JPS60204778A - 2−ヒドロキシ−4−メチルテトラヒドロピランの製造法 - Google Patents

2−ヒドロキシ−4−メチルテトラヒドロピランの製造法

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JPS60204778A
JPS60204778A JP59062448A JP6244884A JPS60204778A JP S60204778 A JPS60204778 A JP S60204778A JP 59062448 A JP59062448 A JP 59062448A JP 6244884 A JP6244884 A JP 6244884A JP S60204778 A JPS60204778 A JP S60204778A
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  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は2−ヒドロキシ−4−メチルテトラヒドロピラ
ンの製造法に関し、詳しくは、3−メチA/−3−ブテ
ンー1−オールを周期表第V族の元素によシ変性されて
いないロジウム化合物の存在下11Cヒドロホμミル化
して2−ヒドロキシ−4−メチルテトラヒドロピランを
工業的に有利に製造する方法に関するものである。さら
に詳しくは本発明は、3−メチ/L’−3−ブテンー1
−オーμを、35重量%以下の芳香族法化水素を含んで
いてもよい飽和脂肪族法化水素および/または飽和脂環
式次化水素からなる溶媒中、ロジウム原子換算で0.0
1〜0.5ミリグラム原子/lの濃度の周期表第V族の
元素を含有する配位子によシ変性されていないロジウム
化合物の存在下、60〜150℃の温度範囲内で80〜
300絶対気圧の圧力下において水素および一酸化炭素
によジヒドロホルミル化し、ついで得られる反応混合液
を水素および一酸化炭素の混合ガス算囲気下に水で抽出
することによって2−ヒドロキV−4−メチルテトフヒ
ドロビランを水層中におけるその濃度が2七ル/l以下
になる。ように水層に抽出分離するとともに、ロジウム
化合物を含有する抽残液をヒドロホルミル化反応域に循
環することを特徴とする2−ヒドロキシ−4−メチルテ
トラヒドロピランの製造法に関する。
2−ヒドロキシ−4−メチルテトラヒドロピランはポリ
ウレタン、ポリエステルなどの製造原料−t’6ルβ−
メチル−δ−バレロラクトンまたは3−メチルペンタン
−1,5−ジオールの前駆体として有用な化合物でおる
。従来、2−ヒドロキシ−4−メチルテトラヒドロピラ
ンの製造方法として、3−メチIV−3−ブテンー1−
オールを有機第三級ホスフィンによシ変性されたロジウ
ムカルボニル錯化合物の存在下にヒドロホルミル化し、
生成した2−ヒドロキシ−4−メチルテトラヒドロピラ
ンを反応混合液よシ蒸留分離し、その際に得らレルロジ
ウムカルボニμ錯化合物を含有する残留物をヒドロホル
ミル化反応のために再使用する方法が提案されている(
特公昭5B−40533号公報参照)。しかしながら、
ロジウムカルボニル錯化合物はこれを安定化する有機第
三級ホスフィンが共存していても熱的に比較的不安定で
あシ、沸点の高い2−ヒドロキシ−4−メチ/l/テト
ラヒドロピランを反応混合液から蒸留操作によって分離
する場合には、該反応混合液中のロジウムカルボニル錯
化合物の一部が熱的に変質しく特公昭57−25012
号公報参照)、また高沸点を有する副生成物の残留物へ
の蓄積によって該ロジウムカルボニル錯化合物の触媒活
性が低下する。従って、この方法は、高価なロジウムカ
ルボニル錯化合物を長期にわたって触媒として安定に循
環、再使用することが極めて困難であ夛、工業的に採用
し難い。
一方、する種のオレフィン性化合物のヒドロホルミル化
反応混合液から反応生成物と触媒成分とを抽出法によっ
て分離する方法も提案されている。
例えば、アリルアルコ−/l/または酢酸ビニルをロジ
ウム錯化合物およびロジウム原子に対して過剰量の有機
第三級ホスフィンの存在下にヒドロホルミル化した後、
反応混合液よシ反応生成物を水で抽出分離する方法(特
公昭53−19563号公報および特開昭56−122
330号公報参照)は、蒸留分離法に比較して生成物の
熱分解を避けうろこと、触媒成分の変質および触媒活性
低下を防止できることなどの利点を有しているが、抽出
操作時におけるロジウム錯化合物の抽出水層への溶出を
抑制するためには、ロジウム錯化合物中のロジウム原子
に対して100〜300モル倍もの大過剰の有機第三級
ホスフィンを共存させることが必須である(特公昭57
−25016号公報参照)。
また、3−メチル−3−ブテン−1−オールのようなビ
ニリデン骨格を有するオレフィン性化合物のヒドロホル
ミル 級ホスフィンによシ変性されたロジウムカルボニル錯化
合物を触媒として使用すると反応速度が著しく遅く(後
述の比較例1参照)、それを補うたメ多量のロジウムカ
ルボニル錯化合物が必要とされる。その結果、この反応
混合液から反応生成物を水抽出によって分離すると多量
のロジウムカルボニル錯化合物の抽出水層への溶出を伴
うことと ・なる。
有[g三級ホヌフインなどの周期表第V族の元素を含有
する配位子によシ変性されていないロジウム化合物の存
在下における3−メチ/l/−3−ブテン−1−オール
のヒドロホルミル化反応についてはこれまで具体的な報
告はなされていないが、本発明者らの研究によれば、周
期表第V族の元素を含有する配位子によシ変性されてい
ないロジウム化合物を触媒として使用し無溶媒下に3−
メチル−3−ブテン−1−オールのヒドロホルミル化を
行った場合には、後述の比較例2に示すように、工業的
に満足しうる反応速度が実現される反面、2−ヒドロキ
シ−4−メチルテトラヒドロピランの選択率は著しく低
く、しかも分離困難な多種類のアセタール化生成物が副
生ずることが判った。
本発明者らは上記の問題点を解決して2−ヒドロキシ−
4−メチルテトラヒドロピランを工業的に有利に製造し
うる方法を開発すべく鋭意研究を重ねた結果、3−メチ
ル−3−ブテン−1−オールを特定の灰化水素系溶媒中
、低濃度の周期表第■族の元素によシ変性されていない
ロジウム化合物の存在下、特定の条件下でヒドロホルミ
ル化することによって速い反応速度かつ高い選択率で2
−ヒドロキシ−4−メチルテトラヒドロピランが得られ
ることのみならず、得られる反応混合液を水素および一
酸化次素の混合ガフ雰囲気下に水で抽出することによっ
て生成した2−ヒドロキシ−4−メチルテトラヒドロピ
ランを効果的に分離できるとともに、触媒として使用し
たロジウム化合物を実質゛的に損失することなくかつ触
媒活性をほとんど低下させることなく抽残液中に回収す
ることができること、さらにロジウム化合物を含有する
抽残液はそのままヒドロホルミルイン反応に循環、再使
用できること、また上記の抽出水溶液から水に実質的に
溶解しない特定の有機溶媒によシ2−ヒドロキシー4−
メチpテトフヒドロピランが効果的に抽出分離できるこ
とを見い出し、本発明を完成するに至った。
本発明においてはヒドロホルミル化反応の反応溶媒とし
て35重量%以下の芳香族法化水素を含んでいてもよい
飽和脂肪数次化水素および/または飽和脂環式炭化水素
を用いることができる。飽和脂肪数次化水素および/ま
たは飽和脂環式次化水素と芳香族戻化水素との混合溶媒
を用いる場合、芳香族法化水素の割合が全反応溶媒中3
5重量%を越えると反応後の抽出工程における抽出界面
の分離性が悪く抽出率も低下する。使用しうる飽和脂肪
族法化水素の代表例としてペンタン、ヘキサン、ヘプタ
ン、オクタン、ノナン、デカンなどが挙げられ、また、
飽和脂環式次化水素の代表例としてシクロヘキサン、メ
チルシクロヘキサン、シクロオクタンなどが、芳香族法
化水素の代表例としてベンゼン、トルエン、キンレン、
エチルベンゼンなどがそれぞれ挙げられる。
本発明におけるロジウム化合物としてはヒドロホルミル
化触媒能を有するかまたはヒドロホルミル化反応系内で
触媒能を有するように変化する化合物であって、周期表
第■族の元素を含有する配位子によシ変性されていない
ロジウム化合物であれば任意のものを使用することがで
きる。周期表第■族の元素は窒氷、リン、ヒ素、アンチ
モンなどであ夛、かかる元素を含有する配位子としては
トリフェニルホスフィン、トリブチルホスフィンf!:
、トf)有機第三級ホスフィン;トリフェニルホスファ
イト、トリグチルホスファイトなどの有機第三級ホスフ
ァイト;トリフェニルアルシン、トリオクチルアルシン
などの有機第三級アルシン;およびトリフエニ〜スチμ
ビンなどの有機第三級メチルピンなどが例示される。本
発明において用いられるロジウム化合物の代表例として
は、塩化ロジウム;酢酸ロジウム、プロピオン酸ロジウ
ムなどの有機カルボン酸ロジウム; Rh4(Co)+
z 、)tJis(Co)xs、(Rh(Co)2c6
 〕xなどのロジウムカルボニル化合物;およびビスシ
クロペンタジェニルロジウムクロリド、ビスシクロオク
タジェニルロジウムクロリドなどを挙げることができ、
この中でも特にロジウムカルボニル化合物、ビスシクロ
ペンタジェニルロジウムクロリド、ビスシクロオクタジ
ェニルロジウムクロリドなどが好ましく用いられる。本
発明において反応混合液中でのロジウム化合物の濃度は
ロジウム原子換算で0.01〜0.5ミリグラム原子/
lとなるよう調整することが必要であシ、好ましくは0
.02〜0.2ミリグラム原子/11の範囲である。か
かる濃度が0.01ミリグラム原子/1未満の場合には
ヒドロホルミル 0、5ミリグラム原子/lを越える場合には反応混合液
の抽出工程において抽出水層中へのロジウム化合物の溶
出量が多くなるため工業的に不利である。
本発明におけるヒドロホルミル化の反応温度は60〜1
50℃の範囲から選ばれる。反応温度が60℃未満の場
合には反応速度が遅くなシ、反応温度が150℃を越え
る場合にはロジウム化合物および生成物である2−ヒド
ロキシ−4−メチルテトラヒドロピランの安定性を維持
することが困難となる。反応圧力としては80〜300
絶対気圧の範囲内の圧力が用いられる。反応圧力が80
絶対気圧未満の場合には副生成物である3−メチル−2
−ブテン−1−オールおよびイソバレルアルデヒドの生
成割合が多くなシ、その結果ヒドロホルミル化生成物で
ある2−ヒドロキシ−4−メチルテトラヒドロピランの
収率が低下し、かつロジウム化合物の安定性が低下する
傾向がみられる。反応圧力が300絶対気圧を越える場
合には設備費、運転費などの面で工業的に採用すること
が困難である。原料ガスである水素ガスおよび一酸化炭
素ガスの比率は反応器への入シガスの水素/−一酸化炭
素モル比として約3/1〜IAの範囲にあることが好ま
しい。なお、反応系中にヒドロホルミル化反応に対して
不活性なガヌ、例えばメタン、エタン、プロパン、窒素
、ヘリウム、アルゴン、次酸ガスなどが共存しても何ら
差しつかえない。
本発明におけるヒドロホルミル化反応は攪拌式反応槽中
または気泡式反応槽中で回分法または連続法によシ行わ
れる。原料である3−メチ/l/−3−プテンー1−オ
ールの転化率がほぼ100%近くなるように反応を追い
込むこともできるし、転化率がそれ以下になるように反
応させてもよいが、ヒドロホルミル化反応後の反応混合
液中の2−ヒドロキシ−4−メチルテトラヒドロピラン
の濃度が約0.5〜5モiv / lとなるように反応
溶媒の使用量、3−メチ/l/−3−ブテン−1−オー
ルの供給速度および反応器中における反応混合液の滞留
時間を設定することが好ましい。
ヒドロホルミル化反応後の反応混合液を水で抽出する゛
ことによって、反応混合液から生成物である2−ヒドロ
キシ−4−メチルテトラヒドロピランを抽出分離するこ
とができる。かかる抽出操作において反応混合液に加え
られる水の量は抽出後の水層中の2−ヒドロキシ−4−
メチルテトラヒドロピランの濃度が2モIV/l以下と
なるように調整することが必要であシ、さらには0.5
〜1.5モル/1となるように調整することが好ましい
この条件を満足する水の容量は抽出に供する反応混合液
中の2−ヒドロキシ−4−メチルテトラヒドロピランの
濃度などによって若干変化す、るが、通常、抽出に供す
る反応混合液に対して約0.5〜3倍の範囲内にある。
抽出水層中の2−ヒドロキシ−4−メチルテトラヒドロ
ピランの濃度を高くすると、ロジウム化合物の水層中へ
の溶出量が多くなる。抽出操作は、反応混合液中のロジ
ウム化合物の析出を防止するため水素および一酸化炭素
の混合ガス雰囲気下に行うことが必須である。水素およ
び一酸化炭素の混合ガスとしては、ヒドロホルミル化反
応に用いる原料ガスと同様の組成を有するものを使用し
てもよく、水素ガスおよび一酸化炭素の比率は水素/−
一酸化炭素モル比として約1/3〜3/1の範囲にある
ことが好ましい。抽出操作の温度は約O〜50℃の範囲
が好ましく、約10〜30℃の範囲がさらに好ましい。
圧力は約1〜300絶対気圧の範囲が好ましく、約2〜
100絶対気圧の範囲がさらに好ましい。抽出装置とし
ては一般的に汎用な攪拌型抽出塔(ミキサーセトラー、
回転円板抽出塔など)および棚段型抽出塔(多孔板塔な
ど)などが使用される。本発明においては、抽出後のロ
ジウム化合物を含有する抽残液はヒドロホルミル化反応
域に循環し再使用される。なお、ヒドロホルミル化反応
後の反応混合液の一部または抽残液の一部を必要に応じ
て別途取シ出し、これに触媒賦活などの処理を施すこと
もできる。取シ出した反応混合液または抽残液中から水
素および一酸化炭素ガスを放出すれば、液中のロジウム
化合物はロジウム金属またはその酸化物として析出する
。液中のロジウム化合物はこの性質を利用して公知の方
法によυ液中よシ容易に分離回収でき、回収されたロジ
ウム金属またはその酸化物は公知の方法によシ精製また
は前述のロジウム化合物への変換などの処理を施した後
、ヒドロホルミル化反応のために再使用することができ
る。
上記の抽出操作によって得られた2−ヒドロキシ−4−
メチルテトラヒドロピランを含有する抽出水溶液からは
蒸留法または後述する抽出法などの分離方法によって2
−ヒドロキシ−4−メチルテトラヒドロピランを分離す
ることができる。また、例えば2−ヒドロキシ−4−メ
チルテトラヒドロピランを水素化して3−メチルペンタ
ン−1,5−ジオールを製造する場合には、2−ヒドロ
キV−4−メチルテトフヒドロピランを含有する抽出水
溶液をそのまま水素化反応に供することもできる。
2−ヒドロキシ−4−メチルテトラヒドロピランを含有
する抽出水溶液を特定の有機溶媒で再抽出することによ
シ、2−ヒドロキシ−4−メチルテトラヒドロピランを
効率的に分離することができる。かかる有機溶媒は実質
的に水に溶解しないものであシ、酢酸イソプロピμ、酢
酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソアミル、グロピオ
ン酸メチルなどのエヌテ/l/;メチルイソブチルケト
ン、ジブチルケトンなどのケトン;ベンゼン、トルエン
などの芳香族炭化水素;および3−メチル−3−ブテン
−1−オールから選ばれ、これらは単独でまたは二種以
上の混合物で使用される。抽出に使用する有機溶媒の容
量は2−ヒドロキシ−4−メチルテトラヒドロピランを
含有する水溶液の容量に対して通常、約0.2〜3倍の
範囲内である。
有機溶媒の使用量が水溶液の容量に対して約0.2倍よ
りも少ない場合には、抽残水溶液中に残存する2−ヒド
ロキシ−4−メチルテトラヒドロピランの量が多く良好
に抽出分離を行うことができないことがある。有機溶媒
の使用量が多いほど水溶液から有機溶媒への2−ヒドロ
キシ−4−メチルテトラヒドロピランの移行量が増加す
る傾向があるが、有機溶媒の使用量が水溶液の容量に対
して約3倍よシも多くなると、もはやそれ以上、有機溶
媒の使用量を増しても2−ヒドロキシ−4−メチルテト
ラヒドロピランの有機溶媒への移行量が増加しなくな)
不必要に多い有機溶媒を使用するだけの結果に終る。抽
出温度は特に制限されないが好ましくは常〜、0゜℃の
範囲内である。抽出操作の算囲気はヒドロホルミル化反
応に悪影響を及はさない限りにおいて特に限定されない
が、水素および一酸化次素の混合ガスまたはヒドロホル
ミル化反応に対して不活性なガス、例えばメタン、エタ
ン、プロパン、窒素、ヘリウム、アルゴン、択酸ガスな
どの算囲気下に抽出操作を行うことが好ましく、さらに
好ましくは水素および一酸化次素の混合ガヌ算囲気であ
る。また抽出操作の圧力は通常の抽出操作において使用
される圧力が適用でき、一般的には常圧付近である。
再抽出によって得られた有機層に蒸留操作などの分離操
作を施すことによって2−ヒドロキシ−4−メチルテト
ラヒドロピランを分離取得することができる。有機溶液
からの2−とドロ゛キシー4−メチルテトラヒドロピヲ
ンの蒸留分離は水溶液からの2−ヒドロキシ−4−メチ
ルテトラヒドロピランの蒸留分離に比べて必要とされる
熱量−1,E少ないため、工業的に有利である。なお、
再抽出によシ得られた。抽残水溶液中に少量の2−ヒド
ロキシ−4−メチルテトラヒドロピランが溶解し残存し
ている場合があるので、抽残水溶液は前述のヒドロホル
ミル化反応混合液の水抽出域に循環し再使用することが
好ましい。
本発明によシ得られる2−ヒドロキシ−4−メチルテト
ラヒドロピランは、銅クロム酸化物などの酸化脱水素触
媒の存在下に脱水素反応させることによって容易にβ−
メチル−δ−ノくレロラクトンに変換することができる
。また、2−ヒドロキシ−4−メチルテトラヒドロピラ
ンはラネーニッケル1ニツケμmケイソウ土、銅クロム
酸化物などの水素化触媒および水素の存在下に水素化す
ることによって、容易に3−メチルペンタン−1,5−
ジオールに変換することができる・ 以下、本発明を実施例によシ具体的に説明するが、本発
明はこれらの実施例に限定されるものではない。
実施例1 温度計、電磁撹拌装置、ガス吹込み口、ガス排出口、保
牟弁および内液を圧送できるようにしたパイプで結ばれ
た電磁攪拌装置付きの内容21!アガラス製オートクレ
ーブを備えた内容1/のステンレス製オートクレーブに
、ヘキサン500 n+/および0.0125ミリモル
/lの抑a(CO)+□(ロジウム原子換算で0.05
0ミリグラム原子/lりを仕込み、ステンレス製オート
クレーブ内の雰囲気を水素および一酸化炭素の混合ガス
(モル比1/1)で充分置換した後、この混合ガスでス
テンレス製オートクレーブ内の圧力を150絶対気圧に
保ちなから内温か100℃の一定温度になるまで攪拌下
に加熱した。しかる後、定速フィードポンプより3−メ
チ/l/−3−ブテン−1−オー/L/75gをステン
レス製オートクレーブ中に30分かけて連続的に供給し
た。反応中、オートクレーブ内の圧力が常に150絶対
気圧に保たれるようにオートクレーブ中に水素および一
酸化炭素の混合ガスを供給し、オートクレーブからの出
ガス流速を約51!/hrとなるように調整した。3−
メチ1v−3−ブテン−1−オールの供給が終了した後
もとの条件下でさらに2時間攪拌下に反応を続けた。合
計で2.5時間反応した後、撹拌を停止し、オートクレ
ーブ内の温度を室温付近まで急冷した。しかる後、オー
トクレーブ内の圧力を2許旋圧まで放圧し、サンプル採
取口よシ微量の反応混合液を取り出し、これをガスクロ
マトグラフィーにより分析した結果、未反応の3−メチ
)v−3−ブテン−1−オールの残存量は1.5f(3
−メチ)V−3−ブテン−1’−オールのi換率98%
)であシ、2−ヒドロキシ−4−メチルテトラヒドロピ
ランの生成量は84g(選択率85%)であった。
ステンレス製オートクレーブに連結された電磁攪拌装置
付きの内容21!のガラス製オートクレーブ中の雰囲気
を水素および一酸化炭素の混合ガス(モル比1/1)で
置換し、内部に水500ml を仕込んだ後、上記の反
応混合液をステンレス製オートクレーブからガラス製オ
ートクレーブ中に圧送した。圧送し終った時点で、系内
を混合ガス雰囲気下、5絶対気圧に保ち、この状態で2
0分間攪拌して抽出操作を行った。抽出温度は30℃で
あった。撹拌を停止すると直ちに2層に分離したが、さ
らに10分間静置した後、下層の水層のみを内圧を利用
して系外に抜き出した。かがる抽出水層をガスクロマト
グラフィーにより分析したところ、生成した2−ヒドロ
キシ−4−メチルテトラヒドロピランの70%が水層側
に抽出されていることが判った。
ガラス製オートクレーブ中の抽残層を再びステンレス製
オートクレーブ中に圧送し、前記と同一の条件および操
作方法によシ3−メチIV−3−ブテンー1−オールの
ヒドロホルミル た。このようにして3−メチル−3−ブテン−1−オー
ルのヒドロホルミル化反応および抽出を合計5回縁シ返
した。なお、繰シ返しの際に新たにロジウム化合物また
はへキサンを追加することはなかった。
2回目、3回目、4回目および5回目の3−メチ/l’
ー3ーブテンー1ーオールのヒドロホルミル化反応にお
いて、変換率はそれぞれ98%、97%、97%および
98%であシ、また2−ヒドロキシ−4−メチルテトラ
ヒドロピランへの選択率はいずれも85%であった。各
回の抽出において、抽出水層中の2−ヒドロキシ−4−
メチルテトラヒドロピランの濃度は1. 0−1. 3
モル//の範囲内であシ、2回目以降の抽出における抽
出水層中へのロジウム化合物の溶出量は原子吸光分析の
結果、ロジウム原子換算でわずかに0.03〜0.05
ppmの範囲であった。
実施例2 オートクレーブ中にシクロヘキサン500mlおよび0
.025 ミリ−E: IV/ /の(@ー08H,2
RhO/ )2を仕込み、反応圧力を200絶対気圧、
反応温度を120℃とし、3−メチル−3−ブテン−1
−オール供給後の反応時間を1時間(反応時間は合計1
.5時間)とする以外は実施例1と同様にしてヒドロホ
ルミル化反応および抽出を5回線シ返した。反応終了後
の反応混合液をガスクロマトグラフィーにより分析した
結果、3−メチ/l/−3−ブテン−1−オーμの変換
率は98〜99%の範囲であシ、2−ヒドロキシー4−
メチルテトラヒドロピランへの選択率はいずれも84%
であった。2回目以降の抽出操作において抽出水層中で
の2−ヒドロキシ−4−メチルテトラヒドロピランの濃
度は1.0〜1.3モl/1の範囲であり、水層中への
2−ヒドロキシ−4−メチルテトラヒドロビランの抽出
率は平均して70%であった。また、抽出水層中へのロ
ジウム化合物の溶出量はロジウム原子換算でわずかに0
.05〜o、osppmの範囲であった。
実施例3 オートクレーブ中にヘキサン400m1!、ト/L’エ
ン100m1!および0.025ミリモlLz / l
のRh4(CO)、2を仕込み、反応温度を90℃とし
、30oml!の水で抽出する以外は実施例1と同様に
してヒドロホルミル化反応および抽出を5回縁シ返した
。反応終了後の反応混合液をガスクロマトグラフィーに
よシ分析した結果、3−メチル−3−ブテン−1−オー
ルの変換率は94〜95%の範囲であシ、2−ヒドロキ
シ−4−メチルテトラヒドロピランへの選択率はいずれ
も85%であった。2回目以降の抽出操作において抽出
水層中での2−ヒドロキシ−4−メチルテトラヒドロピ
ランの濃度は1.3〜1.9モyv/lの範囲であシ、
水層中への2−ヒドロキシ−4−メチルテトラヒドロピ
ランの抽出率は平均して42%であった。また、抽出水
層中へのロジウム化合物の溶出量はロジウム原子換算で
わずかに0.07〜0.15 ppmの範囲であった。
比較例1 トリフェニルホスフィン0.565 p (2.5ミリ
モ)v)を添加する以外は実施例1と同様な方法によジ
ヒドロホルミル化反応を行った(反応時間は合計2、5
時間)。反応終了後、反応混合液をガスクロマトグラフ
ィーによシ分析した結果、3−メチル−3−ブテン−1
ーオーμの変換率はわずか24%であシ、2−ヒドロキ
シ−4−メチルテトラヒドロピランへの選択率は86%
であった。
比較例2 温度計、攪拌装置およびガス出入口を備えた内容11の
オートクレーブにRh4(Co)、23.4mfl、3
−メチル−3−ブテン−1−オー)v430fを水素お
よび一酸化炭素の混合ガス(モル比1/1)雰囲気下に
仕込み、同じガスを用いてオートクレーブ内を200絶
対気圧の加圧下に維持した。攪拌下にオートクレーブの
内温を30分かけて100℃に昇温した後、撹拌下にこ
の温度および圧力を維持しながら5時間反応させた。反
応終了後、攪拌を止め冷却して反応混合液を取り出し、
これをガスクロマトグラフィーによシ分析した結果、3
−メチル−3−ブテン−1−オールの変換率ハ9 3%
であシ、2−ヒドロキシ−4−メチルテトラヒドロピラ
ンへの選択率は37%でアシ、他に分離困難な多種類の
アセター)v化生酸物が生成していた。
実施例4 実施例1と同様にして1回めのヒドロホルミル化反応お
よび水抽出を行ったところ、ヒドロホルミル化反応にお
ける3−メチIVー3ーブテンー1ーオールの変換率は
98%、2−ヒドロキシ−4−メチルテトラヒドロピラ
ンへの選択率は85%であり、水抽出における抽出水層
の2−ヒドロキシ−4−メチルテトラヒドロピランの濃
度は0.91モA//l、水層中に溶出したロジウム化
合物の濃度はわずかロジウム原子換算で0.05=”に
)1ppmであった。この水溶液を攪拌装置付の内容2
1!のフラスコに移し、酢酸イソプロピル5 0 0 
F711!を用いて10分間撹拌下に混合した。これを
静置した後、上層の酢酸イソプロピル溶液をガスクロマ
トグラフィーにより分析した結果、酢酸イソプロピル溶
液中の2−ヒドロキシ−4−メチルテトラヒドロピラン
の濃度は0.71モ/L/ / lであった。
実施例5〜7 再抽出における有機溶媒として酢酸イソプロピルの代9
に第1表に示す有機溶媒を用いる他は実施例4と同様に
してヒドロホルミル 出および再抽出を行った。再抽出後の有核溶媒層中の2
−ヒドロキシ−4−メチルテトラヒドロピランの濃度を
第1表に示す。
第 1 表 注 :(すIliMP:2−ヒドロキシ−4−メチルテ
トラヒドロピラン実施例8 実施例1と同様にして1回目のヒドロホルミル化反応お
よび水抽出を行った。反応終了後、反応混合液をガスク
ロマトグラフィーによシ分析した結果、3−メチル−3
−ブテン−1−オールの変換率は98%であシ、2−ヒ
ドロキシ−4−メチルテトラヒドロピランへの選択率は
85%であった。
上記の水抽出用の内容2/のガラス製オートクレーブに
内容2/の三つロフラスコを連結し、フラスコ中の算囲
気を窒素で置換し、フラスコ内に酢酸イソブチtvso
omtを仕込んだ後、水抽出で得゛られた抽出水溶液を
ガラス製オートクレーブからフラスコ中に圧送した。ガ
ラス製オートクレーブ中の抽残層をステンレス製オート
クレーブ中に圧送し、同一の条件および操作方法によシ
3−メチ1v−3−ブテンー1−オールのヒドロホルミ
ル化反応を行った。この間にフラスコ中、30℃におい
て酢酸イソブチルと前述の抽出水溶液とを10分間撹拌
下に混合し、10分間静置した後、下層の水溶液をガラ
ス製オートクレーブ中に圧送し、上層の酢酸イソブチル
溶液をフラスコ中より糸外に抜き出した。かかる酢酸イ
ソブチル溶液をガスクロマトグラフィーによシ分析した
結果、1回目のヒドロホルミル化反応によって生成した
2−ヒドロキシ−4−メチルテトラヒドロピランの53
%が酢酸イソブチル溶液として系外に取り出されたこと
が判明した。
このような方法によシ、ヒドロホルミル化反応、水抽出
および酢酸イソグチル抽出からなる一連の操作を合計5
回繰り返した。ヒドロホルミル化反応において3−メチ
/l/−3−ブテン−1−オールの変換率は97〜98
%であシ、2−ヒドロキシ−4−メチルテトラヒドロピ
ランへの選択率はいずれも85%であった。2回目、3
回目、4回目および5回目の酢酸イソブチル抽出により
酢酸イソブチル溶液として取シ出された2−ヒドロキシ
−4−メチルテトラヒドロピランの量は0.58モル、
0.66モル、0.71モルおよび0.74モルであっ
た。
特許出願人 株式会社 り ラ し 代理人弁理士本多 堅

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、 3−メチル−3−ブテン−1−オールを、35重
    量%以下の芳香族法化水素を含んでいてもよい飽和脂肪
    族炭化水素および/または飽和脂環式炭化水素からなる
    溶媒中、ロジウム原子換算で0.01〜0.5ミリグラ
    ム原子/4の濃度の周期表第■族の元素を含有する配位
    子によシ変性されていないロジウム化合物の存在下、6
    0〜150℃の温度範囲内で80〜300絶対気圧の圧
    力下において水素および一酸化次素によジヒドロホルミ
    ル化し、ついで得られるヒドロホルミル化反応混合液を
    水素および一酸化度素の混合ガス算囲気下に水で抽出す
    ることによって2−ヒドロキシ−4−メチルテトラヒド
    ロピランを水層中におけるその濃度が2モ/L’/J以
    下になるように水層に抽出分離するとともに、ロジウム
    化合物を含有する抽残液をヒドロホルミル化反応域に循
    環することを特徴とする2−ヒドロキシ−4−メチルテ
    トラヒドロピランの製造法。 2、ヒドロホルミル化反応混合液を水抽出することによ
    シ得られる抽出水溶液を水に実質的に溶解しないエステ
    ル、ケトン、芳香族法化水素および3−メチ1v−3−
    ブテン−1−オールからなる群よシ選ばれる少なくとも
    一種以上の有機溶媒で抽出することによって2−ヒドロ
    キシ−4−メチルテトラヒドロピランを有機層に抽出分
    離し、抽残水溶液を前段の水抽出域に循環する特許請求
    の範囲第1項記載の方法。
JP59062448A 1984-03-14 1984-03-29 2−ヒドロキシ−4−メチルテトラヒドロピランの製造法 Granted JPS60204778A (ja)

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US07/013,535 US4861922A (en) 1984-03-14 1987-02-11 Hydroformylation of 3-methyl-3-buten-1-ol and analogs thereof and use of such hydroformylation products

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