JPS60207771A - 微細金属粒の磨砕、洗浄方法 - Google Patents
微細金属粒の磨砕、洗浄方法Info
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- JPS60207771A JPS60207771A JP58175530A JP17553083A JPS60207771A JP S60207771 A JPS60207771 A JP S60207771A JP 58175530 A JP58175530 A JP 58175530A JP 17553083 A JP17553083 A JP 17553083A JP S60207771 A JPS60207771 A JP S60207771A
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Landscapes
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- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
- Crushing And Grinding (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は表面が酸化物その他の不純物層で覆われた微細
金属粒の磨砕、洗浄方法に関するものである。
金属粒の磨砕、洗浄方法に関するものである。
例えば各種のスラグ、ダストから回収された微細金属粒
やある期間放置されたショット等は、その表面に酸化物
その他が付着しているので該表面不純物を除去する必要
がある。従来乙の種不純物の除去方式としては、化学的
に表面層を溶出させる方法と物理的に磨砕する方法とが
あるが、前者は処理液の選択及び処理廃液の後処理が煩
雑であると共に化学的に処理された材料表面に対しての
後処理にも問題が残されているし、後者は対象物が１酬
を下まわる如く微細となると殆んどの従来技術では有効
に付着表面層を除去出来ていないのが現状である。
やある期間放置されたショット等は、その表面に酸化物
その他が付着しているので該表面不純物を除去する必要
がある。従来乙の種不純物の除去方式としては、化学的
に表面層を溶出させる方法と物理的に磨砕する方法とが
あるが、前者は処理液の選択及び処理廃液の後処理が煩
雑であると共に化学的に処理された材料表面に対しての
後処理にも問題が残されているし、後者は対象物が１酬
を下まわる如く微細となると殆んどの従来技術では有効
に付着表面層を除去出来ていないのが現状である。
本発明は上記現状を鑑み、非常に微細な対象物であって
も、その表面不純物層を十分、に除去出来、かつその後
引続き磨砕によって剥離された該不純物層と金属製品と
を分別することが出来る方法を提供せんとするものであ
り、その要旨は表面が酸化物やその他の不純物層で覆わ
れた微細金属粒の処理方法であって、該微細金属粒を多
数の感磁性体製メディアと共に、回転羽根を内蔵する円
筒状の収納容器内に装入せしめ、上記回転羽根を高速で
回転せしむることにより、微細金属粒をメディア表面に
付着せしめた状態下で高速に回転させ該微細金属粒表面
を覆っている゛不純物層を磨砕、剥落せしめた後、収納
容器底外部から磁着力を作用せしめつつ、同収納容器の
側壁下部に設けられた洗浄液供給口から水その他の洗浄
液を送給し、同上部開口部に設けられた溢流口から洗浄
液と共に剥落された不純物層を溢流せしめることを特徴
とする微細金属粒の磨砕、洗浄方法である。
も、その表面不純物層を十分、に除去出来、かつその後
引続き磨砕によって剥離された該不純物層と金属製品と
を分別することが出来る方法を提供せんとするものであ
り、その要旨は表面が酸化物やその他の不純物層で覆わ
れた微細金属粒の処理方法であって、該微細金属粒を多
数の感磁性体製メディアと共に、回転羽根を内蔵する円
筒状の収納容器内に装入せしめ、上記回転羽根を高速で
回転せしむることにより、微細金属粒をメディア表面に
付着せしめた状態下で高速に回転させ該微細金属粒表面
を覆っている゛不純物層を磨砕、剥落せしめた後、収納
容器底外部から磁着力を作用せしめつつ、同収納容器の
側壁下部に設けられた洗浄液供給口から水その他の洗浄
液を送給し、同上部開口部に設けられた溢流口から洗浄
液と共に剥落された不純物層を溢流せしめることを特徴
とする微細金属粒の磨砕、洗浄方法である。
以下図面を参酌し乍ら本発明方法を詳述する。
本発明で用いる装置としては、例えば第１図及び第２図
に示す様に、収納容器（１）に挿入された回転縦軸（２
）に所要数の板状回転羽（３）、 （３） ・・・が取
付けられており、又上記収納容器（１）の内部には鋼球
の如き感磁性体製メディア（４）が多数装入されている
。更に収納容器（１）の側壁下部には洗浄液供給口（５
）が又上部開口部には海流口（６）がそれぞれ設けられ
、かつ収納容器（１）の底板外側（下側）には電磁石（
７）が配設されている。
に示す様に、収納容器（１）に挿入された回転縦軸（２
）に所要数の板状回転羽（３）、 （３） ・・・が取
付けられており、又上記収納容器（１）の内部には鋼球
の如き感磁性体製メディア（４）が多数装入されている
。更に収納容器（１）の側壁下部には洗浄液供給口（５
）が又上部開口部には海流口（６）がそれぞれ設けられ
、かつ収納容器（１）の底板外側（下側）には電磁石（
７）が配設されている。
この様な装置を用いる本発明方法では、収納容器（１）
内に原料としての微細金属粒Ｍを装入し、回転縦軸（２
）を高速で回転せしめる事により該微細金属粒Ｍは感磁
性体製メディア（４）の表面に付着した状態で高速回転
させられる。従って微細金属粒Ｍのみを衝突させるより
も強力な衝突力をもって微細金属同士が衝突し合う、即
ちメディア（４）の重量が加算された分だけ強力に衝突
し合う事となりｅ細金属粒Ｍの表面に付着している酸化
物等の不純物層Ｆが剥離除去されるのである。なおこの
磨砕の際に乾式で行なってもよいし、水あるいは所要の
油等を適当なバルブ濃度となるべく介在させて行なう湿
式を採用してもそのいずれでもよい。
内に原料としての微細金属粒Ｍを装入し、回転縦軸（２
）を高速で回転せしめる事により該微細金属粒Ｍは感磁
性体製メディア（４）の表面に付着した状態で高速回転
させられる。従って微細金属粒Ｍのみを衝突させるより
も強力な衝突力をもって微細金属同士が衝突し合う、即
ちメディア（４）の重量が加算された分だけ強力に衝突
し合う事となりｅ細金属粒Ｍの表面に付着している酸化
物等の不純物層Ｆが剥離除去されるのである。なおこの
磨砕の際に乾式で行なってもよいし、水あるいは所要の
油等を適当なバルブ濃度となるべく介在させて行なう湿
式を採用してもそのいずれでもよい。
この様に回転縦軸（２）を通じ板状回転羽ＭＩ（３）。
（３）、・・−・を高速回転させる磨砕工程が終れば、
次いで側壁下部の洗浄液供給口（５）から水又は所要の
洗浄液を送給し、上部の溢流口（６）から該洗浄液を溢
流させ乍ら、板状回転羽根（３） 、 （３） 、・を
緩慢回転せしめるとせしめると同時に、収納容器（１）
の底抜外側に配設されている電磁石（７）に通電して励
磁させる。この様な操作を続けることにより磁着物たる
微細金属粒Ｍは電磁石（７）の吸着力を受けるので収納
容器（１）の下方部に吸い寄せられつつ、一方弁磁着物
あるいは弱磁着物たる不純物層Ｆは電磁石（７）の吸着
力を受けないかあるいは弱くしか受けないので下方から
上方へ流れる洗浄水と共に上方へ押し上げられ最終的に
は上部の溢流口（６）から溢流される。
次いで側壁下部の洗浄液供給口（５）から水又は所要の
洗浄液を送給し、上部の溢流口（６）から該洗浄液を溢
流させ乍ら、板状回転羽根（３） 、 （３） 、・を
緩慢回転せしめるとせしめると同時に、収納容器（１）
の底抜外側に配設されている電磁石（７）に通電して励
磁させる。この様な操作を続けることにより磁着物たる
微細金属粒Ｍは電磁石（７）の吸着力を受けるので収納
容器（１）の下方部に吸い寄せられつつ、一方弁磁着物
あるいは弱磁着物たる不純物層Ｆは電磁石（７）の吸着
力を受けないかあるいは弱くしか受けないので下方から
上方へ流れる洗浄水と共に上方へ押し上げられ最終的に
は上部の溢流口（６）から溢流される。
以下本発明方法を開発するについて行なった一連の実験
並びにその結果を述べる。
並びにその結果を述べる。
この実験で用いた原料たる微細金属粒は、転炉ダストか
ら極微細部分を除去したもの（以下粗粒ダストという）
であって、その粒度分布を第１表に、又化学成分を第２
表にそれぞえｌ示ず。
ら極微細部分を除去したもの（以下粗粒ダストという）
であって、その粒度分布を第１表に、又化学成分を第２
表にそれぞえｌ示ず。
第１表
第２表
（重量％）
上記第１，２表に示す様な原料を用い、第１図及び第２
図に示す様な装置を用いて次の如き実験を行なった。な
お収納容器（１）の大きさζま直径１４６＋ｎｍ、高さ
２２５ｍｍであり、その中に６ ｍｍ〆のメディアと
上述の原料を６ｋｇと４ｋｇずつ装入し、原料のパルプ
濃度が各種変わる様に添加する水の量並びに回転羽根（
３）の回転速度を種々変化させて磨砕処理を２分間行な
った。
図に示す様な装置を用いて次の如き実験を行なった。な
お収納容器（１）の大きさζま直径１４６＋ｎｍ、高さ
２２５ｍｍであり、その中に６ ｍｍ〆のメディアと
上述の原料を６ｋｇと４ｋｇずつ装入し、原料のパルプ
濃度が各種変わる様に添加する水の量並びに回転羽根（
３）の回転速度を種々変化させて磨砕処理を２分間行な
った。
この様な磨砕処理を行なった後の原料を取出し、３５０
メツシユで篩分し、該部上物を ３００ガウスの磁選機
にかけ、該磁着物についてＭ−Ｆｅ品位とＭ−Ｆｅ回収
率とをめた結果、パルプ濃度を９０％と一定にし回転羽
根（３）の回転数３０Ｏｒｐｍ〜１２００ｒｐｍでＭＦ
ｅ品位は９３９４％〜９５．３７％であり°、又Ｍ・Ｆ
ｅ回収率は９０４８％〜８６７０％であっｌこ。一方回
転数を１２００ｒｐｍと一定にしパルプ濃度は５０％〜
１００％の範囲で変えｔコ場合ＭＦｅ回収率は９４０８
％〜旧２９％であり、又Ｍ・Ｆｅ回収率は８８．２２％
〜９３．１１％であった。
メツシユで篩分し、該部上物を ３００ガウスの磁選機
にかけ、該磁着物についてＭ−Ｆｅ品位とＭ−Ｆｅ回収
率とをめた結果、パルプ濃度を９０％と一定にし回転羽
根（３）の回転数３０Ｏｒｐｍ〜１２００ｒｐｍでＭＦ
ｅ品位は９３９４％〜９５．３７％であり°、又Ｍ・Ｆ
ｅ回収率は９０４８％〜８６７０％であっｌこ。一方回
転数を１２００ｒｐｍと一定にしパルプ濃度は５０％〜
１００％の範囲で変えｔコ場合ＭＦｅ回収率は９４０８
％〜旧２９％であり、又Ｍ・Ｆｅ回収率は８８．２２％
〜９３．１１％であった。
又上記磨砕処理を行なった後、原料をそのまま収納容器
（１）に入れたままの状態で、電磁石（７）は無励磁即
ち全く働かせずに洗浄水量を８１／ｍｉｎとし回転羽根
（３）を２００ｒｐｍの低速回転とし３分間洗浄を行な
った後、３００ガウスの磁選機にかけ磁着物につきＭＦ
ｅ品位と回収率とをめた結果上で述べた篩分磁選の場合
に比べ、回転数を変えた場合もパルプ濃度を変えた場合
もＭ−Ｆｅ品位では約１５％の上昇、ＭＦｅ回収率では
約４．５％の低下が見られた。
（１）に入れたままの状態で、電磁石（７）は無励磁即
ち全く働かせずに洗浄水量を８１／ｍｉｎとし回転羽根
（３）を２００ｒｐｍの低速回転とし３分間洗浄を行な
った後、３００ガウスの磁選機にかけ磁着物につきＭＦ
ｅ品位と回収率とをめた結果上で述べた篩分磁選の場合
に比べ、回転数を変えた場合もパルプ濃度を変えた場合
もＭ−Ｆｅ品位では約１５％の上昇、ＭＦｅ回収率では
約４．５％の低下が見られた。
又上記磨砕処理を行なった後、原料をそのまま収納容器
（１）内に入れたままの状態で、電磁石（７）を励磁さ
せ、洗浄水量を８Ｊ／ｍｉｎとし回転羽根（３）を２０
０ｒｐｍの低速回転とし３分間洗浄を行なった後、３０
０ガウスの磁選機にかけ磁着物にっきＭＦｅ品位とＭＦ
ｅ回収率とをめた結果を下記第３表及び第４表に示す結
果を得た。
（１）内に入れたままの状態で、電磁石（７）を励磁さ
せ、洗浄水量を８Ｊ／ｍｉｎとし回転羽根（３）を２０
０ｒｐｍの低速回転とし３分間洗浄を行なった後、３０
０ガウスの磁選機にかけ磁着物にっきＭＦｅ品位とＭＦ
ｅ回収率とをめた結果を下記第３表及び第４表に示す結
果を得た。
ところで洗浄工程に於ける磁着力の影響について電磁石
に通ずる電流と、収納容器内に発生する空間磁場との関
係について述べる。第１図及び第２図のＡ、Ｂ、Ｃ，イ
２２ロ、ハ示す様な各点についての磁場の強さくガウス
）をコイル巻ｆｉ ２７＆ターンの電磁石に交流電流及
び直流電流の大きさを変えて流した場合について測定し
た結果を第５表（交流）及び第６表（直流）にそれぞれ
示す。
に通ずる電流と、収納容器内に発生する空間磁場との関
係について述べる。第１図及び第２図のＡ、Ｂ、Ｃ，イ
２２ロ、ハ示す様な各点についての磁場の強さくガウス
）をコイル巻ｆｉ ２７＆ターンの電磁石に交流電流及
び直流電流の大きさを変えて流した場合について測定し
た結果を第５表（交流）及び第６表（直流）にそれぞれ
示す。
第５表
第６表
この第５表及び第６表に示す様に磁場の強さは収納容器
内の場所によって相当異なるが、交流。
内の場所によって相当異なるが、交流。
直流ともに電流が大となるに従って大となっている事が
判った。
判った。
以上述べて来た如く、本発明方法によれば、微細金属粒
の磨砕と洗浄とが同一装置で連続的に行なえ、しかも所
期目標を達する為磨砕、洗浄に要する時間は非常に短時
間で済み、かつ洗浄時の磁着力の作用で第３表、第４表
に示す如りＭＦｅ品位は殆んど変わらずにその収率を大
きく向上させる事が出来るという利点がある。
の磨砕と洗浄とが同一装置で連続的に行なえ、しかも所
期目標を達する為磨砕、洗浄に要する時間は非常に短時
間で済み、かつ洗浄時の磁着力の作用で第３表、第４表
に示す如りＭＦｅ品位は殆んど変わらずにその収率を大
きく向上させる事が出来るという利点がある。
第１図は本発明方法で用いる装置の一例を示す一部切欠
正面図、第２図は同平面図。 図中、（１）：収納容器 （２）：回転縦軸 （３）板状回転羽根 （４）感磁性体製メレイア （５）洗浄液供給口 （６）・溢流口 （７）・電磁石 特許出願人 日本磁力選鉱株式会社 代理人有吉教晴 手続補正書（方側 昭和６０年 ３月 ７日 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 北九州市小倉北区馬借３丁目６番４２号氏名 日
本磁力選鉱株式会社 ４、代理人 う、補正の対象
正面図、第２図は同平面図。 図中、（１）：収納容器 （２）：回転縦軸 （３）板状回転羽根 （４）感磁性体製メレイア （５）洗浄液供給口 （６）・溢流口 （７）・電磁石 特許出願人 日本磁力選鉱株式会社 代理人有吉教晴 手続補正書（方側 昭和６０年 ３月 ７日 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 北九州市小倉北区馬借３丁目６番４２号氏名 日
本磁力選鉱株式会社 ４、代理人 う、補正の対象
Claims (1)
- １、表面が酸化物やその他の不純物層で覆われた微細金
属粒の処理方法であって、該微細金属粒を多数の感磁性
体製メディアと共に、回転羽根を内蔵する円筒状の収納
容器内に装入せしめ、上記回転羽根を高速で回転せしむ
ることにより、微細金属粒をメディア表面に付着せしめ
た状態下で高速に回転させ該微細金属粒表面を覆ってい
る不純物層を磨砕、剥落せしめた後、収納容器底外部か
ら磁着力を作用せしめつつ、同収納容器の側壁下部に設
けられた洗浄液供給口から水その他の洗浄液を送給し、
同上部開口部に設けられた溢流口から洗浄液と共に剥落
された不純物層を溢流せしめることを特徴とする微細金
属粒の磨砕、洗浄方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58175530A JPS60207771A (ja) | 1983-09-22 | 1983-09-22 | 微細金属粒の磨砕、洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58175530A JPS60207771A (ja) | 1983-09-22 | 1983-09-22 | 微細金属粒の磨砕、洗浄方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60207771A true JPS60207771A (ja) | 1985-10-19 |
| JPS6411344B2 JPS6411344B2 (ja) | 1989-02-23 |
Family
ID=15997674
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58175530A Granted JPS60207771A (ja) | 1983-09-22 | 1983-09-22 | 微細金属粒の磨砕、洗浄方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60207771A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5323971A (en) * | 1991-11-15 | 1994-06-28 | Ein Co., Ltd. | Pulverizing, separating, and size regulating molded resin articles |
| JP2014109559A (ja) * | 2012-12-04 | 2014-06-12 | Shimizu Corp | 汚染コンクリート塊の除染処理方法および装置 |
| CN114619295A (zh) * | 2022-03-13 | 2022-06-14 | 温州聚星科技股份有限公司 | 一种用于铆钉电触头黑点去除的磁力抛光设备 |
-
1983
- 1983-09-22 JP JP58175530A patent/JPS60207771A/ja active Granted
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5323971A (en) * | 1991-11-15 | 1994-06-28 | Ein Co., Ltd. | Pulverizing, separating, and size regulating molded resin articles |
| JP2014109559A (ja) * | 2012-12-04 | 2014-06-12 | Shimizu Corp | 汚染コンクリート塊の除染処理方法および装置 |
| CN114619295A (zh) * | 2022-03-13 | 2022-06-14 | 温州聚星科技股份有限公司 | 一种用于铆钉电触头黑点去除的磁力抛光设备 |
| CN114619295B (zh) * | 2022-03-13 | 2024-04-26 | 温州聚星科技股份有限公司 | 一种用于铆钉电触头黑点去除的磁力抛光设备 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6411344B2 (ja) | 1989-02-23 |
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