 プラズマガスン 出力 ４０ＫＷ 電圧 ４２Ｖ 電流 ８００Ａ プラズマガス アルゴン５ｓｎｓｉ ヘリウム２００ ｐｓｔ （ｐｓｉ ：ボンドスフウェアパーインチ１ ｐｓｉ
＝ ０．０７０ Ｋｆ７ｃｍ” ）という溶射手段によ
る。
び金属は実際に使用する場合、次のような組成からなる
複合溶射粉末を用いるＯ θ〜９９ＶｏＬ％の炭化物系セラミック（Ｃｒ５Ｃ，、
Ｔ１（Ｈ等） １〜１００ ＶｏＬ％の金属 （Ｎｉ −Ｃｒ 、 Ｎｌ −Ｃｒ−ＡＬ等）又、加熱
処理条件としては、 温 度 ４００〜１０００°０（１２００°０以上だと
溶射材料が溶けてくる） 時間 ０，５〜１００ｈ 雰囲気 不活性ガス、大気中又紘＾空中（１Ｇ−”ｗＨ
ｇ）である・ 尚、溶射方法としては、通常の溶射法によル、例えはＣ
Ｆ、Ｃ，を用い九プラズマ溶射の場合、 溶射機 プラズマガスン 出力 ４０ＫＷ 電圧 ４２Ｖ 電流 ８００Ａ プラズマガス アルゴン５ｓｎｓｉ ヘリウム２００ ｐｓｔ （ｐｓｉ ：ボンドスフウェアパーインチ１ ｐｓｉ
＝ ０．０７０ Ｋｆ７ｃｍ” ）という溶射手段によ
る。
以下本発明の実施例について説明する。
実施例１゜
（１）溶射材料 ７５％Ｃｒ、Ｃ，−２５％ Ｎ１Ｃｒ
（ＮｉＣｒは８０ｗｔ％Ｎｉ 、 ２０ｗｔ％Ｃｒ）（
２）溶射層厚さ ’１．５０ｐｍ （３）後熱処理 ８００°ｏ ３ｈ 従来の溶射ままの層断面の光顕組織と本法による組織の
写真を夫々第４図（ａ）（ｂ）に示すＯ顕著な差はない
ものの本法によるものでは溶射状態に存在した空洞がや
や微小になっている０ 従来の溶射層の硬さは約８００Ｈｖ（ビッカース硬さ）
であるが、本法による層硬さは約１２５０Ｈｖである。
（ＮｉＣｒは８０ｗｔ％Ｎｉ 、 ２０ｗｔ％Ｃｒ）（
２）溶射層厚さ ’１．５０ｐｍ （３）後熱処理 ８００°ｏ ３ｈ 従来の溶射ままの層断面の光顕組織と本法による組織の
写真を夫々第４図（ａ）（ｂ）に示すＯ顕著な差はない
ものの本法によるものでは溶射状態に存在した空洞がや
や微小になっている０ 従来の溶射層の硬さは約８００Ｈｖ（ビッカース硬さ）
であるが、本法による層硬さは約１２５０Ｈｖである。
従って著しい耐摩耗性の改善が期待される。
従来法による溶射層と不法によるそれの耐熱＠撃性を比
較すると、前者が約７５０°０以上の温度から水冷する
と割れが生ずるのに対して、後者ではこれが１０００°
０ 以上となっている。
較すると、前者が約７５０°０以上の温度から水冷する
と割れが生ずるのに対して、後者ではこれが１０００°
０ 以上となっている。
また従来の溶射層と不法によるそれの耐高温腐食性をバ
ナジウムアタック腐食減量によつ１比較すると、前者で
は約５５ｑ／♂であるのに対して、後者では約３５ ｑ
／♂と著しく耐高温腐食性が改善されている。
ナジウムアタック腐食減量によつ１比較すると、前者で
は約５５ｑ／♂であるのに対して、後者では約３５ ｑ
／♂と著しく耐高温腐食性が改善されている。
実施例２゜
（１）溶射材料
１ ｓｔ １００％Ｎ１Ｃｒ
（第１層）（ＮｉＣｒはＢＱｗｔチｌ（１、２０ｗｔチ
Ｃ７）２ｎｄ ３０％Ｃｒ、Ｃ１−７０％ＮｉＣｒ５ｒ
ｄ ６ｏ％Ｃｒ、Ｃ，−４０１ＮｉＣｒ４ｔｈ８０−％
Ｃｒ、Ｃ，−２０％Ｎ１Ｃｒ（２）溶射層厚さ ｌ ６ｔ １５０μｍ ２ｎｄ １５０μｍ ３ｒｄ １５０ μｍ ４ ｔｈ ２００ ｐｍ 合計 ６５０／ｊｍ （３）後熱処理 ８００°ｏ ａｈ 従来法による溶射層断面の光顕組織と不法によるそれを
夫々第５図（ａ） （ｂ）に示す。不法による溶射層は
従来法のものにくらべて著しく緻密であることが確認さ
れる。
Ｃ７）２ｎｄ ３０％Ｃｒ、Ｃ１−７０％ＮｉＣｒ５ｒ
ｄ ６ｏ％Ｃｒ、Ｃ，−４０１ＮｉＣｒ４ｔｈ８０−％
Ｃｒ、Ｃ，−２０％Ｎ１Ｃｒ（２）溶射層厚さ ｌ ６ｔ １５０μｍ ２ｎｄ １５０μｍ ３ｒｄ １５０ μｍ ４ ｔｈ ２００ ｐｍ 合計 ６５０／ｊｍ （３）後熱処理 ８００°ｏ ａｈ 従来法による溶射層断面の光顕組織と不法によるそれを
夫々第５図（ａ） （ｂ）に示す。不法による溶射層は
従来法のものにくらべて著しく緻密であることが確認さ
れる。
従来法によシ作製した溶射層の硬さは、１ｓｔ・・・約
２３０１（ｖ 、 ２ｎｄ ”・約５００ Ｈｖ 、
３ｒｄ ａｓｎ約７００ Ｈｖ 、 ４ｔｈ ・・・約
８５０Ｉ（Ｖで６りたが、不法のそれは、１ｓｔ・・・
３００ Ｈｖ 、 ２ｎｄ・・・約５５０ Ｈｖ 、
３ｒｄ−約１０００ Ｈｖ 、 ４ｔｈ ・・・約１３
００ＲＶ である。すなわち不法によシ溶射層硬さが著
しく向上し、耐摩耗性が改善されている０ 従来法による溶射層の熱衝撃割れ発生温度は約６００°
０であるが、不法によシ約８００°０に改善されている
０ 従来の溶射層のバナジウムアタック腐食減量は約５５キ
／ＣＭ”であるが、不法のそれは約３０ｆｆ／−である
。従って不法の採用によシ溶射〕得の耐高温腐食性が著
しく改善された。
２３０１（ｖ 、 ２ｎｄ ”・約５００ Ｈｖ 、
３ｒｄ ａｓｎ約７００ Ｈｖ 、 ４ｔｈ ・・・約
８５０Ｉ（Ｖで６りたが、不法のそれは、１ｓｔ・・・
３００ Ｈｖ 、 ２ｎｄ・・・約５５０ Ｈｖ 、
３ｒｄ−約１０００ Ｈｖ 、 ４ｔｈ ・・・約１３
００ＲＶ である。すなわち不法によシ溶射層硬さが著
しく向上し、耐摩耗性が改善されている０ 従来法による溶射層の熱衝撃割れ発生温度は約６００°
０であるが、不法によシ約８００°０に改善されている
０ 従来の溶射層のバナジウムアタック腐食減量は約５５キ
／ＣＭ”であるが、不法のそれは約３０ｆｆ／−である
。従って不法の採用によシ溶射〕得の耐高温腐食性が著
しく改善された。
実施例３゜
（１）溶射材料
１ ｓｔ １００％Ｎ１Ｃｒ
（ＮｉＣｒは８０ｗｔ％Ｎｉ 、 ２０ ｗｔ％Ｃｒ）
２ｎｄ ６０％Ｔｉｃ −４０１ＮｉＣｒ（２）溶射層
厚さ １ ｓｔ １５０ ｐｍ ２ｎｄ ２５０μｍ （３）後熱処理 ８００°０ ３ｈ 従来法の溶射層断面の光顕組織と不法の光顕組織の写真
を第６図（ａ）＜ｂ）に示す。不法による溶射層は従来
法によるそれとくらべて空洞が少ない。
２ｎｄ ６０％Ｔｉｃ −４０１ＮｉＣｒ（２）溶射層
厚さ １ ｓｔ １５０ ｐｍ ２ｎｄ ２５０μｍ （３）後熱処理 ８００°０ ３ｈ 従来法の溶射層断面の光顕組織と不法の光顕組織の写真
を第６図（ａ）＜ｂ）に示す。不法による溶射層は従来
法によるそれとくらべて空洞が少ない。
不法による溶射層（ｌｅｔ）の硬さは約５００Ｈマであ
シ、従来法のそれの約４００Ｈマ にくらべてやや高い
。耐熱衝撃性は不法によるものが約８００°０であル、
従来法の約６００゛０にくらべて改善されている。一方
、不法による溶射層のバナジウムアタック腐食減量は約
１０■に−であり、従来法によるものの約５０岬／１２
を著しく改善している。
シ、従来法のそれの約４００Ｈマ にくらべてやや高い
。耐熱衝撃性は不法によるものが約８００°０であル、
従来法の約６００゛０にくらべて改善されている。一方
、不法による溶射層のバナジウムアタック腐食減量は約
１０■に−であり、従来法によるものの約５０岬／１２
を著しく改善している。
実施例４゜
（１）溶射材料
ｌａｔ １００％Ｎ１Ｃｒ
（ＮｉＣｒは８０ｗｔ％Ｎｉ 、 ２０ ｗｔ％Ｃｒ）
２ｎｄ ａｎ％Ｔｉｃ −Ｔｏ ％ ＮｔＣｒ３ｒｄ
６０％ＴＩＣ−４０％ＮｌＣｒ４ｔｈ８０％ＴＩＣ−２
０％Ｎ１Ｃｒ （２）溶射層厚さ １ ｓｔ １５０μｍ ２ｎｄ １５０ｕｍ ３ｒｄ １５０μｍ ４ ｔｈ ２００ Ｐｍ 合計 ６５０μｍ （３）後熱処理 ８００°０ ３ｈ 本法による溶射層は従来法にくらべて緻密であシ、空洞
も少ない。本流の採用によシ耐熱衝撃性は約６００°Ｃ
から約８００°０に、バナジウムアタック腐食減量は約
７０ ’９／ｃｍ”から約１０ ”Ｐ ／１１ｎ”にそ
ｎ、ぞれ改善された。また硬さは１ｓｔ 、 ２ｎｄ層
では顕著な効果は認められないが、３ｒｄでは約４００
Ｈｖから約５００ Ｈｖに、４ｔｈでは約４５０Ｈｖ
から約７００１（ｖにそれぞれ硬化した。
２ｎｄ ａｎ％Ｔｉｃ −Ｔｏ ％ ＮｔＣｒ３ｒｄ
６０％ＴＩＣ−４０％ＮｌＣｒ４ｔｈ８０％ＴＩＣ−２
０％Ｎ１Ｃｒ （２）溶射層厚さ １ ｓｔ １５０μｍ ２ｎｄ １５０ｕｍ ３ｒｄ １５０μｍ ４ ｔｈ ２００ Ｐｍ 合計 ６５０μｍ （３）後熱処理 ８００°０ ３ｈ 本法による溶射層は従来法にくらべて緻密であシ、空洞
も少ない。本流の採用によシ耐熱衝撃性は約６００°Ｃ
から約８００°０に、バナジウムアタック腐食減量は約
７０ ’９／ｃｍ”から約１０ ”Ｐ ／１１ｎ”にそ
ｎ、ぞれ改善された。また硬さは１ｓｔ 、 ２ｎｄ層
では顕著な効果は認められないが、３ｒｄでは約４００
Ｈｖから約５００ Ｈｖに、４ｔｈでは約４５０Ｈｖ
から約７００１（ｖにそれぞれ硬化した。
（本発明の効果）
以上の実施９例から明らかなように、本発明による溶射
層の製造方法によれば、高硬反の溶射層が得られて耐摩
耗性が向上すると共に、耐高侶腐食性及び耐熱衝撃性も
向上させることができるという優れた効果な有している
。
層の製造方法によれば、高硬反の溶射層が得られて耐摩
耗性が向上すると共に、耐高侶腐食性及び耐熱衝撃性も
向上させることができるという優れた効果な有している
。
第１図は炭化物系セラミックの溶射層を加熱処理する際
、加熱温度による層硬さへの影響を示すグラフ図、第２
図は上記加熱処理の際、加熱時間による層硬さへの影響
を示すグラフ図、第３図は上記加熱処理の際、前記溶射
層を加圧した時の加圧力による層硬さへの影響を示すグ
ラフ図、第４図（ａ）（ｂ）は従来の溶射ままの層断面
の先頭組織と本発明の第１実施例による先頭組織の写真
を示す組織図、第５図（ａ） （ｂ）は、同じ〈従来法
のものと、第２実施例による先頭組織の写真を示す組織
図、第６図（１榊は従来法のものと、第３実施例による
先頭組織の写真を示す組織図である。 特許出願人 日本鋼管株式会社 発 明 者 山 １） 武 海 開 関 口 英 男 同 岡 本 寛 巳 代理人弁理士 吉 原 省 三 同 同 高 橋 清 １１１図 加かｙＩＬ度（０Ｃ） 第３図 ４Ｉｎｃ自ｔＩ／ハイ１ｉｉｖｖＪｈ＋ｉｉ２ 図 加紙時間 （ｈ） 第４図 （ａ） （ｂ） ”ｊＢ５図 第６図 （Ｏ）（ｂ）、
、加熱温度による層硬さへの影響を示すグラフ図、第２
図は上記加熱処理の際、加熱時間による層硬さへの影響
を示すグラフ図、第３図は上記加熱処理の際、前記溶射
層を加圧した時の加圧力による層硬さへの影響を示すグ
ラフ図、第４図（ａ）（ｂ）は従来の溶射ままの層断面
の先頭組織と本発明の第１実施例による先頭組織の写真
を示す組織図、第５図（ａ） （ｂ）は、同じ〈従来法
のものと、第２実施例による先頭組織の写真を示す組織
図、第６図（１榊は従来法のものと、第３実施例による
先頭組織の写真を示す組織図である。 特許出願人 日本鋼管株式会社 発 明 者 山 １） 武 海 開 関 口 英 男 同 岡 本 寛 巳 代理人弁理士 吉 原 省 三 同 同 高 橋 清 １１１図 加かｙＩＬ度（０Ｃ） 第３図 ４Ｉｎｃ自ｔＩ／ハイ１ｉｉｖｖＪｈ＋ｉｉ２ 図 加紙時間 （ｈ） 第４図 （ａ） （ｂ） ”ｊＢ５図 第６図 （Ｏ）（ｂ）、
Claims (1)
- 炭化物系セラミックを含む溶射層あるいは金属からなる
溶射ＭｆｆＣ加熱処理を施すことを特徴とする高硬度溶
射層の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7098684A JPS60215754A (ja) | 1984-04-11 | 1984-04-11 | 高硬度溶射層の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7098684A JPS60215754A (ja) | 1984-04-11 | 1984-04-11 | 高硬度溶射層の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60215754A true JPS60215754A (ja) | 1985-10-29 |
Family
ID=13447360
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7098684A Pending JPS60215754A (ja) | 1984-04-11 | 1984-04-11 | 高硬度溶射層の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60215754A (ja) |
Cited By (7)
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|---|---|---|---|---|
| JPS6338295U (ja) * | 1986-08-29 | 1988-03-11 | ||
| JPS63133026A (ja) * | 1986-11-25 | 1988-06-04 | Meiyou Denki Kk | 耐熱，耐摩耗温度センサ用保護管 |
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1984
- 1984-04-11 JP JP7098684A patent/JPS60215754A/ja active Pending
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