JPS60213040A - Wafer prober - Google Patents

Wafer prober

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JPS60213040A
JPS60213040A JP6907284A JP6907284A JPS60213040A JP S60213040 A JPS60213040 A JP S60213040A JP 6907284 A JP6907284 A JP 6907284A JP 6907284 A JP6907284 A JP 6907284A JP S60213040 A JPS60213040 A JP S60213040A
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probe
probe needle
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Tsutomu Hanno
勉 半野
Ryuji Yoneda
米田 龍次
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飛留間 忠
Norio Ishiwatari
石渡 登雄
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Hitachi Ltd
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Abstract

PURPOSE:To obtain a wafer prober, which can accurately conduct teaching work automatically, by providing a control section recognizing and arithmetically operating the dimensional dispersion and mean position of a probe group. CONSTITUTION:The images of a probe group 12 intruding from an image receiving port 15a are transmitted into an optical image pickup section 18 through a fiberscope 17. A television signal generating section 21 transmits an image sensor in the optical image pickup section 18 over a recognition processing section 22. Ranges A, B, C, D shown in circles represent visual fields for the object image receiving port 15a when an XYZTHETA table 2 is moved in a probe card 13 on a prober device base 7. An arithmetic control section 6 is interfaced to the pattern recognition processing section 22, integrates the positional data of these visual fields, and arithmetically operates the data to determine the XYZ mean position and revolution of the probe group 12, thus completing teaching work. An XYZTHETA table control unit 5 receives the command of the arithmetic control section 6, controls a motor amplifying section 3 in response to detecting outputs from a position detecting section 4 and controls the speed and positioning of the table 2.

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は、半導体ウェーハ加工工程において、グローブ
検査工程に使用されるウエーハグローバ装置に関するも
のである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Application of the Invention] The present invention relates to a wafer glover device used in a glove inspection process in a semiconductor wafer processing process.

〔発明の背景〕[Background of the invention]

一般にプローブ検査工程では、半導体ICテスターと連
動してウェーハ上に形成されたチップのブロービングを
順次笑行する自動ウエーハプローバ装置が使用されてい
る。
Generally, in the probe testing process, an automatic wafer prober device is used which sequentially performs probing of chips formed on a wafer in conjunction with a semiconductor IC tester.

第1図に、従来用いられているこの種のウエーハプロー
バ装置の構成例を示す。図において、グローブ検査され
るウェーハIU、X、Y、Zおよび回転方向に移動する
XYzθテーブル2に真空固着される。XYzθテーブ
ル2け、モーター、ねじ送りなどにより直線および回転
方向に駆動される。モータアンプ部3は、これらXYz
θに電力を与え、位置検出部4はXYzθテーブル2に
取付りられたXYZおよび回転位置検出センサからのテ
ーブル位置情報を受ける。XYZθテーブル制御ユニッ
ト5社、演算制御部60指令を受け位置検出部4の検出
出力に応じてモータアンプ部3を制御(7テーブル2の
速度制御および位置決め制御を行なう。
FIG. 1 shows an example of the configuration of a conventionally used wafer prober device of this type. In the figure, a wafer IU, X, Y, and Z to be inspected with a glove is vacuum-fixed to an XYzθ table 2 that moves in the rotational direction. Driven in linear and rotational directions by two XYzθ tables, motor, screw feed, etc. The motor amplifier section 3
Power is applied to θ, and the position detection unit 4 receives table position information from the XYZ and rotational position detection sensors attached to the XYzθ table 2. Five XYZθ table control units receive commands from the arithmetic control unit 60 and control the motor amplifier unit 3 according to the detection output of the position detection unit 4 (7 perform speed control and positioning control of the table 2).

プローバ装置ベース7にはウェーハ1の粗位置を検出す
るウェーハ位置検出器8が取付けられ、ウェーハ1の外
周およびオリフラ位置を演算検出するためウェーッ・位
置検出インターフェース部9に電気接続さ7している。
A wafer position detector 8 for detecting the rough position of the wafer 1 is attached to the prober device base 7, and is electrically connected to a wafer/position detection interface section 9 for calculating and detecting the outer circumference and orientation flat position of the wafer 1. .

また、ベース7にはウェーハ1上のチップパターンを認
識するウェーッSg識装@ioが設置され、ウェーッ・
認識制御部11に接続されている。ウェーッ・認識制御
部11は、演算制御部6とインターフェースをとってウ
ェーハ1上のチップパターンを演算認識させ、高精度の
位置検出を行なう。
In addition, a wafer Sg identification device @io is installed on the base 7 to recognize the chip pattern on the wafer 1.
It is connected to the recognition control section 11. The wafer recognition control section 11 interfaces with the arithmetic control section 6 to perform arithmetic recognition of the chip pattern on the wafer 1, and performs highly accurate position detection.

次に、後述するティーチイン作業が完了し、プローブ針
群12の位置が演算制御部6に既に記憶されている場合
の通常作業について、上記グローバ装置におけるブロー
ビング作業を説明する。
Next, the blobbing operation in the above-mentioned glover device will be explained regarding the normal operation when the teach-in operation described later has been completed and the position of the probe needle group 12 has already been stored in the arithmetic control section 6.

ウェーハIViXYZθテーブル2に対し±2mm程度
のばらつきで、また回転方向線不定の状態で自動供給さ
れる。したがって、プローバ基準点からのウェーハ1の
位fItは不明でめる。そこで、次の手順により位置検
出を行なう。
The wafers IViXYZθ are automatically supplied to the table 2 with a variation of about ±2 mm and with an undefined rotational direction. Therefore, the position fIt of the wafer 1 from the prober reference point is unknown. Therefore, position detection is performed using the following procedure.

すなわち、プローバ基準点に対するXYzθテーブル2
0位置鉱位置横位置検出部4力情報により既知でるるた
め、演算制御部6はテーブル制御ユニット5に指令を出
してウェーハ位置検出器8下の特定位置へテーブル2を
送る。次にその位置でテーブル2t−回転させ、ウェー
ハ1をウェーハ位置検出器8下で回転させる。この場合
検出器8はウェーハ1外部が振れても十分な検出範囲を
持っている。
In other words, XYzθ table 2 for the prober reference point
Since the 0 position ore position is known from the lateral position detector 4 force information, the arithmetic controller 6 issues a command to the table control unit 5 to send the table 2 to a specific position below the wafer position detector 8. Next, the table 2t is rotated at that position, and the wafer 1 is rotated under the wafer position detector 8. In this case, the detector 8 has a sufficient detection range even if the outside of the wafer 1 shakes.

回転中に、ウェーハ位置検出インターフェース部9全通
して演算制御部6蝶ウエーハ1の中心位置およびオリフ
ラの位置全演算検出する。次いでそのめた位置全基準と
してさらに高精度の位置決めを行なうために次の作業を
行なう。
During rotation, the wafer position detection interface section 9 is passed through the arithmetic control section 6 to detect the center position of the wafer 1 and the position of the orientation flat. Next, the following operation is performed to perform positioning with even higher precision using the thus obtained positional reference.

すなわち、ウェーハ1の中心位置および回転方向がウェ
ーハ位置検出器80レベルの精度で既知となったため、
次にXYzθテーブル2を移動させウェーハ上のろる特
定のチップパターン部分音ウェーハU識装fi[10下
の検出領域に入れることができる。演算制御部6は、ウ
ェーハ認識制御部11と父信しチップパターンからチッ
プの位置を高精度に演算認識する。このようなチップパ
ターンを予めウェーハ内の離れた位置に2個以上選定し
ておき、2個所以上の位置情報から、演算制御部6にお
いて最終的にウェーハ位置を所定の精度で検知する。
In other words, since the center position and rotation direction of the wafer 1 are known with the accuracy of the wafer position detector 80,
Next, the XYzθ table 2 can be moved to place the partial sound of a specific chip pattern on the wafer into the detection area below the wafer U identification device. The arithmetic control unit 6 calculates and recognizes the position of the chip with high precision based on the chip pattern that is transmitted from the wafer recognition control unit 11. Two or more such chip patterns are selected in advance at separate positions on the wafer, and the wafer position is finally detected with a predetermined accuracy in the arithmetic control section 6 from the positional information of the two or more positions.

以上の作業でウェーハ1の位置がプローバ基準点に対し
高精度で既知になる。プローブ針群12の位置は演算制
御部6において既知でるるため、XYzθテーブル制御
ユニット5に指令を出してプローブ針群121にウェー
ハ1上のチップ内にあるポンディングパッドに正確に位
置決め接触させることができる。また、ウェーッ′−1
上の各チップ間のX方向ピッチ、Y方向ピッチの情報は
予め記憶されているので、ウェーハ1上の多数のチップ
を順次プロービングすることができる。
Through the above operations, the position of the wafer 1 is known with high accuracy with respect to the prober reference point. Since the position of the probe needle group 12 is known in the arithmetic control unit 6, a command is issued to the XYzθ table control unit 5 to accurately position and contact the probe needle group 121 with the bonding pad in the chip on the wafer 1. I can do it. Also, Wa'-1
Since the information on the pitch in the X direction and the pitch in the Y direction between the chips on the wafer 1 is stored in advance, a large number of chips on the wafer 1 can be sequentially probed.

しかし、プローブカード13の交換また線取外し調整を
行なった場合には、一般にプローブ針群の位置が移動し
、演算制御部6に記憶されているプローブ針群12の位
置情報が無効となる。この場合、新たにグローバ装置ペ
ース7に装着されたグローブカード13についてプロー
ブ針群12の位置を検出する必要がある。そこで次にこ
の位置の検出および演算制御部6へのその位置情報のテ
ィーチイン作業が必ず必要になる。次にこの作業につい
て説明する。
However, when the probe card 13 is replaced or the wire is removed and adjusted, the position of the probe needle group generally moves, and the position information of the probe needle group 12 stored in the arithmetic control unit 6 becomes invalid. In this case, it is necessary to detect the position of the probe needle group 12 on the glove card 13 newly attached to the glover device pace 7. Therefore, next, detection of this position and teaching-in of the position information to the arithmetic and control section 6 are absolutely necessary. Next, this work will be explained.

まず、ろるウェーハをXYzθテーブル2に自動供給す
る。次にこのウェー71について、上述したウェーハ位
置検出作業を冥施させ、プローバ基準位置に対するウェ
ーハ位置を既知とする。ここで、手動操作によりXYZ
θステック14を操作し、XYzθテーブル2を移動さ
せ、ウェーハ1全の特定チップのポンディングパッドを
プローブ針群12に位置合せ接触させる。この位置合せ
作業にh顕微鏡15ケ使用し、目視により感応作業でポ
ンチインクパッドとプローブ針との相対位置の判定ヶし
、両者の目合せ一致を図る。この間、演算制御部6Fi
XYZθスデツク14にXYzθテーブル2か追従′f
るように、XYZθテーブル制御ユニット5に指令を出
しており、目合せ一致がとれたところでXYZθデープ
ル2の位置情報を位置検出部4〃)ら取り出し、XYz
θテーブル制御ユニット5を通じて演算制御部6にティ
ーチインさせる。
First, a rolling wafer is automatically fed to the XYzθ table 2. Next, this wafer 71 is subjected to the wafer position detection work described above, so that the wafer position relative to the prober reference position is known. Here, by manual operation, XYZ
The θ stick 14 is operated to move the XYzθ table 2 so that the bonding pads of specific chips on all of the wafers 1 are aligned and brought into contact with the probe needle group 12. Fifteen microscopes are used for this alignment work, and the relative positions of the punch ink pad and probe needle are determined visually and sensitively to ensure alignment between the two. During this time, the calculation control unit 6Fi
XYZθ table 2 or follow-up to XYZθ table 14
A command is issued to the XYZθ table control unit 5 to
Teach-in is made to the arithmetic control section 6 through the θ table control unit 5.

このように位置の既知なウェーッ蔦にグローブ針を目合
せし、その時のXYZ&テーブル2の位置情報を記憶す
ることによジ新たに装着されたプローブ針群の位置がプ
ローバ基準位置に対して既知となp演算制御部6に記憶
される。なお、これらの作業は演算制御部6に予めスト
アされた制御プログラム6a K*行によV笑施される
In this way, by aligning the glove needle with the wave vine whose position is known and storing the position information of XYZ & table 2 at that time, the position of the newly attached probe needle group is known with respect to the prober reference position. is stored in the p calculation control section 6. Note that these operations are performed by the K* line of the control program 6a stored in advance in the arithmetic control section 6.

以上説明したように、従来のウェーッ\プローバ装置に
2いては、グローブカード全取外す毎に、プローブ針群
の位置検出作業およびその位置情報の演算制御部へのテ
ィーチイン作業が必要となる。
As explained above, in the conventional wave prober device 2, it is necessary to detect the position of the probe needle group and to teach the position information to the arithmetic control section every time the glove card is completely removed.

この作業は、顕微鏡下の目視作業でhv、熟#!を要す
るとともに時間を要する。また、感応作業のためティー
チインされる位置情報も正確さを欠き、ブロービングミ
スの低減は困難でめる。
This work was done visually under a microscope. It takes a lot of time as well as a lot of time. Furthermore, the positional information taught in due to the sensitive work lacks accuracy, making it difficult to reduce blobbing errors.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、その
目的は、プローブ針群の位置検出およびその位置情報の
演算制御部へのティーチイン作業を正確かつ自動的に行
なうことが可能なウェー・〜プローブ針群を提供するこ
とにめる。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and its purpose is to provide a wafer that can accurately and automatically perform position detection of a group of probe needles and teach-in of the position information to a calculation control unit. - Dedicated to providing a group of probe needles.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

このような目的を達成するために、本発明は、対物受像
口とプローブ針群とをXYZ方向に相対スキャン運動さ
せるXYzスキャン機構部と、各受像口からの光学画像
を光学処理し電気信号に変換する光学撮像部と、上記電
気信号を画像処理してグローブ針像、つまり針寸法およ
び位置を認識するパターン認識処理部とを設け、その認
識結果情報から演算制御部においてプローブ針群の寸法
けらつきおよび平均位置を認識演算するようにしたもの
である。以下、実施例を用いて本発明の詳細な説明する
In order to achieve such an object, the present invention includes an XYz scan mechanism that makes relative scanning movements between the objective image receptor and the probe needle group in the XYZ directions, and an optical processing unit that optically processes the optical images from each image receptor and converts them into electrical signals. An optical imaging section for converting the electrical signal and a pattern recognition processing section for image processing the electrical signal to recognize a globe needle image, that is, the needle size and position, are provided, and from the recognition result information, the arithmetic control section calculates the size deviation of the probe needle group. This system recognizes and calculates the position and average position. Hereinafter, the present invention will be explained in detail using Examples.

〔発明の実施例〕[Embodiments of the invention]

第2図は本発明の一実施例を示す構成図である。 FIG. 2 is a configuration diagram showing an embodiment of the present invention.

本実施例は、対物受像口15a をXYZθチーグル2
のXYZ可動部に取り付けたサポート16により支持し
XYzスキャン運動させることを特徴トする。XYZθ
テーブル2は、従来通りモータアンプ部3によ0XYZ
お↓び回転方向に駆動される。すなわちXYZθテーブ
ル2Vi、ウェーハ1全XYZおよび回転方向に移動さ
せるとともに対物受像口15aをXYZ方向に移動させ
る機能を兼ねている。
In this embodiment, the objective image receiving aperture 15a is
It is characterized in that it is supported by a support 16 attached to the XYZ movable part of the XYZ movable part to perform an XYZ scanning movement. XYZθ
The table 2 is set to 0XYZ by the motor amplifier section 3 as before.
It is driven in the ↓ and rotational directions. That is, it has the function of moving the XYZθ table 2Vi, the entire wafer 1 in the XYZ and rotational directions, and also moves the objective image receiving aperture 15a in the XYZ directions.

一方、受像口15a から入ったプローブ針群12の儂
ハ、ファイバースコープ17で送られ光学撮像部18に
おいてこの像の倍率を調整し、内蔵した撮像素子により
光学−電気変換する。また光源19はファイバーガイド
20により照明光を伝送し光学撮像部18内のハーフミ
ラ−およびファイバースコープ17全介して対物受像口
15a J: 9プロ一ブ針群12の照明を行ない、光
学画像のコントラストを調整する。
On the other hand, the image of the probe needle group 12 entering from the image receiving aperture 15a is sent by the fiber scope 17, the magnification of this image is adjusted in the optical imaging section 18, and optical-to-electrical conversion is performed by the built-in imaging element. The light source 19 transmits illumination light through a fiber guide 20, and illuminates the objective image receiving aperture 15a through the entire fiber scope 17 and the half mirror in the optical imaging section 18, thereby improving the contrast of the optical image. Adjust.

テレビ信号発生部21f′i、光学撮像部18内の撮像
素子を駆動し、またビデオ信号を発生させてパターン認
識処理部22にこれを伝送する。パターン認識処理部2
2は、ビデオ信号をデジタル化し、メモリに記憶させ、
記憶された画像情報を・・−ド的に実時間で処理する方
式または内蔵した演算回路のソフト処理による方式など
によりプローブ針群12の位置およびばらつき程夏を認
識する。
The television signal generating section 21f'i drives the image sensor in the optical imaging section 18, generates a video signal, and transmits it to the pattern recognition processing section 22. Pattern recognition processing section 2
2 digitizes the video signal and stores it in memory;
The position and dispersion of the probe needle group 12 are recognized by a method of processing the stored image information in real time, or by a method of software processing using a built-in arithmetic circuit.

演算制御部6はこのパターン認識処理部22とインター
フェースし、認識に必要な情報を与えるとともに認識結
果情報を受け取り、最終的にブロービング12の位置お
よびばらつきなどを演nVCよりめ決定する。
The arithmetic control section 6 interfaces with the pattern recognition processing section 22, provides information necessary for recognition, receives recognition result information, and finally determines the position and dispersion of the brobbing 12 based on the nVC.

本実施例によれば、通常のブロービング作業は従来通り
行なえるとともに、グローブカード13を交換したとき
などのプローブ針群12の位置検出作業すなわち、ティ
ーチイン作業を自動で行なうことができる。次に、この
作業について説明する。
According to this embodiment, the normal blobbing work can be performed as before, and the position detection work of the probe needle group 12 when the glove card 13 is replaced, that is, the teach-in work can be automatically performed. Next, this work will be explained.

グローバ装置ベースff新たに着装されたプローブカー
ド13は、グローピング作業ができる程の位i1精琥は
持たないがXY方向においでf1mm以内には入ってい
る。しfCがって、XYZθテーブルを予め決めておい
た位置に移動させたとき、対物受像口15a はプロー
ブ針群12の像を捕えることができる。第3図において
円Aで示した範囲がこのときの対物受像口15a の視
野とする。
The probe card 13 newly attached to the glover device base ff does not have enough i1 precision to perform groping work, but it is within f1 mm in the XY directions. Therefore, when the XYZθ table is moved to a predetermined position, the objective image receiving aperture 15a can capture an image of the probe needle group 12. The range indicated by circle A in FIG. 3 is the field of view of the objective image receiving aperture 15a at this time.

位置検出¥t1度′fc3μmとした場合グローブ針1
2aを3本程度視野に入れるようにする。
If position detection ¥t1 degree'fc3μm, globe needle 1
Try to keep about three 2a lines in your field of vision.

次に、XYzθテーブル2tZ方向にスキャンしながら
パターン認識処理部22を制御し、対物受181015
aのフォーカスを自動調整する。演算制御部6において
、このときの位置検出センサの2方向の位置情報を位置
検出部4よジ読めば、A視野でのプローブ針群の高さ、
すなわち2位置が既知となる。さらにA視野の画像をパ
ターン認識処理部22における別のハードおよびソフト
処理することによりグローブ針12aの先端位置および
先端ピッチを認識し検知する。演算制御部6においてこ
の情報を記憶することにより、A視野のプローブ針12
aの位置および先端のばらつきが既知となる。
Next, the pattern recognition processing unit 22 is controlled while scanning in the XYzθ table 2tZ direction, and the object receiver 181015
Automatically adjust the focus of a. If the arithmetic control unit 6 reads the position information of the position detection sensor in two directions from the position detection unit 4 at this time, the height of the probe needle group in the field of view A,
In other words, two positions are known. Furthermore, the pattern recognition processing unit 22 performs other hardware and software processing on the image of the field of view A to recognize and detect the tip position and tip pitch of the glove needle 12a. By storing this information in the arithmetic control unit 6, the probe needle 12 in the field of view A
The position of a and the dispersion of the tip are known.

次いでXYZθテーブル2を駆動し対物受像口15a 
全Bの視野までスキャンさせる。B視野でも上述したと
同様のパターン認識処理を行ない、B視野でのプローブ
針の位置および先端のばらつきが既知となる。さらに、
例えばC,D視野について、あるいはさらに多くの視野
について同様に認識し、そこでのグローブ針の位置およ
び先端のばらつきが既知となる。
Next, the XYZθ table 2 is driven and the objective image receiving aperture 15a is
Scan the entire B field of view. The same pattern recognition process as described above is performed in the B field of view, and the position and tip variation of the probe needle in the B field of view are known. moreover,
For example, the C and D visual fields, or even more visual fields, are recognized in the same way, and the position and tip dispersion of the glove needle therein are known.

演算制御部1、これらの視野の位置データを総合し、演
算してプローブ針群12のXYz平均位置および回転を
知り、位置検出作業が終了すると同時にティーチイン作
業も終了したこととなる。
The arithmetic control unit 1 integrates and calculates the position data of these fields of view to determine the XYZ average position and rotation of the probe needle group 12, and the teach-in operation is also completed at the same time as the position detection operation is completed.

なお、グローブ針の位置検出精度、光学撮像部18内の
I偉素子の分解能およびグローブカード13の大きさを
考慮し、受像ロ15aTh適宜スキャン運動させてプロ
ーブ針群12の必要位置検出精度を得る。
In addition, taking into consideration the position detection accuracy of the glove needle, the resolution of the I-type element in the optical imaging section 18, and the size of the glove card 13, the image receiving roller 15aTh is scanned as appropriate to obtain the required position detection accuracy of the probe needle group 12. .

以上の作業は、演算制御部60制御プログラム6aに追
加した位置検出作業制御プログラム部6bの実行として
自動的に行な5゜ 次に、第4図は本発明の他の実施例を示す構成図でろる
。本実施例は、第1対物受像口24および第2対物受像
口25の2台の受像口を備え、それぞれ第1光学系XY
zスキヤン機構部26と第2光学系XYZスキヤン機構
部2Tに支柱28゜29により保持嘔れプローブ針群1
2をスキャンする構造をとっていることt−特徴とする
The above work is automatically performed as execution of the position detection work control program section 6b added to the control program 6a of the arithmetic control section 60. Next, FIG. 4 is a block diagram showing another embodiment of the present invention. Deroru. This embodiment includes two image receptors, a first objective image receptor 24 and a second objective image receptor 25, each of which has a first optical system XY.
The hollow probe needle group 1 is held by the support 28° 29 in the Z scan mechanism section 26 and the second optical system XYZ scan mechanism section 2T.
It is characterized by having a structure that scans 2.

第1制御ユニツト30および第2制御ユニツト31は、
それぞれ第1光学系XYZスキヤン機構部26および第
2光学系xYzスキヤン機構部2Tの位置決め作業をコ
ントロールし、また現在位置を情報として保持し検出し
ていくことができる。
The first control unit 30 and the second control unit 31 are
It is possible to control the positioning work of the first optical system XYZ scan mechanism section 26 and the second optical system xYZ scan mechanism section 2T, respectively, and to hold and detect the current position as information.

これら各制御ユニット30.31も、演算制御部60指
令により制御される。
Each of these control units 30 and 31 is also controlled by the arithmetic control section 60 commands.

第1対物受像口24お↓び第2対物受像口25から入る
光学像は、第1フアイバースコープ32、第2フアイバ
ースコープ33で光学転送され、それぞれ第1光学撮像
部34、第2光学撮像部35により、像の倍率をgte
された土で内蔵された撮像素子により電気信号に変換さ
れる。また、第1光源36および第2光源37は第2図
の例と同様に光学画像を得るための照明を行ない、さら
に画像のコントラストを調整する。第1テレビ信号発生
部38および第2テレビ信号発生部39もまた第2図の
例と同様に撮像素子全駆動させ、またビデオ信号を発生
させパターン[を処理部40に伝送する。パターン認識
処理部40は、第1テレビ信号発生部3Bおよび第2テ
レビ信号発生部3902チャンネルに指合金出17、ま
た伝送された2チヤンネルのビデオ信号を処理する。
Optical images entering from the first objective image receiving aperture 24 and the second objective image receiving aperture 25 are optically transferred by the first fiber scope 32 and the second fiber scope 33, and are transferred to the first optical imaging section 34 and the second optical imaging section, respectively. 35, the magnification of the image is gte
The soil is converted into an electrical signal by a built-in image sensor. Further, the first light source 36 and the second light source 37 provide illumination to obtain an optical image, as in the example of FIG. 2, and further adjust the contrast of the image. The first television signal generation section 38 and the second television signal generation section 39 also fully drive the image pickup devices as in the example shown in FIG. 2, generate video signals, and transmit the pattern to the processing section 40. The pattern recognition processing section 40 processes the finger output 17 and the two-channel video signal transmitted to the first television signal generation section 3B and the second television signal generation section 3902 channels.

本実施例では、XYzθテーブル2f′f、モータア7
1部3、位置検出部4によりコントロールされ、またX
YZθテーブル制御ユニット51に介して演算制御部6
に接続される。ウェーッ・位置検出器も、ウェーハ位置
検出インターフェース部9を介して演算制御部6に接続
されるが、第2Nのウェーッ)gPQ装Bioおよびウ
ェーッ・認識制御部11のようなプローブ針止12から
離れた位置でチツプノくターンを高精度で認識するとい
う方式社とらず、プローブ釦#12直下でチップパター
ン像をと9、パターン認識処理11i4LIで高精度の
認識、位置決め勿行なう方式全とることに/I?徴とす
る。次に本実施例におりるこrしらのブロービング作業
を説明する。
In this embodiment, the XYzθ table 2f'f and the motor
1 section 3, position detection section 4, and X
Arithmetic control section 6 via YZθ table control unit 51
connected to. The wafer position detector is also connected to the arithmetic control unit 6 via the wafer position detection interface unit 9, but is separated from the probe stopper 12 like the 2N wafer position detection interface unit 9 and the wafer recognition control unit 11. Instead of using a method that recognizes the chip pattern with high precision at a fixed position, we decided to use a method that captures the chip pattern image directly under probe button #12 and performs high precision recognition and positioning using pattern recognition processing 11i4LI. I? be a sign. Next, the blobbing operation in this embodiment will be explained.

グローブカード13の父換または取外し調整作業全実施
した場合、本実施例においても、プローブ針群の位置と
通常のブロービング作業の前に予め検出しておいた方が
ブロービング作業時間全短縮するために有利でめるので
、まずこのティーチイン作業について説明する。
Even in this embodiment, when the glove card 13 is completely replaced or removed and adjusted, it is better to detect the position of the probe needle group in advance before the normal blowing work, which will shorten the total time for the blowing work. This teach-in operation will be explained first, since it is advantageous for this purpose.

ブローバ装置ベース7にセットされたプローブカード1
3のベース7に対する取付精度は、低くはるってもめる
範囲内に入るため、第1元学系XYZスキャン機構部2
6により第1対物受像口24を予め決定された特定位置
に移動させたとき例えば第3図の視野Aの像が第1対物
受像口24で得ることができる。さらに同様の作業に↓
ジ第2対物受像ロ25に視野Cの像を得ることができる
Probe card 1 set on blower device base 7
Since the mounting accuracy for the base 7 of 3 is within the range of a low fit, the first element system XYZ scan mechanism section 2
6, when the first objective image receiving aperture 24 is moved to a predetermined specific position, for example, an image of field of view A in FIG. 3 can be obtained at the first objective image receiving aperture 24. Further similar work↓
An image of the field of view C can be obtained on the second objective image receptor 25.

次いで第2図の例と同様に第1対物受像口24でプロー
ブ針12a先端のフォーカス自動合せおよび視野A〃・
ら視野Bまでのスキャン動作をさせ、また第2対物受像
口25でもプローブ針先端のフォーカス自動合せおよび
視野C2)=らDへのスキャン動作を行なわせることな
どにより、グローブ針の位置および寸法ばらつきが演算
制御部6においてめられる。これにより、プローブ針群
12の位置および寸法ばらつきが既知とカリ、ティーチ
イン作業が終る。
Next, in the same way as the example in FIG.
By performing a scanning operation from C to field of view B, and also by automatically focusing the tip of the probe needle at the second objective image receptor 25 and scanning from field of view C2) to field of view B, variations in the position and dimensions of the glove needle can be eliminated. is determined in the arithmetic control section 6. As a result, the position and dimensional variations of the probe needle group 12 are known, and the teach-in operation is completed.

次に、グローピング作業について説明する。投入された
ウェーッ・1は、XYZθテーブル2に固着され、従来
装置と同様にウェーッ・位置検出器8にニジウェー・・
1の中心位置およびオリフラ付備。
Next, the groping work will be explained. The input wedge 1 is fixed on the XYZθ table 2, and the wedge position detector 8 displays the nijiwa... similar to the conventional device.
1 center position and orientation flat included.

が検出される。これにより、ウェーッ1の粗い位置情報
が既知となる。
is detected. As a result, rough positional information of wave 1 is known.

次いでXYZθテーブル2を特定の位1!1まで駆動位
置決めさせると、第1対物受像口24および第2対物受
像口25によpそれぞれ第5図に示した視野Eおよび視
野Fを捕えることができる。先に述べたプローブ針の位
gl認識と同様にウェー711上のチップ41のパター
ン像を処理し、チップのXYZ位置寸法および回転角を
演算にJ、請求める。これによりウェー・・の位置が高
精度で既知となる。ここでウェーッ・の位置情報と先に
めたグローブ針の位置情報とから両者のずれ量を算出し
、そのずれiをなくす方向で、プローブ針群12にウェ
ーハ1上のチップ内にるるポンプイングツ(ラド42に
第6図に示したように正確に位置決め接触させることが
できる。
Next, when the XYZθ table 2 is driven and positioned to a specific degree of 1!1, the fields of view E and F shown in FIG. 5 can be captured by the first objective image receptor 24 and the second objective image receptor 25, respectively. . Similar to the probe needle position recognition described above, the pattern image of the chip 41 on the wafer 711 is processed, and the XYZ position dimensions and rotation angle of the chip can be calculated. This allows the position of the way to be known with high precision. Here, the amount of deviation between the two is calculated from the position information of the wafer and the position information of the glove needle set earlier, and in the direction of eliminating the deviation i, the pumping tip ( It is possible to accurately position and contact the pad 42 as shown in FIG.

本実施例ではさらに次のような閉ループによる位置決め
作業によジ、さらに傷頼性の高いブロービング作業が行
なえる。すなわち、対物受像口がプローブ針群12とポ
ンディングパッド42が位置決め接触されたときのプロ
ーブ針群、チップパターンの画像の同時取込みのできる
配置であるため、高精度で相対位置ずれ量をg識できる
とともに、このずれ量を次のピッチ移動後のチップにお
けるXYzθテーブル2の位置決めにフィードバックし
、ここでもグローブ針、チップパターンの同時画像を得
て順々に次のチップへとずれ量をフィードバック修正し
て行く閉ループ位置決め作業が可能となる。これらの作
業は、演算制御部60制御プログラム6cの実行として
行なう。
In this embodiment, the following closed-loop positioning operation and even more reliable blobbing operation can be performed. In other words, since the objective image receptor is arranged so that images of the probe needle group and the chip pattern can be captured simultaneously when the probe needle group 12 and the bonding pad 42 are brought into positioning contact, it is possible to g-identify the amount of relative positional deviation with high precision. At the same time, this amount of deviation is fed back to the positioning of the XYzθ table 2 for the chip after the next pitch movement, and here too, simultaneous images of the glove needle and chip pattern are obtained and the amount of deviation is feedback corrected to the next chip in turn. This enables closed-loop positioning operations. These operations are performed by executing the control program 6c of the arithmetic control section 60.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明したように、本発明によれば、対物受像口とプ
ローブ針群とをXYZ方向に相対スキャン運動させるX
Yzスキャ/機構部と、各受像口からの光学画像を電気
信号に変換する光学撮像部と、上記電気信号を画像処理
してプローブ針寸法を認識するパターン認識処理部とを
設けたことにより、プローブ針群の位置検出および当該
位置情報のティーチイン作業を手動で行なう必要がなく
なり、顕微鏡下の目視作業も不要となる。このため、作
業のスピードアップが図れるとともに、ブロービングミ
スも減少させることができる。特に対物受像口をプロー
ブ針群とチップパターンとの重なった光学画像が得られ
る配置とし、閉ループ方式をとることにより、ブロービ
ング作業の信頼就をさらに向上させることが可能となる
As explained above, according to the present invention, the X
By providing a Yz scan/mechanism section, an optical imaging section that converts the optical image from each image receptor into an electrical signal, and a pattern recognition processing section that performs image processing on the electrical signal to recognize the probe needle size, There is no need to manually detect the position of the probe needle group and teach in the position information, and there is no need for visual inspection under a microscope. Therefore, it is possible to speed up the work and reduce blobbing errors. In particular, by arranging the objective image receptor so that an optical image in which the probe needle group and the chip pattern overlap and using a closed loop method, it is possible to further improve the reliability of the blobbing operation.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図社従来のウエーハプローバ装置の一例を示す構成
図、第2図は本発明の一実施例を示す構成図、第3図は
対物受像口の視野を説明するための平面図、兜4図は本
発明の他の実施例を示す構成図、第5図は対物受像口の
視野を説明するための平面図、第6図はブロービング完
了状態を示す平面図でろる。 1・・・・つx−ハ、2・・・・XYZθテーブル、6
・・・・演算制御部、6a ・・・・制御プログラム、
6b ・・・・位置検出作業制御プログラム、6c −
争・―演算制御プログラム、15a。 24.25−・・一対物受像口、18,34.35・・
・・光学撮像部、22.40・・・・パターン認識処理
部、26.27・争・・光学系XYZスキャン機構部、
34.35・・・・光学撮像部、40・・・・パターン
認識処理部。 代理人 弁理士 高 橋 明 夫 第1図 第3図
Fig. 1 is a configuration diagram showing an example of a conventional wafer prober device of the company; Fig. 2 is a configuration diagram showing an embodiment of the present invention; Fig. 3 is a plan view for explaining the field of view of the objective image receptor; The drawings are a configuration diagram showing another embodiment of the present invention, FIG. 5 is a plan view for explaining the field of view of the objective image receiving aperture, and FIG. 6 is a plan view showing a state in which blobbing is completed. 1...Ts x-ha, 2...XYZθ table, 6
... Arithmetic control unit, 6a ... Control program,
6b...Position detection work control program, 6c-
Conflict - Arithmetic control program, 15a. 24.25-...One objective image receptor, 18,34.35...
...Optical imaging section, 22.40...Pattern recognition processing section, 26.27.Optical system XYZ scanning mechanism section,
34.35...Optical imaging unit, 40...Pattern recognition processing unit. Agent Patent Attorney Akio Takahashi Figure 1 Figure 3

Claims (1)

【特許請求の範囲】 i、xyzθテーブル上の被ブロービングウェーハにプ
ローブ針群を接触させてブロービングラ行なうウエーハ
プローバ装置において、少なくとも1個の対物受像口を
備え当該受像口とプローブ針群とをXYz方向に相対ス
キャン運動させるXYZスキャン機構部と、上記各受像
口からの光学面11Iを光学処理し電気信号に変換する
光学撮像部と、上記電気信号全画像処理しプローブ針像
を認識するパターン認識処理部と、上記XYZスキャン
機構部およびパターン認識処理部を駆動制御するととも
にパターン認識処理部による認識結果情報からプローブ
針群の寸法ばらつきおよび平均位置を認識演算する演算
制御部とを設けたことを特徴とするウェー2、プローバ
装置。 2、対物受像口をプローブ針群と被ブロービングウェー
ハ上のチップパターンとの重なった光学画像が得られる
配置とし、対物受像口、光学撮像部、パターン認識処理
部および演算制御部によジ上記グローブ針群およびチッ
プパターンの光学画像の位置関係情報1xyzθテーブ
ルの駆動出力にフィードバックする閉ループを構成した
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のウェーッ
・プローバ装置。
[Claims] A wafer prober device that performs blowing by bringing a group of probe needles into contact with a wafer to be blown on a wafer to be blown on an an XYZ scanning mechanism unit that performs relative scanning motion in the directions; an optical imaging unit that optically processes the optical surface 11I from each of the image receptors and converts it into an electrical signal; and a pattern recognition unit that processes all images of the electrical signals and recognizes a probe needle image. A processing section, and a calculation control section that drives and controls the XYZ scan mechanism section and the pattern recognition processing section, and recognizes and calculates the dimensional variation and average position of the probe needle group from the recognition result information by the pattern recognition processing section. Characteristic way 2: prober device. 2. The objective image receptor is arranged so that an optical image in which the probe needle group and the chip pattern on the wafer to be blown are overlapped can be obtained. 2. The wave prober device according to claim 1, further comprising a closed loop that feeds back positional relationship information of the optical image of the glove needle group and the chip pattern to the drive output of the 1xyzθ table.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS622250U (en) * 1985-06-20 1987-01-08
JPH01161174A (en) * 1987-12-17 1989-06-23 Tokyo Electron Ltd Probe device
JPH0290A (en) * 1987-09-29 1990-01-05 Tokyo Electron Ltd Probe device for liquid-crystal display body and aligning method for liquid-crystal display body
WO2022176664A1 (en) * 2021-02-18 2022-08-25 東京エレクトロン株式会社 Inspection device set-up method and inspection device

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS54183284U (en) * 1978-06-14 1979-12-26
JPS5917260A (en) * 1982-07-20 1984-01-28 Mitsubishi Electric Corp Testing method for semiconductor wafer

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS54183284U (en) * 1978-06-14 1979-12-26
JPS5917260A (en) * 1982-07-20 1984-01-28 Mitsubishi Electric Corp Testing method for semiconductor wafer

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS622250U (en) * 1985-06-20 1987-01-08
JPH0290A (en) * 1987-09-29 1990-01-05 Tokyo Electron Ltd Probe device for liquid-crystal display body and aligning method for liquid-crystal display body
JPH01161174A (en) * 1987-12-17 1989-06-23 Tokyo Electron Ltd Probe device
WO2022176664A1 (en) * 2021-02-18 2022-08-25 東京エレクトロン株式会社 Inspection device set-up method and inspection device

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