JPS60207349A - Selection and extraction device for pellet - Google Patents

Selection and extraction device for pellet

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Publication number
JPS60207349A
JPS60207349A JP6221184A JP6221184A JPS60207349A JP S60207349 A JPS60207349 A JP S60207349A JP 6221184 A JP6221184 A JP 6221184A JP 6221184 A JP6221184 A JP 6221184A JP S60207349 A JPS60207349 A JP S60207349A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
angle
pellet
wafer
dicing line
support ring
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP6221184A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hisaya Suzuki
鈴木 久彌
Makoto Arie
誠 有江
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Mechatronics Co Ltd
Original Assignee
Toshiba Seiki Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Seiki Co Ltd filed Critical Toshiba Seiki Co Ltd
Priority to JP6221184A priority Critical patent/JPS60207349A/en
Publication of JPS60207349A publication Critical patent/JPS60207349A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67242Apparatus for monitoring, sorting or marking
    • H01L21/67259Position monitoring, e.g. misposition detection or presence detection
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67242Apparatus for monitoring, sorting or marking
    • H01L21/67253Process monitoring, e.g. flow or thickness monitoring
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/68Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment

Abstract

PURPOSE:To enable to perform the selection and extraction work of pellet rapidly and securely by a method wherein the confirmatory work of the position of a pellet, which is made an object of extraction, is automized by the identification of its coordinate position on the table. CONSTITUTION:An angle, which is formed by the dicing line 39 of a wafer 35 detected by a detecting camera 77 to the X-Y direction, is compared with the reference alignment angle for enabling a collet 23 to select and extract a necessary pellet 22, and after the comparison was made, a correction value (thetaK1) for the angle needed for enabling the angle, which is formed by the dicing llne 39 of the wafer 35, to conform to the reference alignment angle, is contrived so as to be worked out in the calculating part 81 of the detecting camera 77. Moreover, a supporting ring 30 is made to rotatingly driven on the basis of the correction value (thetaK1) for the above-mentioned angle. When a table 21 is made to shift while being controlled to the necessary coordinate position in such a way, the necessary pellet 22 is made to position at the adsorption site of the collect 23 and can be classified and extracted.

Description

【発明の詳細な説明】 「技術分野] 本発明は、ペレットの選別摘出装置に関する。[Detailed description of the invention] "Technical field] The present invention relates to a pellet sorting and extraction device.

[背景技術1 ペレットの選別摘出装置は、半導体素子等の素子群がそ
の表面に対し、2次元的に配置、形成されたウェハを、
素子片としての各ペレットに切断、分離し、分割された
各ペレットをコレットにより選別、吸着する装置であり
、さらに選別されたペレットは、リードフレーム、ヘッ
ダなどの基板に対してマウントするようにしている。す
なわち、この装置は、平面XY方向に移動するxYテー
ブルの上部に分割、整列されたペレットを、コレットに
より選別、摘出するものであり、次いで搬送ライン上に
搬送される基板のマウント位置にペレットを移動させ、
該位置にマウントさせるようにするものである。この際
、分割、整列されたペレット群の中の不良ペレットには
、予め不良マークが表示されている。この不良マークは
、ウェハがXYテーブルの上部に支持される前の段階で
、しかもウェハが各ペレフ))と切断、分離される前に
表示されるものであり、ウェハの表面に配置、形成され
た素子群の一つ一つについて半導体検査装置の探針を当
接し、該探針に電流を流して各素子の良、不良の試験を
行い、これらの結果に基づき不良と判断されたものにつ
いて不良マークを表示するようにしている。
[Background Art 1] A pellet sorting and extraction device is capable of handling a wafer on which a group of elements such as semiconductor elements are two-dimensionally arranged and formed on its surface.
It is a device that cuts and separates each pellet as an element piece, sorts and adsorbs each divided pellet with a collet, and then mounts the sorted pellets on a board such as a lead frame or header. There is. That is, this device uses a collet to sort and extract pellets that are divided and arranged on the top of an xY table that moves in the plane XY direction.Then, the pellets are placed at a mounting position on a substrate that is transported onto a transport line. move it,
It is to be mounted at that position. At this time, a defective mark is displayed in advance on a defective pellet in the divided and aligned pellet group. This defective mark is displayed before the wafer is supported on the top of the XY table, and before the wafer is cut and separated from each other. The probe of the semiconductor inspection equipment is brought into contact with each element group, and a current is passed through the probe to test whether each element is good or bad.Based on these results, those determined to be defective are tested. I am trying to display a defective mark.

このようにしてウェハの表面に配置、形成された素子群
の良、不良の判断を行い、さらにウェハをダイヤモンド
ポイントなどによりそれぞれの素子にスクライプして各
ペレットに破折、分離させ、これをXYテーブルの上部
に整列させるようにしている。整列させた各ペレットの
コレットによる摘出は、摘出されるペレットが順次コレ
ットの真下に位置されるようにXYテーブルをXY方向
にピッチ移動させることで行われ、上記半導体検査装置
による検査の結果、良品とされたペレットのみを選別、
摘出するためにXYテーブルの上方にペレットの不良マ
ークを検知するセンサを設け、センサにより、ペレット
を検知した結果不良マークの無いものについてのみ摘出
している。
The devices arranged and formed on the surface of the wafer are determined to be good or bad.The wafer is then scribed with a diamond point or the like to break and separate each device into pellets. I'm trying to line it up at the top of the table. The aligned pellets are extracted by the collet by moving the XY table by pitch in the XY direction so that the pellets to be extracted are sequentially positioned directly below the collet. Select only the pellets that have been
In order to extract pellets, a sensor is provided above the XY table to detect defective marks on the pellets, and as a result of detecting pellets with the sensor, only pellets without defective marks are extracted.

すなわち、このようなペレットの選別摘出装置において
は、選別、摘出すべきペレットか否かをその都度センサ
で確認し、XYテーブルをピッチ移動させてコレットに
より選別、摘出していたので装置全体の稼動効率が低く
、この点を解決するペレットの選別摘出装置の開発が望
まれていた。
In other words, in such a pellet sorting and extraction device, each time a sensor is used to confirm whether or not the pellet should be sorted and extracted, the XY table is moved in pitch and the collet is used to sort and extract the pellet, which reduces the overall operation of the device. The efficiency is low, and it has been desired to develop a pellet sorting and extraction device that solves this problem.

[発明の目的] 各ペレットに分割されるデープル上のウェハのうち、摘
出対象のペレットの位置の確認作業をテーブル上におけ
る座標位置の認定により自動化し、必要なペレットのみ
を選別、摘出する作業を迅速かつ確実に行わせ、ペレッ
トの選別摘出装置の稼動効率を向上させることを目的と
している。
[Purpose of the invention] To automate the work of confirming the position of the pellet to be extracted from among the wafers on the table to be divided into pellets by recognizing the coordinate position on the table, and to select and extract only the necessary pellets. The purpose is to quickly and reliably carry out the process and improve the operating efficiency of the pellet sorting and extraction device.

[発明の構#t、] 上記目的を達成するために本発明は、各ペレットに分割
されるダイシングラインを有し、各ペレットに座標位置
が設定されるウェハを支持する支持リングと、支持リン
グを回転可能に支持するテーブルと、支持リングの回転
位置を調整し、ウェハのダイシングラインがXY方向に
対してなす角度を調整自在とする支持リング回転手段と
、テーブルの上方位置に配置され、ウェハのダイシング
ラインがXY方向に対してなす角度を検知する検知カメ
ラと、分割、整列される各ペレットの座標位置の認定を
行う基準となる基準整列角度を設定する基準整列角度の
設定手段と、基準整列角度と検知カメラにより検知され
たウェハのダイシ正僅に基づき支持リング回転手段へ駆
動信号を出力する手段と、基準整列角度に整列された各
ペレットのうち必要なペレットの座標位置を認定し、該
ペレットを選別、摘出可能とするコレット、とを有して
なるペレットの選別摘出装置としている。
[Structure of the Invention #t,] In order to achieve the above object, the present invention provides a support ring for supporting a wafer, which has a dicing line divided into each pellet and has a coordinate position set for each pellet, and a support ring. a table that rotatably supports the wafer; a support ring rotating means that adjusts the rotational position of the support ring to freely adjust the angle that the dicing line of the wafer makes with respect to the XY direction; a detection camera that detects the angle that the dicing line makes with respect to the XY direction; a reference alignment angle setting means that sets a reference alignment angle that serves as a reference for certifying the coordinate position of each pellet to be divided and aligned; means for outputting a drive signal to the support ring rotating means based on the alignment angle and the die size of the wafer detected by the detection camera, and identifying the coordinate position of a necessary pellet among the pellets aligned at the reference alignment angle; A pellet sorting and extraction device includes a collet that allows the pellets to be sorted and extracted.

[発明の詳細な説明] 以下、本発明の実施例を図面を参照して説明する。[Detailed description of the invention] Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

第1図は本発明の一実施例に係るペレット選別摘出装置
を備えてなるペレットポンディング装置の全体を示す平
面図、第2図は第1図のII −II線に沿う拡大断面
図、第3図は粘着シートを引き伸ばす前の状態を示す断
面図、第4図はチャック・引き伸ばし手段により、粘着
シートを引き伸ばした状態を示す断面図、第5図は破折
、分離された各ペレット間に間隔を形成する前の状態を
示す断面図、第6図は各ペレット間に間隔を形成した状
態を示す断面図、第7図はウェハのダイシングラインの
角度を補正する前の状態を示す平面図、第8図はウェハ
のダイシングラインを角度の補正値(θに+)に基づき
補正した状態を示す平面図、第9図および第10図は検
知カメラによりダイシングラインの一部を検知したモニ
タ図に係り、第9図はダイシングラインの角度を補正す
る前の状態、第1θ図は角度の補正値(θに+)に基づ
き補正した後の状態を示す図、第11図はウェハのうち
検知カメラにより検知する部分を示す平面図、第12図
は検知カメラにより任意のダイシングラインと同一のダ
イシングライン上における他の部分を検知した状態を示
すモニタ図に係り、角度の補正を行う前の状態を示す図
、第13図は角度の補正値(θKa)に基づき角度を補
正した後の状態を示すモニタ図、第14図はウェハの中
心を検出する状態を示す平面図である。
FIG. 1 is a plan view showing the entire pellet pumping device equipped with a pellet sorting and extracting device according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is an enlarged sectional view taken along line II-II in FIG. Figure 3 is a cross-sectional view showing the adhesive sheet before being stretched, Figure 4 is a cross-sectional view showing the adhesive sheet being stretched by the chuck/stretching means, and Figure 5 is a cross-sectional view showing the adhesive sheet stretched between the broken and separated pellets. FIG. 6 is a cross-sectional view showing the state before gaps are formed, FIG. 6 is a cross-sectional view showing the state with gaps formed between each pellet, and FIG. 7 is a plan view showing the state before correcting the angle of the dicing line of the wafer. , Figure 8 is a plan view showing the state in which the wafer's dicing line has been corrected based on the angle correction value (+ for θ), and Figures 9 and 10 are monitor views of a portion of the dicing line detected by the detection camera. Regarding this, Fig. 9 shows the state before the angle of the dicing line is corrected, Fig. 1θ shows the state after correction based on the angle correction value (+ for θ), and Fig. 11 shows the state of the dicing line detected on the wafer. A plan view showing the part detected by the camera, and Fig. 12 is a monitor diagram showing the state in which the detection camera detects a given dicing line and other parts on the same dicing line, and the state before angle correction is performed. FIG. 13 is a monitor diagram showing the state after the angle has been corrected based on the angle correction value (θKa), and FIG. 14 is a plan view showing the state in which the center of the wafer is detected.

このペレットポンディング装置は、XYテーブル21上
に分割、整列されてなる各ペレット22をコレット23
で選別、摘出し、コレット23により摘出されたペレッ
ト22を位置決め装置24の位置決め台25上へ移載後
、ペレット23を位置決め台25上で整列させ、さらに
整列されたペレット22をXY方向に駆動可能なマウン
トユニット26により、搬送ラインE上に搬送される基
板27上のマウント位置28にマウントさせるものであ
る。
This pellet pounding device transfers each pellet 22 divided and arranged on an XY table 21 to a collet 23.
After sorting, extracting, and transferring the pellets 22 extracted by the collet 23 onto the positioning table 25 of the positioning device 24, the pellets 23 are aligned on the positioning table 25, and the aligned pellets 22 are further driven in the X and Y directions. The substrate 27 is mounted at a mounting position 28 on a substrate 27 transported onto the transport line E by a mounting unit 26 that can be mounted.

ペレットポンディング装置のXYテーブル21は、架台
29上をXY方向に移動可能としており、該XYテーブ
ル21上に支持リング30を回転可能に支持する支持枠
部31を備えた支持枠台32をポルト33により固定さ
せている。支持枠部31に支持された支持リング30は
、支持部34を備え、該支持部34にて半導体素子等の
素子群をその表面に配置、形成させたウェハ35を被着
させた粘着シート36のウェハ35被着部分の外周部位
を支持するようにしている。
The XY table 21 of the pellet pounding device is movable in the XY directions on a pedestal 29, and a support frame 32 having a support frame portion 31 that rotatably supports a support ring 30 is placed on the XY table 21. It is fixed by 33. The support ring 30 supported by the support frame part 31 includes a support part 34, and an adhesive sheet 36 on which a wafer 35 on which a group of elements such as semiconductor elements are arranged and formed is adhered. The outer periphery of the wafer 35 is supported.

粘着シート36に被着されるウェハ35は、円形状をし
ており予めその表面に配置、形成された素子群の一つ一
つについて不図示の半導体検査装置を用いて検査が行わ
れ、温度特性、動作特性についての各素子の良、不良お
よび該特定についての優劣をA、B、C等のランクで判
別し、その結果をウェハ35の中心に対するxy力方向
の座標位置の設定により、フロッピィデスク、磁気テー
プ等の記憶媒体に記憶させるようにしている。検査の終
了したウェハ35は、粘着シート36に被着させた後、
第5図に示すようにダイヤモンドポイント38を用いて
各素子ごとにスクライブされ、ウェハ35のxy力方向
第11図に示されるようなダイシングライン39が刻設
されることとなる。ウェハ35は、このダイシングライ
ン39に沿って破折、分離され、複数の素子群側素子片
としてのペレット22に分割させるようにしている。ウ
ェハ35を被着した粘着シート36の上部には、コレッ
ト23が矢示F方向に上下動可能な状態で設けられ、不
図示の真空配管によりエアを吸引して先端の開口部41
にて分割、整列されたペレット22を選別、摘出するよ
うにしている。
The wafer 35 adhered to the adhesive sheet 36 has a circular shape, and each of the element groups arranged and formed on the surface thereof is inspected one by one using a semiconductor inspection device (not shown), and the temperature is The quality and operation characteristics of each element are determined to be good or bad, and the quality of the specific element is determined by ranks such as A, B, C, etc., and the results are transferred to the floppy disk by setting the coordinate position in the x and y force directions relative to the center of the wafer 35. The information is stored on a storage medium such as a desk or magnetic tape. The wafer 35 that has been inspected is placed on an adhesive sheet 36, and then
As shown in FIG. 5, each element is scribed using a diamond point 38, and dicing lines 39 are carved in the xy direction of the wafer 35 as shown in FIG. 11. The wafer 35 is broken and separated along this dicing line 39 to be divided into pellets 22 as a plurality of element group side element pieces. A collet 23 is provided on the top of the adhesive sheet 36 on which the wafer 35 is attached so as to be able to move up and down in the direction of arrow F, and the collet 23 sucks air through a vacuum pipe (not shown) to open the opening 41 at the tip.
The divided and aligned pellets 22 are sorted and extracted.

開口部41により各ペレット22を吸着する際、コレッ
ト23は下方へ移動し、これとともに粘着シート36の
裏面より、矢示G方向に上下動可能なニードル42がペ
レット22を突き上げ可能としている。開口部41の形
状は各ペレット22の形状に合わせて方形状のものとし
、断面は略台形状としている。
When each pellet 22 is sucked by the opening 41, the collet 23 moves downward, and at the same time, a needle 42 movable up and down in the direction of arrow G from the back surface of the adhesive sheet 36 is able to push up the pellet 22. The shape of the opening 41 is rectangular in accordance with the shape of each pellet 22, and the cross section is approximately trapezoidal.

粘着シート36における支持リング30に支持部34に
よって支持される部分の外周部位には、該外周部位を保
持する状態でウェハリング43が被着されている。支持
リング30の支持部34の外周位置には、ウェハリング
43および粘着シート36の外周部位をチャックすると
ともに、支持リング30の支持部34の支持面44に対
し略直交する方向[H方向]に相対移動して粘着シート
36を引き伸ばし可能とするチャック・引き伸ばし手段
45を設けている。
A wafer ring 43 is attached to the outer periphery of the portion of the adhesive sheet 36 that is supported by the support ring 30 and the support portion 34 while holding the outer periphery. At the outer peripheral position of the support part 34 of the support ring 30, the outer peripheral parts of the wafer ring 43 and the adhesive sheet 36 are chucked, and the support surface 44 of the support part 34 of the support ring 30 is placed in a direction substantially perpendicular to the support surface 44 [H direction]. A chuck/stretching means 45 is provided which allows the adhesive sheet 36 to be stretched by relative movement.

チャック・引き伸ばし手段45は、ウェハリング43お
よび粘着シート36の外周部位を下方より支持し、支持
リング30の支持部34の外周側面47と当接する状態
で上下動するインナリング48とウェハリング43およ
び粘着シート36の外周部位を上方より押付け、インナ
リング48との間でそれらを挟持可能とするクランパ4
9を備え、インナリング48の外周側面50と当接する
状態で上下動するアウタリング51とからなる。
The chuck/stretcher 45 supports the outer circumferential parts of the wafer ring 43 and the adhesive sheet 36 from below, and the inner ring 48 and the wafer ring 43 and the inner ring 48 move up and down while in contact with the outer circumferential side surface 47 of the support part 34 of the support ring 30. A clamper 4 that presses the outer peripheral part of the adhesive sheet 36 from above and can clamp it between it and the inner ring 48.
9, and an outer ring 51 that moves up and down while coming into contact with the outer peripheral side surface 50 of the inner ring 48.

インナリング48は、支持リング30に対し、ポルト5
2を介して取着され、インナリング48と支持リング3
0との間のポルト52の軸53には圧縮スプリング54
が介装されている。すなわちポルト52の軸53は、支
持リング30に対しインナリング48を上下動する際の
ガイド軸としている。アウタリング51は、内周側面5
7をインナリング48の外周側面50との当接面とし、
外周側面58には、四部59が形成されている。
The inner ring 48 has a port 5 with respect to the support ring 30.
2, the inner ring 48 and the support ring 3
A compression spring 54 is attached to the shaft 53 of the port 52 between the
is interposed. That is, the shaft 53 of the port 52 serves as a guide shaft for vertically moving the inner ring 48 with respect to the support ring 30. The outer ring 51 has an inner peripheral side surface 5
7 is a contact surface with the outer peripheral side surface 50 of the inner ring 48,
Four portions 59 are formed on the outer peripheral side surface 58 .

該凹部59は、支持枠台32に支持、固定されたシリン
ダブラケット60に取着されてなるシリンダ61の駆動
力により上下動するクランプアーム62の先端部に形成
された凸部63を嵌入可能としている。クランプアーム
62は、支持枠台32に支持された軸受部64に対し回
動自在に支持され、また該クランプアーム62は、アウ
タリング51の外周側面58に沿う状態で形成され、該
クランプアーム62の先端部の2ケ所に形成された凸部
63は、アウタリング51の中心線M上の四部59内に
位置させている。クランプアーム62は、軸受部64を
中心として上記凸部63の反対側をシリンダ61のシリ
ンダロッド65と保合可能な係合アーム部66とし、該
保合アーム部66の先端には、シリンダロッド65の先
端に形成された係合凸部67を係入可能とする長孔68
が形成され、係合アーム66どシリンダロッド65を係
合している。シリンダ61は、シリンダロッド65を上
下方向[J方向]に駆動可能とし、シリンダロッド65
の先端に形成された係合凸部67を上下方向[J方向]
に移動可能としている。シリンダブラケット60には、
シリンダロッド65が必要以上に上方移動しないように
ストッパ69が設けられている。シリンダロッド65の
上下動は、係合凸部67と長孔68との係合によりクラ
ンプアーム62側に伝達され、クランプアーム62の先
端部の凸部63を矢示に方向に上下動可能としている。
The concave portion 59 is designed such that a convex portion 63 formed at the tip of a clamp arm 62 that moves up and down by the driving force of a cylinder 61 attached to a cylinder bracket 60 supported and fixed to the support frame 32 can be inserted into the concave portion 59. There is. The clamp arm 62 is rotatably supported by a bearing part 64 supported by the support frame 32, and the clamp arm 62 is formed along the outer peripheral side surface 58 of the outer ring 51. The convex portions 63 formed at two locations on the tip of the outer ring 51 are located within the four portions 59 on the center line M of the outer ring 51. The clamp arm 62 has an engaging arm part 66 that can be engaged with the cylinder rod 65 of the cylinder 61 on the opposite side of the convex part 63 with the bearing part 64 as the center, and the engagement arm part 66 has a cylinder rod at the tip. A long hole 68 into which the engagement convex portion 67 formed at the tip of the hole 65 can be inserted.
is formed, and an engagement arm 66 engages the cylinder rod 65. The cylinder 61 enables the cylinder rod 65 to be driven in the vertical direction [J direction].
The engaging protrusion 67 formed at the tip of the vertical direction [J direction]
It is possible to move to. The cylinder bracket 60 includes
A stopper 69 is provided to prevent the cylinder rod 65 from moving upward more than necessary. The vertical movement of the cylinder rod 65 is transmitted to the clamp arm 62 side by the engagement between the engagement protrusion 67 and the elongated hole 68, and the protrusion 63 at the tip of the clamp arm 62 is made vertically movable in the direction of the arrow. There is.

すなわちクランプアーム62は軸受部64を支点として
てこ運動し、いうなればシリンダロッド65の係合凸部
67を力点、クランプ7−162の凸部63を作用点と
して、シリンダロッド65の上下動を第2図に2点鎖線
Pおよ覧ゝ びQ7示すようにクランプアーム62の凸部63の上下
動とし、ひいては該凸部63と凹部59の嵌合によりア
ウタリング51を上下動させてぃ1す る。
That is, the clamp arm 62 makes a lever movement using the bearing part 64 as a fulcrum, so to speak, with the engagement convex part 67 of the cylinder rod 65 as the point of force and the convex part 63 of the clamp 7-162 as the point of action, the vertical movement of the cylinder rod 65 is second. As shown by two-dot chain lines P and Q7 in the figure, the convex portion 63 of the clamp arm 62 is moved up and down, and the outer ring 51 is moved up and down by the engagement of the convex portion 63 and the concave portion 59. .

これにより第3図に示されるようにインナリング48と
、クランパ49間の間隙Wにウェハリング43および粘
着シート36の外周部位を位置せしめ、次いでシリンダ
61を駆動させ、シリンダロッド65を上方移動させれ
ばクランプアーム62の凸部63は軸受部64を中心と
して下方移動し、支持リング30の支持部34の支持面
47に対し、略直交する方向[H方向]でアウタリング
51が下方移動可能となる。この結果先ずインナリング
48とクランパ49間でウェハリング43および粘着シ
ート36の外周部位が挟持され、それらのチャックが可
能となり、さらにシリンダ61を駆動させ凸部63を下
方移動させれば、アウタリング51およびインナリング
48は、第4図に示すように下方移動し、チャックした
粘着シート36は中心より外方へと矢示R方向[第5図
1に引き伸ばされ、第6図に示すようにペレット22間
に間隔が形成され、粘着シート36上に各ペレット22
が等間隔で分割、整列さ2 れることが可能となる。
As a result, as shown in FIG. 3, the wafer ring 43 and the outer periphery of the adhesive sheet 36 are positioned in the gap W between the inner ring 48 and the clamper 49, and then the cylinder 61 is driven and the cylinder rod 65 is moved upward. If so, the convex part 63 of the clamp arm 62 moves downward around the bearing part 64, and the outer ring 51 can move downward in a direction [H direction] substantially orthogonal to the support surface 47 of the support part 34 of the support ring 30. becomes. As a result, the outer circumferential portions of the wafer ring 43 and the adhesive sheet 36 are first clamped between the inner ring 48 and the clamper 49, making it possible to chuck them.Furthermore, by driving the cylinder 61 and moving the convex portion 63 downward, the outer ring 43 and the adhesive sheet 36 are clamped. 51 and the inner ring 48 move downward as shown in FIG. 4, and the chucked adhesive sheet 36 is stretched outward from the center in the direction of arrow R [FIG. Spaces are formed between the pellets 22, and each pellet 22 is placed on the adhesive sheet 36.
can be divided and arranged at equal intervals.

XYテーブル21上の支持枠台32には、支持枠台32
に対し支持リング30を周方向[S方向]に回転可能と
し、支持リング30の回転位置の調整により、粘着シー
ト36に被着されたウェハ35のダイシングライン39
がXY方向に対してなす角度を調整自在とする支持リン
グ回転手段71が設けられている。支持リング回転手段
71は、支持枠台32に固着されたモータブラケット7
2に対しステッピングモータ73を支持させてなり、支
持リング30の外周位置に設けたセクタギヤ74とモー
タシャフト75に装着させたピニオン76を噛み合わせ
、ステラピンモータ73の回転力により、支持リング3
0を支持枠台31に対して回転可能とし、ウェハ35の
ダイシングライン3qがXY方向に対してなす角度を調
整自在としている。
The support frame base 32 on the XY table 21 has a support frame base 32 on it.
By adjusting the rotational position of the support ring 30, the dicing line 39 of the wafer 35 attached to the adhesive sheet 36 can be rotated in the circumferential direction [S direction].
A support ring rotation means 71 is provided that allows the angle formed by the support ring with respect to the XY directions to be adjusted. The support ring rotation means 71 includes a motor bracket 7 fixed to the support frame 32.
A sector gear 74 provided on the outer periphery of the support ring 30 and a pinion 76 attached to a motor shaft 75 are engaged with each other, and the rotational force of the stellar pin motor 73 causes the support ring 3 to be supported by a stepping motor 73.
0 is rotatable with respect to the support frame 31, and the angle formed by the dicing line 3q of the wafer 35 with respect to the X and Y directions can be adjusted.

XYテーブル21の上方位置には、ウェハ35のうちの
任意のダイシングライン39の一部を検知し、ダイシン
グライン39がXY方向に対してなす角度を検知可能と
する検知カメラ77が配置、固定されている。すなわち
、この検知カメラ77は、ウェハ35のダイシングライ
ン39を−L方より捕捉し、例えば第7図に示すように
ウェハ35のダイシングライン39がXY方向に対し4
5度の角度となっていた場合、任意のダイシングライン
39上の一部の点Tを第9図に示すように検知カメラ7
7のモニタ上のXY照準線78および79の交点である
照準点Uに合わせて検知し、XY照準線に対するダイシ
ングライン39の角度θ1=45度をめるようにしてい
る。
A detection camera 77 is arranged and fixed above the XY table 21 to detect a part of an arbitrary dicing line 39 on the wafer 35 and to detect the angle that the dicing line 39 makes with respect to the XY direction. ing. That is, this detection camera 77 captures the dicing line 39 of the wafer 35 from the -L direction, and for example, as shown in FIG. 7, the dicing line 39 of the wafer 35 is
If the angle is 5 degrees, a part of point T on the arbitrary dicing line 39 is detected by the detection camera 7 as shown in FIG.
The dicing line 39 is detected at the aiming point U which is the intersection of the XY aiming lines 78 and 79 on the monitor 7, and the angle θ1 of the dicing line 39 with respect to the XY aiming line is set to 45 degrees.

粘着シート36上に分割、整列される各ペレット22は
、前述のように不図示の半導体検査装置により、予め各
素子の良、不良およびA、B、c等のランク判別が行わ
れ、それらの情報は、ウェハ35の中心に対するXY方
向での座標位置でフロッピィディスク、磁気テープ等の
記憶媒体に記憶之れでいるため、それら各ペレット22
の座標位置の認定を行い、必要なペレット22をコレッ
ト23により選別、摘出可能とするため、分割、整列さ
れる各ペレット22の座標位置の認定を行うための基準
整列角度に設定する必要がある。本実施例では、ウェハ
35上の各素子の良、不良およびA、B、C等のランク
判別の結果をウェハ35の中心に対し、XY方向での座
標位置の設定により行っているため、該ウェハ35のX
Y方向とXYテーブル21の移動方向であるXY方向と
を一致させる必要がある。言うなればXY方向が分割、
整列されるペレット22の基準整列角度ということにな
り、基準整列角度は、XYテーブル21の移動方向およ
び検知カメラ77のモニタ上のXY照準線78.79に
より設定される[基準整列角度設定手段■]。
Each pellet 22 that is divided and arranged on the adhesive sheet 36 is determined in advance by a semiconductor inspection device (not shown) as described above, and the quality of each element is determined as good or bad and the rank of A, B, c, etc. is determined. Since the information is stored in a storage medium such as a floppy disk or magnetic tape at the coordinate position in the X and Y directions relative to the center of the wafer 35, each pellet 22
In order to make it possible to select and extract the necessary pellets 22 using the collet 23, it is necessary to set a reference alignment angle to certify the coordinate position of each pellet 22 to be divided and aligned. . In this embodiment, the results of determining whether each element on the wafer 35 is good or bad and ranks such as A, B, and C are determined by setting coordinate positions in the X and Y directions with respect to the center of the wafer 35. X of wafer 35
It is necessary to match the Y direction and the XY direction, which is the moving direction of the XY table 21. In other words, the XY direction is divided,
This is the reference alignment angle of the pellets 22 to be aligned, and the reference alignment angle is set by the moving direction of the XY table 21 and the XY sight line 78, 79 on the monitor of the detection camera 77 [Reference alignment angle setting means 2] ].

検知カメラ77により検知されたウェハ35のダイシン
グライン39がXY方向に対してなす角度は、上記基準
整列角度と比較され、比較の結果ウェハ35のダイシン
グライン39を基準整列角度とするための角度の補正値
(θに+)を検知カメラ77の演算部81で算出するよ
うにされる[角度の補正値(θに+)を算出する手段■
]。
The angle that the dicing line 39 of the wafer 35 makes with respect to the XY direction detected by the detection camera 77 is compared with the reference alignment angle, and as a result of the comparison, the angle to set the dicing line 39 of the wafer 35 as the reference alignment angle is determined. The correction value (+ for θ) is calculated by the calculation unit 81 of the detection camera 77 [Means for calculating the angle correction value (+ for θ)■
].

5 さらに上記角度の補正値(θに+)に基づき支持リング
30を回転駆動させるため、駆動信号を出力する手段■
から支持リング回転手段■へ回転駆動信号を出力するよ
うにしている。支持リング30を回転し、ダイシングラ
イン39の角度を基準整列角度に補正した後、新たに検
知カメラ77の照準点Uをダイシングライン39のいず
れかの位置に合わせて補正状態を確認する必要がある。
5 Furthermore, a means for outputting a drive signal to rotate the support ring 30 based on the angle correction value (+ to θ);
A rotational drive signal is output from the support ring rotation means (2) to the support ring rotation means (2). After rotating the support ring 30 and correcting the angle of the dicing line 39 to the reference alignment angle, it is necessary to newly align the aiming point U of the detection camera 77 to any position on the dicing line 39 and check the correction state. .

この際、検知範囲の狭い検知カメラ77のモニタの照準
点Uとダイシングライン39の任意部分を新たに合わせ
る作業は手間がかかるため、補正前に検知カメラ77に
より検知される任意のダイシングライン39の一部の点
Tを照準点Uに合わせたままの状態で角度補正を行うよ
うにしている。
At this time, since it is time-consuming to newly align the aiming point U of the monitor of the detection camera 77, which has a narrow detection range, with any arbitrary part of the dicing line 39, the arbitrary part of the dicing line 39 detected by the detection camera 77 must be adjusted before correction. The angle correction is performed while keeping a part of the point T aligned with the aiming point U.

すなわち、検知カメラ77の狭い検知領域に同一のダイ
シングライン39を捕捉し続ける状態で角度の補正を行
うようにしている。このため上記駆動信号を出力する手
段■は、ウェハ22のダイシングライン39の一部の点
Tを検知したままの状態で角度の補正が行われるように
xYテーブル駆6 動子段■および支持リング回転手段■に対しそれぞれX
Y駆動信号および回転駆動信号を出力するようにしてい
る。このことは、ウェハ35がその中心を支持リング3
0の回転中心0と異なる位置の状態で支持リング30に
支持されていることによる。
That is, the angle is corrected while the same dicing line 39 continues to be captured in the narrow detection area of the detection camera 77. For this reason, the means (2) for outputting the drive signal includes an xY table drive 6, an actuator stage (2) and a support ring so that the angle is corrected while the point T of a part of the dicing line 39 of the wafer 22 is still being detected. X for each rotating means■
A Y drive signal and a rotation drive signal are output. This means that the wafer 35 has its center centered on the support ring 3.
This is due to the fact that it is supported by the support ring 30 at a position different from the rotation center 0.

第7図に示すようにウェハ35のダイシングライン39
が例えばXY方向に対し45度の角度状態となっている
場合、検知カメラ77は、第9図のモニタ上で示すよう
に任意のダイシングライン39の点Tと照準点Uを合わ
せた状態にしてダイシングライン39がXY方向に対し
てなる角度θ1=45度をめ、次いで検知カメラ77の
演算部81で角度の補正値(θに+)を算出させるよう
にする。本実施例では、基準整列角度がXY方向であり
、該XY方向とウェハ35のXY方向との角度差が角度
の補正値(θK + )となる。
Dicing line 39 of wafer 35 as shown in FIG.
For example, when the angle is 45 degrees with respect to the XY direction, the detection camera 77 aligns the aiming point U with the point T of the arbitrary dicing line 39 as shown on the monitor in FIG. The angle θ1 = 45 degrees that the dicing line 39 forms with respect to the XY directions is determined, and then the calculation unit 81 of the detection camera 77 calculates an angle correction value (+ for θ). In this embodiment, the reference alignment angle is the XY direction, and the angular difference between the XY direction and the XY direction of the wafer 35 becomes the angle correction value (θK + ).

従って角度の補正値θに+=45度となり、駆動信号を
出力する手段■から支持リング回転手段■およびxYテ
ーブル駆動手段■へ駆動信号が出力され、支持リング3
0が回転して第8図に示されるように、任意の点Tを検
知したままの状態でウェハ35のダイシングライン39
の角度補正が行われる。角度の補正の結果の検知は、第
1θ図のモニタで示すように任意のダイシングライン3
9の点Tと照準点Uを合わせた状態で行われ、その結果
モニタ上でXY照準線78.79に対するダイシングラ
イン39の角度を再検知し、基準整列角度、すなわち、
本実施例ではXY方向と、ダイシングライン39のXY
方向の整合性の確認して行うようにしている[整合性を
確認する手段■]。基準整列角度に対する整合性を確認
した結果、ダイシングライン39がXY方向に対してな
す角度に差が検出された場合、該角度差を補正する角度
の補正値θに2を検知カメラ77の演算部81で算出す
るようにしている[角度の補正値(θK 2 )を算出
する手段■】。さらにウェハ35のダイシングライン3
9の一部の点Tとモニタ上の照準点Uを合わせたままの
状態で角度の補正値θに2に基づき角度の補正が行われ
るようにするため、支持リング回転手段■およびxYテ
ーブル駆動手段■に、駆動信号を出力する手段■より、
回転駆動信号およびXY駆動信号を出力させるようにし
ている。
Therefore, the angle correction value θ becomes +=45 degrees, and a drive signal is output from the drive signal outputting means (■) to the support ring rotation means (■) and the xY table drive means (■), and the support ring 3
0 rotates and the dicing line 39 of the wafer 35 is detected while the arbitrary point
Angle correction is performed. The result of angle correction can be detected at any dicing line 3 as shown on the monitor in Fig. 1θ.
As a result, the angle of the dicing line 39 with respect to the XY aiming line 78, 79 is re-detected on the monitor, and the reference alignment angle, that is,
In this embodiment, the XY direction and the XY direction of the dicing line 39 are
This is done by checking the consistency of the direction [Means for checking consistency ■]. As a result of checking the consistency with the reference alignment angle, if a difference is detected in the angle that the dicing line 39 makes with respect to the X and Y directions, the calculation unit of the camera 77 detects a correction value θ of 2 for the angle that corrects the angular difference. 81 [Means for calculating the angle correction value (θK 2 )]. Furthermore, dicing line 3 of wafer 35
In order to correct the angle based on the angle correction value θ while keeping the point T of 9 aligned with the aim point U on the monitor, the support ring rotation means ■ and the xY table drive are used. From means ■ for outputting a drive signal to means ■,
A rotational drive signal and an XY drive signal are output.

ウェハ35のうち任意のダイシングライン39の一部の
点Tにおいて、ダイシングライン39が基準整列角度に
整列されたことが確認されたら、上記任意のダイシング
ライン39と同一のダイシングライン39上における他
の部分で基準整列角度に対する整合性を再確認するよう
にしている[整合性を確認する再確認手段■]。この再
確認手段■は、検知カメラ77により上記任意のダイシ
ンクライン39と同一のダイシングライン39上におけ
る他の部分のXY方向に対してなす角度を検出するもの
であり、第1O図に示すようにモニタにおいてダイシン
グライン39の一部の点Tと照準点Uが合わせられ、ダ
イシングライン39が基準整列角度に整列されたことが
確認された状態で、例えば第11図で示す同一ダイシン
グライン39上の他の部分85を検知するようにする。
When it is confirmed that the dicing line 39 is aligned at the standard alignment angle at some point T of the arbitrary dicing line 39 on the wafer 35, other points on the same dicing line 39 as the arbitrary dicing line 39 are confirmed. The consistency with the standard alignment angle is reconfirmed in some parts [Reconfirmation means for confirming consistency ■]. This reconfirmation means (2) uses the detection camera 77 to detect the angle of the arbitrary die sink line 39 and other parts on the same dicing line 39 with respect to the X and Y directions, as shown in FIG. 1O. In a state where it is confirmed that a part of the point T of the dicing line 39 and the aiming point U are aligned on the monitor and that the dicing line 39 is aligned at the standard alignment angle, for example, on the same dicing line 39 as shown in FIG. The other portion 85 is to be detected.

9 すなわちダイシングライン39上における一部の点Tを
検知した後にXYテーブル21をそのままX方向に移動
させ、検知カメラ77により他の部分85を検知した場
合に、XY方向に対してなす角度が、基準整列角度に対
してずれを生じていた場合、それはダイシングライン3
9が基準整列角度に整列されていないことを意味する。
9 In other words, when the XY table 21 is moved in the X direction after detecting a part of the point T on the dicing line 39 and the other part 85 is detected by the detection camera 77, the angle made with respect to the XY direction is If there is a deviation from the standard alignment angle, it is the dicing line 3.
9 means that it is not aligned to the reference alignment angle.

例えばXYテーブル21をダイシングライン39の一部
の点Tから他の部分85までX方向に移動させ、検知カ
メラ77で他の部分85を検知した場合に、第12図に
示すモニタのように照準点Uとダイシングライン39舎
上の点Zの間にずれが検知された場合にこれらのずれを
補正させる必要性がある。このずれはウェハ35のダイ
シングライン39上におけるT点を基準にして角度がX
Y方向にしθ3だけずれていることを意味し、θ3は次
式で表される。
For example, when the XY table 21 is moved in the X direction from a point T of a part of the dicing line 39 to another part 85, and the other part 85 is detected by the detection camera 77, the aim is as shown in the monitor shown in FIG. When deviations are detected between point U and point Z on the dicing line 39, it is necessary to correct these deviations. This deviation is at an angle of X with respect to point T on the dicing line 39 of the wafer 35.
This means that it is shifted by θ3 in the Y direction, and θ3 is expressed by the following equation.

0 θ3は、検知カメラ77のよる検知の結果、演算部81
で算出され、次いでθ3に基づき角度の補正値(θKa
)を算出するようにしている[角度の補正値(θに3)
を算出する手段[株]]、さらに角度の補正値(θKa
)に基づき駆動信号を出力する手段0から支持リング回
転手段■へ回転駆動信号が出力され、第13図のモニタ
で示すようにウェハ35のダイシングライン39が基準
整列角度、すなわちXY方向に整列されることとなる。
0 θ3 is determined by the calculation unit 81 as a result of detection by the detection camera 77.
is calculated, and then the angle correction value (θKa
) is calculated [Angle correction value (3 for θ)
[Stock]], and the angle correction value (θKa
), a rotation drive signal is output from the drive signal outputting means 0 to the support ring rotation means (2), and the dicing lines 39 of the wafer 35 are aligned at the reference alignment angle, that is, in the XY directions, as shown on the monitor in FIG. The Rukoto.

ウェハ35のダイシングライン39が基準整列角度に整
列された後、支持リング30に支持されたウェハ35の
中心位置の検出を行うようにする。すなわちウェハ35
上に配置、形成された各素子の良、不良およびA、B、
C等のランクは、ウェハ35の中心に対するXY方向で
の座標位置の設定によりフロッピィディスク、磁気テー
プ等の記憶媒体に記憶されているため、必要なペレット
22を該記憶媒体に基づき選別、摘出を行う場合、支持
リング30上におけるウェハ35の中心をめ各ペレット
22の座標位置の認定を行う必要がある。支持リング3
0上におけるウェハ35の中心の検出は第14図に示す
ように円形のウェハ35の周上に二つの弦を設定するこ
とにより行われ、検知カメラ77によりウニ)\35の
周上に任意の三点87.88.89を設定することによ
り、二つの弦90.91を作成し、各弦90.91の垂
直二等分線93.94の交点の座標位置95を検知カメ
ラ77の演算部81で算出させることにより行う。これ
により支持リング30上におけるウェハ35の中心座標
95が算出される。
After the dicing lines 39 of the wafer 35 are aligned at the reference alignment angle, the center position of the wafer 35 supported by the support ring 30 is detected. That is, wafer 35
Good, bad, A, B, etc. of each element arranged and formed above
Ranks such as C are stored in a storage medium such as a floppy disk or magnetic tape by setting the coordinate position in the X and Y directions relative to the center of the wafer 35, so the necessary pellets 22 are sorted and extracted based on the storage medium. If this is done, it is necessary to identify the coordinate position of each pellet 22 with respect to the center of the wafer 35 on the support ring 30. Support ring 3
Detection of the center of the wafer 35 on the wafer 35 is performed by setting two strings on the circumference of the circular wafer 35 as shown in FIG. By setting the three points 87, 88, and 89, two chords 90.91 are created, and the calculation unit of the camera 77 detects the coordinate position 95 of the intersection of the perpendicular bisector 93.94 of each chord 90.91. This is done by calculating in step 81. As a result, the center coordinates 95 of the wafer 35 on the support ring 30 are calculated.

フロッピィディスク、磁気テープ等の記憶媒体に記憶さ
れた各ペレット22の良、不良あるいはA、B、C等ラ
ンク別に関するそれぞれのペレット22の座標位置に関
する情報は、XYテーブル駆動手段■に上記記憶媒体を
セットすることにより入力され、XYテーブル駆動手段
■は上記ウェハ35の中心座標95を認定した状態で各
ペレット22の座標位置の認定が可能となる。これによ
り、粘着シート36上における基準整列角度に整列され
た各ペレット22のうち必要なペレット22の座標位置
の認定が可能となり、テーブル21を必要な座標位置に
移動制御すれば必要なペレット22をコレット23の吸
着点に位置させることが可能となり、必要な良品ペレッ
トあるいは必要なランクのペレット22を選別、摘出す
ることが可能となる。
Information regarding the coordinate position of each pellet 22 stored in a storage medium such as a floppy disk or a magnetic tape, whether good or bad, or classified by rank such as A, B, C, etc., is transferred to the XY table driving means (2) from the storage medium. The XY table driving means (2) can recognize the coordinate position of each pellet 22 while recognizing the center coordinate 95 of the wafer 35. This makes it possible to identify the coordinate positions of the required pellets 22 among the pellets 22 aligned at the standard alignment angle on the adhesive sheet 36, and by controlling the movement of the table 21 to the required coordinate positions, the required pellets 22 can be located. It becomes possible to position it at the suction point of the collet 23, and it becomes possible to sort and extract the necessary good quality pellets or the pellets 22 of the necessary rank.

次に上記実施例の作用を説明する。Next, the operation of the above embodiment will be explained.

ウェハ35上の各素子は、予め半導体検査装置により各
素子における温度特性、動作特性の良。
Each element on the wafer 35 is checked in advance by a semiconductor inspection device to ensure that the temperature characteristics and operating characteristics of each element are good.

不良あるいは該特性の優劣に基づきA、B、C等のラン
ク分は等が行われ、それらの情報は、例えばウェハ35
の中心位置に対するxy座標でフロッピィディスク、磁
気テープ等の記憶媒体に記憶される。粘着シート36に
被着されたウェハ35は、XY方向に刻設されたダイシ
ングライン39に沿って破折、分離され、素子片として
の各ペレット22に分割された状態で支持リング30上
に支持される。この状態で粘着シート36および粘着シ
ート36に被着されるウェハリング43をチャック・引
き伸ばし手段45によりチャック3 し、検知カメラ77のよりウェハ35のダイシングライ
ン39がXY方向に対してなす角度を検知して基準整列
角度[XYY方向上の比較を行うようにする。すなわち
、上記記憶媒体において記憶され、予め座標設定の行わ
れた各ペレット22をXYテーブル21上においてそれ
ぞれ座標位置の認定を行う場合、ウェハ35を座標設定
が行われた基準整列角度[XYY方向上整列させる必要
がある。このためウェハ35のダイシングライン39を
検知カメラ77により検知させ、XY方向に対してなす
ダイシングライン39の角度と基準整列角度とを比較し
、角度の補正値(θKl)を算出してウェハ35を基準
整列角度に整列させるようにする。
Ranks such as A, B, and C are determined based on defects or the superiority or inferiority of the characteristics, and such information is stored, for example, on the wafer 35.
It is stored in a storage medium such as a floppy disk or magnetic tape in the x and y coordinates relative to the center position. The wafer 35 adhered to the adhesive sheet 36 is broken and separated along the dicing lines 39 carved in the X and Y directions, and is supported on the support ring 30 in a state where it is divided into pellets 22 as element pieces. be done. In this state, the adhesive sheet 36 and the wafer ring 43 attached to the adhesive sheet 36 are chucked by the chuck/stretcher 45, and the detection camera 77 detects the angle that the dicing line 39 of the wafer 35 makes with respect to the XY direction. Then, the reference alignment angle [XYY direction comparison is performed. That is, when certifying the coordinate position of each pellet 22 stored in the storage medium and for which coordinates have been set in advance on the XY table 21, the wafer 35 is placed at the reference alignment angle [in the XYY direction where the coordinates have been set]. need to be aligned. Therefore, the dicing line 39 of the wafer 35 is detected by the detection camera 77, the angle of the dicing line 39 made with respect to the XY direction is compared with the reference alignment angle, and the angle correction value (θKl) is calculated. Align to the standard alignment angle.

角度の補正は、検知カメラ77により任意のダイシング
ライン39の一部を検知可能な状態で行われ、これによ
り角度の補正後、ダイシングライン39のXY方向に対
してなす角度と基準整列角度との整合性を確認する際、
新たに検知カメラ77の検知範囲、具体的には照準点U
にグイシン4 グライン39を合わせる必要がなくなる。
The angle correction is performed in a state where a part of the arbitrary dicing line 39 can be detected by the detection camera 77, so that after the angle correction, the angle between the dicing line 39 in the XY direction and the reference alignment angle is determined. When checking consistency,
New detection range of detection camera 77, specifically aiming point U
It is no longer necessary to match Guisin 4 and Grine 39.

角度の補正値(θに+)に基づき補正がされた後に基準
整列角度との整合性を確認を行う、整合性を確認した結
果、基準整列角度とダイシングライン39がXY方向に
対してなす角度の間に差が検出された場合、角度の補正
値(θK 2 )を算出し、該補正値(θに2)に基づ
き角度補正を行うようにする。これにより、ウェハ35
を確実かつ高精度にXYテーブル21上に整列可能とな
る。
After correction is made based on the angle correction value (+ for θ), the consistency with the standard alignment angle is checked.As a result of checking the consistency, the angle between the standard alignment angle and the dicing line 39 with respect to the XY direction If a difference is detected between them, an angle correction value (θK 2 ) is calculated, and the angle correction is performed based on the correction value (θ = 2). As a result, the wafer 35
can be reliably and precisely aligned on the XY table 21.

さらに上記任意のダイシングライン39の一部が基準整
列角度に整列されたことを確認した状態で、XYテーブ
ル21を移動し、上記任意のダイシングライン39と同
一のダイシングライン39上における他の部分の基準整
列角度との整合性を検知カメラ77により確認する。す
なわち、上記任意のダイシングライン39の一部におい
て、検知カメラ77で検知不可能な基準整列角度との角
度差が生じていたとしても、XYテーブル21の移動に
より、他の部分を検知することで該角度差が検知カメラ
77で検知可能なものに拡開されることとなり、その状
態で角度差を補正するため角度の補正値(θに3)の算
出を行い、支持リング30を回転して角度の補正を行え
ばウェハ35はさらに確実かつ高精度にXYテニブル2
1上に整列可能となる。
Further, after confirming that a part of the arbitrary dicing line 39 is aligned at the reference alignment angle, move the XY table 21 to align other parts on the same dicing line 39 as the arbitrary dicing line 39. Consistency with the reference alignment angle is confirmed by the detection camera 77. In other words, even if there is an angular difference from the reference alignment angle that cannot be detected by the detection camera 77 in a part of the arbitrary dicing line 39, it can be detected by moving the XY table 21 and detecting other parts. The angular difference is enlarged to be detectable by the detection camera 77, and in order to correct the angular difference in this state, an angular correction value (3 for θ) is calculated, and the support ring 30 is rotated. If the angle is corrected, the wafer 35 can be moved more reliably and with high precision to the XY tenable 2.
It becomes possible to align on 1.

角度の補正のなされたXYテーブル21上のウェハ35
の各ペレット22は、フロッピィディスク、磁気テープ
等の記憶媒体に記憶された各素子についての情報と同じ
座標配列となり、さらにウェハ35の中心95をめるこ
とにより、上記記憶媒体に基づき必要なペレット22の
座標位置の認定が可能となり、該ペレット22をコレッ
ト23により選別、摘出することが可能となる。
Wafer 35 on the XY table 21 whose angle has been corrected
Each pellet 22 has the same coordinate arrangement as the information about each element stored in a storage medium such as a floppy disk or magnetic tape, and by setting the center 95 of the wafer 35, the necessary pellets can be determined based on the storage medium. The coordinate position of the pellet 22 can be recognized, and the pellet 22 can be sorted and extracted by the collet 23.

このように上記実施例によれば、XYテーブル21上に
分割、整列され、それぞれ座標位置の設定されたペレッ
ト22を、該座標位置を認定することにより、それぞれ
摘出対象のペレット22を迅速かつ確実に、さらに連続
的に選別、摘出することが可能となり、予め半導体検査
装置により検査された情報に基づき、例えば、良品ペレ
ットのみの選別、摘出を行ったり、温度特性、動作特性
がAランクに属するペレット22のみを選別、摘出する
ことも可能となる。これによりペレットの選別摘出装置
の稼動効率を大きく向上させることが可能となる。
In this manner, according to the above embodiment, the pellets 22 to be extracted are quickly and reliably separated and arranged on the XY table 21 and the coordinate positions of the pellets 22 are recognized. Furthermore, it is now possible to perform continuous sorting and extraction, and based on information inspected in advance by semiconductor inspection equipment, for example, only good pellets can be sorted and extracted, or pellets whose temperature characteristics and operating characteristics belong to rank A. It is also possible to sort and extract only the pellet 22. This makes it possible to greatly improve the operating efficiency of the pellet sorting and extraction device.

[発明の効果] 以上のように本発明は各ペレットに分割されるダイシン
グラインを有し、各ペレットに座標位置が設定されるウ
ェハを支持する支持リングと、支持リングを回転可能に
支持するテーブルと、支持リングの回転位置を調整し、
ウェハのダイシングラインがXY方向に対してなす角度
を調整自在とする支持リング回転手段と、テーブルの上
方位置に配置され、ウェハのダイシングラインがXY方
向に対してなす角度を検知する検知カメラと、分割、整
列される各ペレットの座標位置の認定を行う基準となる
基準整列角度を設定する基準整列角度の設定手段と、基
準整列角度と検知カメラにより検知されたウェハのダイ
シングラインがXY方向に対してなす角度を比較し、角
度の補正値を算7 出する手段と、上記角度の補正値に基づき支持リング回
転手段へ駆動信号を出力する手段と、基準整列角度に整
列された各ペレットのうち必要なペレットの座標位置を
認定し、該ペレットを選別、摘出可能とするコレット、
とを有してなるペレットの選別摘出装置としたため、各
ペレットに分割されるテーブル上のウェハのうち、摘出
対象のペレットの位置の確認作業をテーブル上における
座標位置の認定により自動化し、必要なペレットのみを
選別、摘出する作業を迅速かつ確実に行わせ、ペレット
の選別摘出装置の稼動効率の向上を図ることができると
いう効率がある。
[Effects of the Invention] As described above, the present invention includes a support ring that supports a wafer having a dicing line divided into each pellet and a coordinate position set for each pellet, and a table that rotatably supports the support ring. and adjust the rotational position of the support ring,
a support ring rotation means that can freely adjust the angle that the dicing line of the wafer makes with respect to the XY directions; a detection camera that is placed above the table and detects the angle that the dicing line of the wafer makes with the XY direction; A reference alignment angle setting means for setting a reference alignment angle that serves as a reference for certifying the coordinate position of each pellet to be divided and aligned; a means for comparing the angles formed by the angle and calculating an angle correction value; a means for outputting a drive signal to the support ring rotating means based on the angle correction value; A collet that certifies the coordinate position of a necessary pellet and allows the pellet to be sorted and extracted;
As the pellet sorting and extraction device has There is an efficiency in that the work of sorting and extracting only pellets can be performed quickly and reliably, and the operating efficiency of the pellet sorting and extracting device can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の一実施例に係るペレット選別摘出装置
を備えてなるペレッi・ポンディング装置の全体を示す
平面図、第2図は第1図のII −II線に沿う拡大断
面図、第3図は粘着シートを引き伸ばす前の状態を示す
断面図、第4図はチャック・引き伸ばし手段により、粘
着シートを引き伸ばした状態を示す断面図、第5図は破
折、分離された8 各ペレット間に間隔を形成する前の状態を示す断面図、
第6図は各ペレット間に間隔を形成した状態を示す断面
図、第7図はウェハのダイシングラインの角度を補正す
る前の状態を示す平面図、第8図はウェハのダイシング
ラインを角度の補正値(θKl)に基づき補正した状態
を示す平面図、第9図および第1θ図は検知カメラによ
りダイシングラインの一部を検知したモニタ図に係り、
第9図はダイシングラインの角度を補正する前の状態、
第1θ図は角度の補正値(θに+)に基づき補正した後
の状態を示す図、第11図はウェハのうち検知カメラに
より検知する部分を示す平面図、第12図は検知カメラ
により任意のダイシングラインと同一のダイシングライ
ン上における他の部分を検知した状態を示すモニタ図に
係り、角度の補正を行う前の状態を示す図、第13図は
角度の補正値(θKa)に基づき角度を補正した後の状
態を示すモニタ図、第14図はウェハの中心を検出する
状態を示す平面図である。 21・・・XYテーブル、22・・・ペレット、23・
・・コレット、30・・・支持リング、35・・・ウェ
ハ、39・・・ダイシングライン、77・・・検知カメ
ラ、■・・・基準整列角度の設定手段、■・・・角度の
補正値を算出する手段、■・・・駆動信号を出力する手
段、■・・・支持リング回転手段。 代理人 弁理士 塩 川 修 治 第12図 85 2 第13図 5 822 1/ り^ 第14図
FIG. 1 is a plan view showing the entire pellet i-pounding device equipped with a pellet sorting and extracting device according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is an enlarged sectional view taken along line II-II in FIG. 1. , Fig. 3 is a sectional view showing the state before stretching the adhesive sheet, Fig. 4 is a sectional view showing the state where the adhesive sheet is stretched by the chuck/stretching means, and Fig. 5 is a sectional view showing the state in which the adhesive sheet is stretched after being broken and separated. A cross-sectional view showing the state before forming gaps between pellets,
Fig. 6 is a cross-sectional view showing the state where intervals are formed between each pellet, Fig. 7 is a plan view showing the state before the angle of the wafer dicing line is corrected, and Fig. 8 is a cross-sectional view showing the state before the angle of the dicing line of the wafer is corrected. The plan view showing the state corrected based on the correction value (θKl), FIG. 9 and FIG.
Figure 9 shows the state before correcting the dicing line angle.
Fig. 1 θ is a diagram showing the state after correction based on the angle correction value (+ θ), Fig. 11 is a plan view showing the part of the wafer detected by the detection camera, and Fig. 12 is a diagram showing the state after correction based on the angle correction value (+ θ). Regarding the monitor diagram showing the state in which other parts on the same dicing line as the dicing line are detected, the diagram shows the state before angle correction, and Fig. 13 shows the state before angle correction is performed. FIG. 14 is a monitor diagram showing the state after correction, and FIG. 14 is a plan view showing the state in which the center of the wafer is detected. 21...XY table, 22...pellet, 23.
... Collet, 30... Support ring, 35... Wafer, 39... Dicing line, 77... Detection camera, ■... Reference alignment angle setting means, ■... Angle correction value means for calculating, ■...means for outputting a drive signal, ■...means for rotating the support ring. Agent Patent Attorney Osamu Shiokawa Fig. 12 85 2 Fig. 13 5 822 1/ri^ Fig. 14

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)各ペレットに分割されるダイシングラインを有し
、各ペレットに座標位置が設定されるウェハを支持する
支持リングと、支持リングを回転可能に支持するテーブ
ルと、支持リングの回転位置を調整し、ウェハのダイシ
ングラインがXY方向に対してなす角度を調整自在とす
る支持リング回転手段と、テーブルの上方位置に配置さ
れ、ウェハのダイシングラインがXY方向に対してなす
角度を検知する検知カメラと、分割、整列される各ペレ
ットの座標位置の認定を行う基準となる基準整列角度を
設定する基準整列角度の設定手段と、基準整列角度と検
知カメラにより検知されたウェハのダイシングラインが
XY方向に対してなす角度号を出力する手段と、基準整
列角度に整列された各ペレットのうち必要なペレットの
座標位置を認定し、該ペレットを選別、摘出可能とする
コレット、とを有してなるペレットの選別摘出装置。
(1) A support ring that supports the wafer, which has a dicing line divided into each pellet and has a coordinate position set for each pellet, a table that rotatably supports the support ring, and adjusts the rotational position of the support ring. and a support ring rotation means that can freely adjust the angle that the dicing line of the wafer makes with respect to the XY directions, and a detection camera that is placed above the table and detects the angle that the dicing line of the wafer makes with the XY direction. and a reference alignment angle setting means for setting a reference alignment angle that serves as a reference for certifying the coordinate position of each pellet to be divided and aligned; and a collet for identifying the coordinate position of a necessary pellet among the pellets aligned at the reference alignment angle and for sorting and extracting the pellet. Pellet sorting and extraction device.
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