JPS60197667A - ６―ケト―プロスタグランジン類似化合物及びその製造方法 - Google Patents

６―ケト―プロスタグランジン類似化合物及びその製造方法

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JPS60197667A
JPS60197667A JP59051058A JP5105884A JPS60197667A JP S60197667 A JPS60197667 A JP S60197667A JP 59051058 A JP59051058 A JP 59051058A JP 5105884 A JP5105884 A JP 5105884A JP S60197667 A JPS60197667 A JP S60197667A
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tetrahydropyran
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    • C07D307/937—Not further condensed cyclopenta [b] furans or hydrogenated cyclopenta [b] furans with hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals directly attached in position 2, e.g. prostacyclins
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
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    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は６−ケドープロスタグランジン類似化合物の中
間体及びその製造方法に関する。さらに詳しく言えば、
近年、プロスタグランジンの中でも薬理活性面で注目さ
れている６−ケ）−ＰＧＥ１．６−ケ）−ＰＧＦｌ（１
及びそれらの類似化合物を新規な製造方法罠より合成す
る上での重要な中間体及びその製造方法に関する。
６−ケドーＰＧＥ　及び６−ケドーＰＧＦＩＣ１はそれ
ぞれ式、 ＨＯ’ Ｏ 及び で示される構造を有する化合物であり、これら及びその
誘導体は選択的にプロスタグランジン特有の有効な薬理
活性を有し、特に血圧降下活性、血小板凝集抑制活性、
冑酸の分泌及び冑潰瘍抑制活性、子宮筋収縮を刺激する
活性及び堕胎、黄体退縮、卵着床阻害活性を有し、高血
圧の治療、末梢循環障害の治療、脳血栓症及び心筋梗塞
の予防と治療、冑潰瘍の治療、妊娠哨乳動物の堕胎及び
分娩誘発及び雌性咄乳動物の受精率の改善、発情調節、
避妊及び月経誘発に有用である（特開昭５４−４４６３
９号明細書及び特開昭５３−８４９４２号明細書参照の
こと。）。
また、式 で示される構造を有する化合物（２−デカルボキシ−２
−グリコロイル−６−ケドーＰＧＥ１）は、プロスタグ
ランジン特有の薬理作用は比較的弱いにもかかわらず細
胞保護作用が選択的に強く、かつ毒性が極めて少ないた
め非常に有効な細胞障害治療剤（細胞に起因するあらゆ
る器官及び組織の疾患に対する治療斉Ｊ）として用いる
ことができる（特開昭５８−２０３９６４号明細書参照
のこと。）。
このように６−ケドープロスタグランジン類似化合物（
６−ケドーＰＧＥ１．６−ケドーＰＧＦ１゜及びそれら
の類似化合物、以下６−ケ）−ＰＧｒと略記する。）は
、その誘導体の修飾部位によつて、よりいっそう選択特
異的な薬理活性を示し、今後の医薬品としての開発が太
いに期待される化合物である。従ってこの重要な化合物
である６−ケ）−ＰＧ、？−を容易に製造できる方法が
望まれるが、従来の製法は図式Ａに示すように、非常に
長い工程を必要としている（特開昭５４−４４６３９号
明細書参照のこと。）。
（図式中、ＴＨＰ　はテトラヒドロピラン−２−イル基
を表わす。） ６−ケ）−ＰＧＥ１の製造方法として、他にα−鎖を先
に導入する方法があるが、反応の順番が前後するだけで
内容については変わらないので、ここでは本発明による
新ルートとの比較を明確にするため、ω−鎖を先に導入
した出発物質についてのものを示した。
次に本発明の合成法による６−ケドーＰＧＥ　１の製造
方法を図式Ｂに示す。
図式　Ｂ 酎に　ＴＨＰ６１ ■に　薊 ＴＨＰＯＴＨＰＯ （図式中、すべての記号は前記と同じ意味を表わす。） 図式Ａと図式Ｂを比較すると、従来の製造方法（図式Ａ
）では６−ケ）−ＰＧＥ１に至るまで９工程をも要する
ところを、本発明の製法（図式Ｂ）では４工程で完了し
ており、しかもアシル化と脱炭酸という容易な反応で目
的物が得られている。
従って図式Ｂの製造方法によれば製造に要する時間の短
縮、収率の向上、それに伴う大幅なコストダウンがはか
られ、この製造方法は実用上極めて大きな意義を有する
ものである。
すなわち、本発明は、一般式 は水素原子、メチル基又はエチル基を表わし、Ｒ３は単
結合又は炭素数１〜５のアルキレン基を表わし、Ｒ４は
炭素数１〜８のアルキル基、又は置換されていないか少
なくとも１個の炭素数１〜８のアルキル基で置換されて
いる炭素数４〜７のシクロアルキル基、又は置換されて
いないか少なくとも１個のノ・ロゲン原子、トリフルオ
ロメチル基もしくは炭素数１〜４のアルキル基で置換さ
れているフェニル基又はフェノキシ基を表わし、Ｒ５は
酸性条件で容易に除去できる水酸基の保誰基な表わし、
Ｗｌは式−００ＯＲ”。
４（Ｒ’　）２．　ＣＨ２０Ｒ５又バーＧｉ（ＯＲ７）
（１（２０Ｒ５（式中、Ｒ１は水素原子又は炭素数１〜
１２のアルキル基を表わし、ふたつのＲ６はそれぞれ独
立して水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、フェニル
基又は炭素数７〜１２のアラルキル基を表わし、Ｒ７は
炭素数２〜１２のアシル基を表わし、Ｒ５は前記と同じ
意味を表わす。）で示される基を表わす。〕で示される
６−ケドーｐｃ、ｓ　の中間体に関する。
特許請求の範囲を含む本明細薔における各記号の説明に
おいて、アルキル基及びアルキレン基ということばは、
直鎖または分枝鎖のアルキル基及びアルキレン基を表わ
すものとする。
また前記の構造式もしくは本明細書中の他の構造式中に
おいて、点線（−−−−）はα−配置であることを示し
、太線（４）はβ−配置であることを示し波線（−）は
α−配置またはβ−配置またはそれらの混合物であるこ
とを示す。
一般式（１）中のＲ３が表わす炭素数１〜５のアルキレ
ン基としては、メチレン、エチレン、トリメチレン、テ
トラメチレン、はンタメチレン基及びそれらの異性体が
挙げられる。
一般式（■）中のＲ４が表わす炭素数１〜８のアルキル
基としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、はメ
チル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル基及びそれらの異
性体が挙げられる。
Ｒ４が表わす置換されていない炭素数４〜７のシクロア
ルキル基としては、シクロブチル、シクロインチル、シ
クロヘキシル、シクロヘプチル基が挙げられ、少なくと
も１個の炭素数１〜８のアルキル基で置換されている炭
素数４〜７のシクロアルキル基としては、上述の炭素数
４〜７のシクロアルキル基の１個以上の水素原子が前記
した炭素数１〜８のアルキル基で置換された基が挙げら
れる。
Ｒ４が表わすフェニル基又はフェノキシ基に置換されて
いるハロゲン原子としてはフッ素原子、塩素原子、臭素
原子、ヨウ素原子が挙げられ、また炭素数１〜４のアル
キル基としてはメチル、エチル、プロピル、ブチル基及
びそれらの異性体が挙げられる。好まし〜・−Ｒ３−Ｒ
４として、例えばルーヘンチル、１−メチルインテル、
２−メチルばメチル、３−メチルペンチル、４−メチル
ペンチル、１，１−ジメチルはメチル、１．２−ジメチ
ルシンチル、Ｘ、４−：）メチルにメチル、・　ｌ−エ
チルはメチル、２−エチルペンチル、１−７’ロピルは
メチル、２−プロピルペンチル、ルーヘキシル、■−メ
チルヘキシル、２−メチルヘキシル、１．１−ジメチル
ヘキシル、１−エチルヘキシル、２−エチルヘキシル、
ルーへブチル、２−エチルへブチル、ルーノニル、ルー
ウンデシル、シクロメチル。
（１−７’ロピル）シクロブチル、（１−ブチル）シク
ロブチル、（１−−？メチル）シクロブチル、（２−プ
ロピル）シクロブチル、（３−エチル）シクロブチル、
（３−７’ロピル）シクロブチル、シクロはメチル、１
−シクロインチルエチル、２−シクロペンチルエテル、
２−シクロペンチルプロピル、（２−エチル）シクロペ
ンチル、（２−ゾロピ／ｌ／）シクロインテル、（２−
７’チル）シクロブチル ロペンチル、（３−ブチル）シクロペンチル、（２−メ
チル−３−プロピル）シクロはメチル、シクロヘキシル
、（３−エチル）シクロヘキシル。
（４−メチル）−シクロヘキシル、（４−エチル）シク
ロヘキシル、（４−プロピル）シクロヘキシル、＜２．
６−インテル）シクロヘキシル、シクロヘキシルメチル
、（１−メチル）シクロヘキシルメチル、ｌ−シクロヘ
キシルエチル、２−シクロヘキシルエチル、（ｌ−メチ
ル−１−シクロヘキシル）エチル、■−シクロヘプチル
エチル、フェニル、ベンジル、α−フェニルエチル、β
−フェニルエチル、ｌ−フェニルはメチル、フェノキシ
メチル、（３−クロロフェノキシ）メチル、（４−クロ
ロフェノキシ）メチル、（３−トリフルオロメチルフェ
ノキシ）メチル基等があげられる。
一般式（Ｉ）中のＲ５が表わす酸性条件で容易に除去で
きる水酸基の保護基としては、テトラヒドロビラン−２
−イル基、テトラヒドロンラン−２−イル基、テトラヒ
ドロチオビラン−２−イル基のような複素環基又はｌ−
エトキシエチル基、ｌ−メトキシ−１−メチルエチル基
、１−メトキシシクロヘキシル基、１−メトキシ−１−
フェニルエチル基のようなエーテル基、トリメチルシリ
ル基、トリエチルシリル基、トリブチルシリル基、ｔａ
ｒｔ−プチルジメチルシリル基、トリベンジルシリル基
、−トリフェニルシリル基のような三置換シリル基及び
トリチル基が挙げられ、好ましい基としては、テトラヒ
ドロビラン−２−イル基、１−エトキシエチル基などが
挙げられる。
一般式（υ中のＷｌが表わす式−〇〇〇Ｒ１中のＲ１が
表わす炭素数１〜１２のアルキル基としては、メチル、
エチル、フロビル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプ
チル、オクチル、ノニル、テシル。
ウンデシル、ドデシル基及びそれらの異性体が挙げられ
、式−〇〇Ｎ　（Ｒ’　）　２　中のＲ６が表わす炭素
数１〜４のアルキル基としてはメチル、エチル、プロピ
ル、ブチル基及びそれらの異性体が挙げられ、炭素数７
〜１２のアラルキル基としては、ベンジル、１−フェニ
ルエチル、２−フェニルエチル、３−フェニルブチル、
４−フェニルブチル、１−（２−ナフチル）エチル、２
−（１−ナフチル）エチル基などが挙げられ、式−０Ｈ
（ＯＲ７）ＣＨ２０Ｒ５中のＲ７が表わす炭素数２〜１
２のアシル基としては、アセチル、クロロアセチル、ジ
クロロアセチル、トリクロロアセチル、トリフルオロア
セチル、プロピオニル、ブチリル、インブチリル、バレ
リル、はンゾイル、ナフチロイル基のよりなアシル基で
ある。
好ましいＲ１及びＲ６はそれぞれ水素原子又はメチル基
であり、また好ましいＲ７基はアセチル基の好ましい配
置はα−配置である。
本発明は一般式（りで示されしすべての化合物、すなわ
ち光学活性な「天然型」又はその鏡像体又はそれらの混
合物（特に「天然型」とその鏡像体との等葉温合物から
成るラセミ体）に関する。
当業者にとって明らかなように、一般式（１）で示され
る化合物は少な（とも６個の不斉中心を有しており、こ
れら６個の不斉中心は１位、４位、６位及び７位の炭素
原子と６位についている側鎖中のＯＲ５基が結合してい
る炭素原子である。更に種々の置換基が表わすアルキル
基またはアルキレン基が分枝鎖である場合、またＲ４が
表わすシクロアルキル基が置換シクロアルキル基である
場合には他の不斉中心が生じる可能性がある。よく知ら
れているように不斉中心の存在により異性体が生じる。
しかしながら一般式（ＩＪで示されろ化合物はすべてビ
シクロ環の１位、５位及び７位の炭素原子についている
置換基（この場合、１．５．６．７及び８位の炭素原子
より成るシクロはンタン環を基準にして考える。）がシ
スであるような配置をもち、１位、５位及び７位の炭素
原子についている置換基に対して６位の炭素原子につい
ている置換基がトランスであるような配置を有するすべ
ての異性体及びそれらの混合物が一般式（ＩＪで示され
る化合物の範囲に含まれる。
本発明に従えば、一般式（Ｉ）で示される化合物は一般
式 （式中、すべての記号は前記と同じ意味を表わす。）で
示される化合物の４位をアシル化することにより得られ
る。一般式（ＩＩ）で示される化合物の４位を選択的に
アシル化するためまず適当なリチウム化翫 同じでも異なってもよいが各々炭素数１〜６のアルキル
基、又は炭素数３〜６のシクロアルキル基を表わす。）
で示される化合物、好ましくはリチウムジイソプロ♂ル
アミド’（ＬＤＡ）を用いて一般式（Ｉｌｌで示される
化合物と、不活性有機溶媒、例えバドルエン、テトラヒ
ドロンラン、ヘキサン、ペンタン、エーテル、好ましく
はトルエン中、室温から一７８℃の温度、好ましくは一
７８℃〜−３０℃で反応させる。続いて１式ＨＯＯＣ−
（Ｏ）１２）　２−Ｚ−Ｗ’で示される酸の反応性誘導
体と、同温度で反応させることにより一般式（すで示さ
れる化合物が得られる。酸の反応性誘導体の例としては
、酸ハロゲン化物、酸無水物（Ｗｌ　が式−０００Ｈな
表わす場合、分子内酸無水物も含まれる。例えば−０Ｏ
ＯＲ１を表わしＲ１が水素原子を表わさない場合に限ら
れる。）、あるいはｔａｒｔ−ブチルクロロホルメート
などとの混合酸無水物などが挙げられ、好ましくは酸ハ
ロゲン化物のうち酸塩化物にして行なわれる。
一般式（現で示される出発物質については、過去に多く
の出願がなされている。例えば （Ａ）　Ｒ３−Ｒ’　が直鎖又は分枝鎖アルキル基を表
わす場合は特開昭４７−４２６７５．４８−５４０６８
．４８−６４０７３．４９−１１７４５１゜４９−１２
４０４８．５０−１０１３４０号のいずれかに記載され
た方法により得られ、特にＲ３Ｒ４がルーペンチル基を
表わす場合は、Ｊ。
Ａｍ、Ｇｈｅｍ、Ｓｏｃ、、　９２３９７（１９７０）
に記載された方法により得られ、 （Ｂ）　Ｒ３が単結合又は直鎖もしくは分枝鎖アルキレ
ン基を表わし、Ｒ４が置換されていないか又は置換され
ているシクロアルキル基を表わす場合は、特開昭４９−
１０９３５３．４９−１１７４５１．５０−１２３６４
７．５０−１４８３３９．５１−１２５２５６．５３−
２５５４４号のいずれかに記載された方法により得られ
、 （Ｃ）　Ｒ３が単結合又は直鎖もしくは分枝鎖アルキレ
ン基を表わし、Ｒ４が置換されていないか又は置換され
ているフェニル基を表わす場合は、特開昭４９−１１７
４５１号に記載された方法により得られ、 （Ｄ）　Ｒ３が単結合又は直鎖もしくは分枝鎖アルキレ
ン基を表わし、Ｒ４が置換されていないか又は置換され
ているフェノキシ基を表わす場合は、特開昭５１−１０
１９６１．５２−２５７４５号のいずれかに記載された
方法またはそれらの自明な類似方法により得られる。
また、アシル化の際に述べたカルボン酸の反応性誘導体
は市販されているか、もしくは公知の方法により製造さ
れる。
一般式（Ｉ）で示される化合物のビシクロ環の４位の不
斉炭素が示す配置は、Ｒ−配置又はＳ−配置又はそれら
の混合物であるが、次の脱炭酸反応により不斉でな（な
るので、最終目的物には何ら影響を及ぼさない。
本発明によって得られた式（１）で示される中間体は次
の図式Ｃで示される一連の反応工程により、後述の一般
式（至）で示される有用な６−ケ）　−ＰＧ、；に変換
される。
〔図式中、Ｗ２は式−０００Ｒ１，−ＣＨ２０Ｒ５゜−
ＣＯＮ（Ｒ’）２　又は−０Ｈ（ＯＨ）ＣＨ２０Ｒ５（
式中、Ｒ１は水素原子又は炭素数１〜１２のアルキル基
を表わり、、　Ｒ５は酸性条件で容易に除去できる水酸
基　゛の保護基を表わし、Ｒ６はそれぞれ独立して水素
原子、炭素数１〜４のアルキル基、フェニル基又は炭素
数７〜１２のアラルキル基を表わす。）で示される基を
表わし、Ｗ３は式−００ＯＲ”、　−０Ｈ２０Ｒ５，□
−（３ＯＮ（Ｒ’）２　又は−ＣＯＣＨ２０Ｒ５（式中
、すべての　：記号は前記と同じ意味を表わす。）で示
される基を表わし、Ｗ４は式−ＧＯＯＲ’、　−０Ｈ２
０Ｈ，−ＣＯＮ（Ｒ６）２又は−００ＣＨ２０Ｈ（式中
、すべての記号は前記と同じ　□わすとき、Ｗ４　は式
−ＣＯＣＨ２０Ｈを表わさないものとする。］ 図式Ｃに示される各反応は公知の方法により行なわれる
。各工程を簡単に説明すると、工程〔α〕は脱炭酸反応
であり、メタノール、エタノールのような低級アルカノ
ール及び水に、水酸化カリウム、水酸化ナトリウムのよ
うな塩基を加えて、室温から溶媒の還流温度で行なわれ
る。Ｗｌ　がエステルを表わす場合この反応によってフ
リーのカルボン酸に　ケン化されるが、精製を容易にす
るため所望によりジアゾメタンなどによりエステル化す
ることができる。工程〔ｂ〕は酸化反応であり、例えば （１１クロロホルム、塩化メチレン、四塩化炭素の如き
ハロゲン化炭化水素類又はトルエン中、０℃から一３０
℃の温度でジメチルスルフィド−Ｎ−クロロスクシンイ
ミド錯体、チオアニン−ルーＮ−クロロスクシンイミド
錯体、ジメチルスルフィド、塩素錯体あるいはチオアニ
ソール−塩素錯体を用いて反応させたのち、トリエチル
アミンで処理することにより行なわれる［Ｊ。
ｋｍａｒ、　Ｃｈａｍ、　Ｓｏｃ、、　９４．７５８６
　（１９７２）参照〕、又は （２）クロロホルム、塩化メチレン、四塩化炭素の如き
ハロゲン化炭化水素類中、室温から０℃の温度、好まし
くは０℃で三酸化クロム・ピリジン錯体（例えばコリン
ズ試薬）を用いて行なわれるか、又は （３）室温以下の温度でジョーンズ試薬を用いて行なわ
れるか、又は （４）クロロホルム、塩化メチレンのようなハロゲン化
水素中、シュウ酸クロライドとジメチルスルホキシド等
を用いて−５０〜−６０’Ｃで反応させ、〔スワン（Ｓ
ｗｇｒｎ）　酸化〕、次いでトリエチルアミンで処理す
ることにより行なわれる。
工程〔Ｃ〕は保膿基を除く反応であり、（１）酢酸、プ
ロピオン酸、シュウ酸、Ｐ−トルエンスルホン酸の如き
有機酸の水溶液又は塩酸、硫酸の如き無機酸の水溶液中
、好適には水と混和しうる有機溶媒、例えばメタノール
又はエタノールの如き低級アルカノール（好ましクハメ
タノール）又は１，２−ジメトキシエタン、ジオキサン
もしくはテトラヒドロフランの如きエーテル類（好まし
くはテトラヒドロフラン）存在下室温から７５℃の温度
（好ましくは４５℃以下の温度）で、又は （２）　メタノール又はエタノールの如き無水アルカノ
ール中Ｐ−）ルエンスルホン酸又はトリフルオロ酢酸の
如き有機酸存在下１０℃〜４５℃の温度で行なう緩和な
加水分解により水酸基に変換される。緩和な加水分解は
、好ましくは塩酸、水及びテトラヒドロフランの混合液
、塩酸、水及びメタノールの混合液、酢酸、水及びテト
ラヒドロフランの混合液又は７）−）ルエンスルホン酸
と無水メタノールの混合液を用いて行なわれる。
本発明の式（１）の中間体から６−ケ）　−ＰＣ，ｓ　
に至る前述の反応では、反応の進行とともにＷｌ　はＷ
４　まで変化するがその過程を表にまとめると以下のよ
うになる。
以下、参考例及び実施例により本発明を詳述す〜 るが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではな
い。なお参考例及び実施例中の「ＴＬＣ」、「ＮＭＲＪ
、ｒＩＲＪ　及び１１Ａ５」　は、各々「薄層クロマト
グラフィ」、「核磁気共鳴スペクトル」、「赤外吸収ス
はクトル」及び「質量分析」を表わす。クロマトグラフ
ィによる分離の箇所に記載されているカッコ内の溶媒は
使用した溶出溶媒または展開溶媒を示す。特別の記載が
ない場合には、Ｉ、Ｒは液膜法で測定し、ＮＭＲは重ク
ロロホルム（ＣＤＣ／　３）　溶液で測定している。
また、出発物質については公知物質である２−オキサ−
６−Ｊ′ｙｔ′Ｌ−ホルミル−７−ａｒＬｔｉ−（テト
ラヒドロピラン−２−イル）　−ｃｉｓ−ビシクロ［３
，３，０）オクタン−３−オン テイヒ反応で導入することによって得られる。これらの
反応については前記した特許公開公報（Ａ）〜（Ｄ）に
詳しく記載されているので、下記の例におい文はそれぞ
れの出発物質のデータのみを掲げることにする。
実施例１ （Ｅ）−２−オキサ−４Ｒ８−（５−メトキシカルボニ
ルバレリル）−６−ｚｙｎ−（３α−（テトラヒドロピ
ラン−２−イルオキシ）オクタ−１−エニル〕−７−ａ
ｎｔｉ　−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）　
−ｃｉｓ−ビシクロ［３，３゜０〕オクタン−３−オン アルゴン雰囲気下、ジイソプロピルアミン３．４ｍＡ’
を乾燥トルエン３０ｍＪに加え、０℃に冷却し、攪拌し
ながらループチルリチウム１４．５Ｒ１を加えた。
０℃で３０分間攪拌後、−７８℃に冷却し、乾燥トルエ
ン７９ｍ１にとかした（Ｅ）−２−オキサ−６−ｓｙｎ
　−（３α−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）
オクタ−１−エニル〕−７−αｎｔｉ　−（テトラヒド
ロピラン−２−イルオキシ）　−ｃｉｓ−ビシクロ（３
，３，０）オクタン−３−オン（出発物質）５．００，
９を約３０分間かけて滴下した。
−７８℃で３０分間攪拌後、乾燥トルエン１０ｄにとか
した５−メトキシカルボニルバレリルクロライド（０Ｈ
３０００（ＯＨ２）４Ｃｏｃｌ）　２．１５　Ｉ！を加
えた。
−７８℃で１時間攪拌後、反応混合液に水：テトラヒド
ロフラン＝Ｑ、５ｍ：５ｍＪの混合液を加え、室温に昇
温し減圧濃縮して、次の物性値を有する標題化合物６．
５ｇを得た。
ＴＬＣ（酢酸エチル：ルーヘキサン−２：１）：Ｒｆ−
０，４１； ＮＭＲ：δ−５，６〜５．２　（２Ｈ，ｍ　）、５．０
（ＩＨ，ｍ）、４．６２　（２Ｈ，ｂｓ）、４．２〜３
．２　（６Ｈ，ｍ　）、３．６５（ＩＨ，ｄ）、３．６
４（３Ｈ，、？）、０．８７（３Ｈ，Ａｔ）：工Ｒ：υ
＝１７６５．１７４０．１７２０．１６４０ｃｍ−七Ｍ
　Ｓ　：　７７１／Ｚ　−４９４，４７６，４６３，４
４５，３７４，３４８゜ 出発物質：（Ｅ）−２−オキサ−６−ｔｙｒＬ−（３α
−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）オクタ−１
−エニル）−７−ａｎｔｉ　−（テトラヒドロピラン−
２−イルオキシ）−ｃｉｓ−ビシクロ［３，３，Ｏ］オ
クタン−３−オンＴＬＯ（酢酸エチ＃：ｒＬ−ヘキサ／
＝１：２）：Ｒｆ−０，３８； ＮＭＲ：δ＝　５．６〜５．３　（２Ｈ，ｍ　）、５．
１〜４．８　（Ｉ　Ｈ，ｒｎ　）、４．８〜４．５　（
２Ｈ，ｒｎ　）、４．２〜３．２　（６Ｈ，ｍ　）、２
．８〜２．０　（６Ｈ，ｍ　）、２．０〜１．０　（２
０Ｈ，ｍ　）、０．８８（３ｉ（、ｔ）； 工Ｒニジ＝２９３０．２８７０，１７７５ｃｍ−１゜実
施例１と同様にして、次の（α）、＜ｂ＞、（Ｃ）、（
ｄ）及び（−）の化合物を得た。
実施例１（α） （Ｅ）−２−オキサ−４Ｒ３−（５−メトキシカルボニ
ルバレリル）−６−８ｙ１Ｌ−（３α−（テトラヒト９
０ビラン−２−イルオキシ）−５α−メチルノナ−１−
エニル〕−７−αｎｔｉ　−（テトラヒドロピラン−２
−イルオキシ）　−ｃｉｚ−ビシクロ−（３，３，０）
オクタン−３−オンＴＬＧ（酢酸エチル＝＝ルーヘキサ
ン＝１：２）：Ｒｆ−０，４７： ＮＭＲ：δ＝　５．６〜５．２　（２Ｈ，ｍ　）、５．
０（ＩＨ，ｙｘ）、４．６２　（２Ｈ，ｈｓ）、４．２
〜３．２　（６Ｈ，ｍ　）、３．６５（ｘＨｔ’）、３
．６４（３Ｈ，、ｔ）、０．８８（６Ｈ，ｍ）；ＩＲニ
ジ−１７６５，１７４０，１７２０，１６４０ｃｍ”；
　’ＭＳニア１１／Ｚ＝５２２．５０４．４９１．４２
０゜出発物質：　（Ｅ）　−２−オキサ−６−ｓｙｎ−
〔３ｃｌ−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）−
５α−メチルノナ−１−エニル）　−７−ａｎｔｉ−（
テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）−ｃｉｚ−ビシ
クロ（３，３，０’）オクタン−３＝オン ＴＬ（３（酢酸エチル：ルーヘキサン−１：　２　）　
：　Ｒｆ＝０．３７： ＮＭＲ：δ＝　５．６〜５．１　（２Ｈ，ｍ　）、５．
１〜４．８　（Ｉ　Ｈ，ｍ　）、４．８〜４．６　（２
Ｈ，ｍ　）、４．３〜４．０　（２Ｈ，ｍ　）、４．０
−３．７　（２Ｈ，ｍ　）、３．７〜３．３　（２Ｈ，
ｍ　）、２．９〜２．４　（３Ｈ，ｍ　）、２．４〜２
．０　（３Ｈ，ｍ　）、２．０〜１．０　（２１Ｈ，ｍ
　）、１．０〜０１８（６Ｈ，７７Ｌ）、工Ｒニジ＝２
９３０，１７７５ｃｍ　。
ＭＳニア７Ｌ／Ｚ＝３８０．３６３．３６２．２７８゜
実施例１（ｈ） （Ｅ、Ｅ）−２−オキサ−４Ｒ３−（５−メトキシカル
ボニルインター４−エノイル）　−５−５ｙｎ−〔３α
−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）−５α−メ
チルノナ−１−エニル〕−７−ａｎｔｉ　−（テトラヒ
ドロピラン−２−イルオキシ）　−Ｃ１ｒ−ビシクロ（
３，３，０）オクタン−３−オン ＴＬＣ（酢酸エチル：シクロヘキサン＝１：１）：Ｒｊ
＝ｏ、５４： ＮＭＲ：δ＝６．９４　（ＩＨ，ｍ）、５．８６　（１
１４，ｂｄ）、５．４〜５．６５　（１）１．　ｍ　）
、５．３（ＩＨ，ｍ）、５．０（ＩＨ，７７り、４．７
〜６．５５　（２Ｈ，ｍ　）、３．６２（３）（、、？
）、０．８９（６Ｈ，ｍ）；工Ｒニジ＝１７６２．１１
１８．１６５８．９７３ｃｒｎ−１；ＭＳニア７Ｌ／ｚ
＝５２０．５０２．４８９．４７１．４３６．４１８．
４００．３７４゜ 出発物質：実施例１（α）で用いたものと同じ化合物。
実施例１（Ｃ） （Ｅ）−２−オキサ−４Ｒ３−（５−メトキシカルボニ
ルバレリル）　−６−ｓｙｎ　−（３α−（テトラヒド
ロピラン−２−イルオキシ）−４−（３−クロロフェノ
キシ）フタ−１−エニル〕−７−αｒＬｔｉ　−（テト
ラヒドロピラン−２−イルオキシ）　−ｃｉｓ−ビシク
ロ［：３．３．０：］］オクタンー３−オ ＮＭＲ：δ＝　７．３〜６．６　（４Ｈ，ｍ　）、５．
６〜５．２　（２Ｈ，ｍ　）、５．０（ＩＨ，ｉ）、４
．６（４）１．ｍ）、４．２〜３．２（６Ｈ２７７り、
３．６ｓ（４Ｈ，ｄ）、３．６４（３Ｈ，ｍ）；工Ｒニ
ジ＝１７７０．１７４０．１７２０．１６４０．１５９
５．１５８０ｃｍ　。
ＭＳ：ｍ／ｚ−５６６，５６４，５４８，５４６，５３
５，５３３゜ 出発物質二〇−２−オキサー５−ｓｙルー〔３α−（テ
トラヒドロピラン−２−イルオキシ）−４−（３−クロ
ロフェノキシ）ブタ−１−エニル〕−７−αｎｔｉ　−
（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）　−ｃｉｓ−
ビラン０［３，３゜０〕オクタン−３−オン ＮＭＲ：δ＝７．３〜６．６　（４Ｂ、　ｍ　）、５．
６０（２Ｈ，ｙｘ）、４．９０（ＩＨ，ｍ）、４．６５
　（２Ｈ，ｍ　）、４．５〜３．３（６Ｈ，ｍ）； 工Ｒニジ＝１７７５．１５９５．１５８０ｃｒｎ’；Ｍ
Ｓ：ｍ／Ｚ＝５０８．５０６．４２４．２２２゜実施例
１（ｄ） 但）−２−オキサ−４Ｒ３−（５−メトキシカルボニル
バレリル）　−６−ｒｙｎ−［３α−（テトラヒドロピ
ラン−２−イルオキシ）−４８，６Ｓ−エタノデカ−１
−エニル〕−７−αｒＬｔｉ　−（テトラヒドロピラン
−２−イルオキシ）−ｃｉｓ−ビラン０（：３．３．０
）オクタ７−３−オニ／ＮＭＲ：δ＝５゜６〜５．２　
（２Ｈ，ｍ　）、４．９５（ＩＨ，７Ｆｌ）。
４．６２　（２Ｈ，ｂ、ｒ）、４．２〜３．２（６Ｈ，
ｙｘ）、３．６５（４Ｈ，、？）、　０．８８（３ｔ（
、ｂｔ）”。
工Ｒニジ−１７７０，１７４０，１７２ｏ、１６４０ｃ
ｍ−”：ＭＳ　：　ｔａ／Ｚ−り　４　ｓ、５３０，５
１７゜出発物質：（Ｅ）−２−オキサ−６−ｚｙｒＬ−
［３α−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）−４
８，６８−エタノデカ−１−エニル〕−７＋＋　（１ｒ
Ｌｔｔ　−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）−
Ｃ目−ビシクロ−〔３，３，０〕オクタン−３−オン ＴＬＣ（酢酸エチ＃：　ｎ−ヘキｔ７＝１　：　３　）
　：Ｒｆ＝Ｑ、２９； ＮＭＲ：δ＝４．６５　（２Ｈ，ｍ　）、４．０６（Ｉ
Ｈ，ｉ）、４．０〜３．６８（３８，７１Ｌ）、３，５
８〜３．２２（２Ｈ。
ｍ）、３．５　（２Ｈ，ｍ　）、２．９５（ＩＨ，ｍ）
、０．８８（３Ｈ，ｔ）； 工Ｒニジ＝２９４０．２８５０，１７７５．１４６０．
１４４０゜１４３５．１３８０．１３５０．１３２０．
１３１０．１２６０．１２００．１１８０．１１６０．
１１３ｏ、１０７５．１０３０，１０２０．９７５；Ｍ
Ｓ：ｎｃ／Ｚ＝４０６．３８８．３６５．３０４、２８
６．２８１．２２９．１９７．１７４．１２３゜実施例
１（ｔ） （Ｅ）−２−オキサ−４Ｒ８−［６Ｒ３−アセトキシ−
６（２，４−ジオキサ−３］メチルヘギシル）−ヘキサ
ノイル）　−６−ｔｙバルー３α−（テトラヒドロビラ
ン−２−イルオキシ）−４８，６Ｓ−エタノデカ−１−
エニル）−７−ａｎｔｉ−（テトラヒドロピラン−２−
イルオキシ）　−ｃｉｓ−ビシクロ〔３゜３．０〕オク
タン−３−オンＮＭＲ：δ＝　５．６〜５．２　（２Ｈ
，ｍ　）、５．００　（ＩＨ，ｍ）、４．６　（４Ｈ，
ｍ　）、４．２〜３．２　（１２Ｈ，ｍ　）、２．１０
＜３Ｈ，り、１．３２（３Ｈ，ｄ）、１．２１（３Ｈ，
ｄ）、０．８８（３Ｈ，ｂｔ）　； 工Ｒニジ＝１７６５．１７４０．１７２０．１６４０ｃ
ｍ　。
Ｍ　５　：　ｍ’／Ｚ　＝　６４４，５８４．５０００
出発物質：実施例　１（ｄ）で用いたものと同じ化合物
。
参考例１ （１３Ｅ）−（９α、１１α、１５Ｓ）−６−オキソ−
９−ヒドロキシ−１１，１５−ビス（テトラヒト９０ピ
ラン−２−イルオキシ）プロスト−１３−エン酸 実施例１で得られたジケトン体６．５ｇに、水：メタノ
ール＝１：１の混合液１００ｄ、５Ｍ水酸化カリウム水
溶液ｉｏｍ７！を加え、２時間還流した。
室温にもどし、反応混合液にシュウ酸水な加え、ｐＨ５
に調整した後、酢酸エチルで抽出し有機層を乾燥後、減
圧濃縮し次の物性値を有する標題化合物６．８ｇを得た
。
ＴＬＯ（酢酸エチル）　：　Ｒｆ＝０．３６゜実施例２
と同様にして次の化合物（α）、（ｈ）、（ｄ）及び（
−１を得た。
参考例１（α） （１３Ｋ）−（９α、１１α、１５８，１７８）−６−
オキソ−９−ヒドロキシ−１１，１５−ビス（テトラヒ
ドロピラン−２−イルオキシ）−１７，２０−９メチル
プロスト−１３−エン酸ＴＬ（３（酢酸エチル）：Ｒｆ
＝Ｏ１３３゜出発物質：　（Ｅ）　−２−オキサ−４Ｂ
Ｓ−（５−メトキシカルボニルバレリル）−６−ｓｙｎ
−Ｃ３α−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）−
５α−メチルノナ−１−エニル〕−７−αｎｔｉ　−（
テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）　−ｃｉｓ−ビ
シクロ（３，３，０）オクタン−３−オン（実施例１（
α）で製造した。）。
参考例１（ｈ） （２Ｅ、１３Ｅ）−（９α、１１α、１５８，１７３）
−６−オキソ−９−ヒドロキシ−１１，１５−ビス（テ
トラヒドロピラン−２−イルオキシ）−１７、２０−ジ
メチルプロスト−２，１３−ジエン酸 ＴＬＣ（酢酸エチル）　：　Ｒｆ　＝　０．２０゜出発
物質：　（Ｅ）　−２−オキサ−４−（５−メトキシカ
ルボニルはフタ−４−エノイル）−６−ｓｙｒＬ−（３
α−（テトラヒト９０ピラン−２−イルオキシ）−５α
−メチルノナ−１−エニル）−７−ａｎｔｉ　−（テト
ラヒドロピラン−２−イルオキシ）　−ｃｉｚ−ビシク
ロ（３，３，０）オクタン−３−オン（実施例１（ｂ）
で製造した。）。
参考例１（ｄ） （１３Ｅ）−（９α、１１α、１５８，１６３，１８８
）−６−オキソ−９−ヒドロキシ−１１，１５−ビス（
テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）−１６，１８−
エタノ−２０−エチルプロスト−１３−エン酸 ＴＬＣ（酢酸エチル）：Ｒｆ＝０．２１゜出発物質：（
Ｅ）−２−オキサ−４Ｒ８−（５−メトキシカルボニル
バレリル）−６−ｔｙｒＬ−（３α−（テトラヒドロピ
ラン−２−イルオキシ）−４８，６３−エタノデカ−１
−エニル〕−７−αｎｔｉ　−（テトラヒトゝロピラン
ー２−イルオキシ）　−ｃｉｓ−ビシクロ［３，３，０
’）オクタン−３−オン（実施例１（ｄ）で製造した。
）。
参考例１（ｇ） （１３Ｅ）−（ＩＨ８，９α、１１α、１５８，１６３
゜−１８８）　−１−（２，４−ジオキサ−３−メチル
ヘキシル）−１，ｃ＋−ジヒドロキシ−６−オキソ−１
１，１５−ビス（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ
）−１６，１８−エタノ−２０−エチルプロスト−１３
−エン ＴＬＣ（酢酸エチル：シクロヘキサン−１：１）：Ｒｆ
＝０．０９； ＮＭＲ：δ−５，５（ＩＨ，ｍ　）、５．３　（ＩＨ，
ｍ、　）、４．７〜４．４（６Ｈ，ｍ）、４．１〜３．
２（１２Ｈ，ｍ）、１．１８（３Ｈ，ｔ）、０．８７　
（３Ｈ，ｍ　）　：ＩＲ：！／＝３４７０．１７１０％
１１３２．１０１８．９７６傭　。
出発物質：（Ｅ）−２−オキサ−４Ｒ８−［６Ｒ３−ア
セトキシ−６−（２，４−ジオキサ−３−メチルヘキシ
ル）−ヘキサノイル〕−６−’３／ｎ−〔３α−（テト
ラヒト９０ピラン−２−イルオキシ）−４３，６８−エ
タノデカ−１−工二ル〕−７−αｎｔｉ　−（テトラヒ
ドロピラン−２−イルオキシ）−ｃＬｓ−ビシクロ［３
，３゜０〕オクタン−３−オン（実施例１　（ｇ）で製
造した。）。
次の（Ｃ）の化合物については参考例１と同様に脱炭酸
した後、フリーのカルボン酸をジアゾメタンでメチルエ
ステル化した。
参考例１（ｃ） （１３Ｅ）−（９α、ｌｌα、１５８）　−６−オ＊ソ
ー９−ヒト９０キシ−ＩＩ、１５−ビス（テトラヒドロ
ピラン−２−イルオキシ）−１６−（３−クロロフェノ
キシ）　−１７，１８，１９，２０−ｆトラノルプロス
ト−１３−エン酸メチルエステル ＴＬＣ（酢酸エチル：シクロヘキサ７＝１　：　２　）
　：Ｒｆ−ｏ、ｘ　ｓ　； ＮＭＲ：δ−７，３８〜６．７０　（４Ｈ，ｍ　）、５
．７５〜５．４６（２Ｈ，ｙｙｔ）、３．６７＆３．６
６（３Ｈ，、＆’ｚ”ｔ　ｓ）：工Ｒニジ＝２９４５．
１７４０，１７２０．１５９ｏ、１５８０ｃｍ　０ 出発物’Ｊｔ：（Ｅ）−２−、ｔキ？−４Ｒ３−（５−
メ）キシカルボニルバレリル）−６−ｚｙｎ−Ｃ３α−
（テトラヒドロピラン−２〜イルオキシ）−４−（３−
クロロフェノキシ）ブタ−１−エニル）−７−αル’ｉ
−（テ）ジヒドロピラン−２−イルオキシ）　−ｃｉｓ
−ビシクロ［３，３，０）オクタン−３−オン（実施例
１　（ｃ）で製造した。）。
参考例２ （１３Ｅ）−（１１α、１５Ｓ）−６，９−ジオキソ−
１１，１５−ビス（テトラヒドロピラン−２−イルオキ
シ）フロスト−１３−工ｙ酸 参考例１で得られた６−オキソ−９−ヒドロキシ体６．
８ｇをアセトンｌｏＯｍＪにとかして一２５℃に冷却し
、攪拌しながらジョーンズ試薬なｌｓｌ加え、さらに５
、ｌ０１３０．４’Ｃ１６０分後に１ｄずつジョーンズ
試薬を追加し、１時間同温度で攪拌した。反応混合液中
にイソプロピルアルコール３ｍｌを加え、室温に昇温し
、水２００ｄを加えて、酢酸エチル（２００Ｉｎｌ×１
回、１００ｍ１ｘ２回）で抽出した。有機層を乾燥後減
圧濃縮し、得られた粗精製物６．６ｇをシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィ（酢酸エチル二）番−ヘキサン−３
ニア→４：６）で精製して、次の物性値を有する標題化
合物３．００１１を得た。
ＴＬＣ（エーテル）：　Ｒｆ＝０．３６；ＮＭＲ：δ＝
５．７〜５．３　（２Ｈ，ｍ　）、４．８〜４．６　（
２Ｈ，ｍ　）、４、：１（−３，９５（２Ｈ，ｍ　）、
３．９５〜３．７　（２Ｈ，ｍ　）、３．６（−３，４
（２Ｈ，ｒｎ　）、２．９〜２．２　（９Ｈ，ＷＬ）、
１．９〜１．４　（１８Ｈ，ｍ　）、１．４〜１゜ｔ（
６Ｈｔｍ）、　・０．８６　（３Ｈ，ｔ　）　； ＭＳ：ｍ／Ｚ＝４３４．３５０．．３３２゜参考例２と
同様にして次の化合物（α）、（ｂ）、（Ｃ）、（ｄ＋
及び（ｇ）を得た。
参考例２（α） （１３Ｅン一（１１α、１５８，１７８）　−６，９−
ジオキソ−１１，１５−ビス（テトラヒドロピラン−２
−イルオキシ）　−１７，２０−ジメチルプ、ロスト−
１３−エン酸 ＴＬＣ；（酢酸エチル：ｒＬ−へキサ：／＝１：１）：
Ｒｆ＝０．０９： ＮＭＲ：δ＝　５．７〜５．３　（２Ｈ，ｍ　）、４．
８〜４．６　（２Ｈ，ｍ　）、４．３〜４．０　（２Ｈ
，ｍ　）、４．０〜３．７　（２Ｈ，ｍ　）、３．７〜
３．３　（２Ｈ，ｍ　）、２．８〜２．６　（３Ｈ，ｍ
　）、２．６〜２．２　（７Ｈ，ｍ　）、１．９〜１．
１　（２５Ｈ，ｍ　）、１．０〜０．８（６Ｈ，ｍ）； 工Ｒニジ＝２９３０，１７４０．１７１５ｃｎｌ−”　
：Ｍ　５　：　ｍ／Ｚ＝４６２，４４５，３７８゜出発
物質：　（１３Ｅ）−（９α、１１α、１５Ｓ、１７５
）−６−オキソ９−ヒトゞロキシー１１．１５−ビス（
テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）−１７，２０−
ジメチルプロスト−１３−エン酸（参考例１（α）で製
造した。）。
参考例２（ｈ） （２Ｅ、１３Ｅ）−（１１α、１５８，１７Ｓ）−６゜
９−：）オキソ−１１，１５−ビス（テトラヒドロピラ
ン−２−イルオキシ）　−１７，２０−ジメチルプロス
タ−２，１３−ジエン酸 ＴＬＣ（酢酸エチル）　：　Ｒｆ＝０．２８　；ＮＭＲ
：δ＝８．０　（ＩＨ，ｂｓ）、７．０（ＩＨ，ｍ）、
５．８（ＩＨ，ｄ）、５．５　（２Ｈ，ｍ　）、４．７
　（２Ｈ，ｍ　）、３．７〜４．４　（４Ｈ，ｍ　）、
３．３〜３．６　（２Ｈ，ｍ　）、０．９　（６Ｈ，ｍ
　）。
出発物質：　（２Ｅ、ｔ３Ｅ）−（ｇα、１１α、１５
３゜１７３）　−６−オキソ−９−ヒドロキシ−１１，
１５−ビス（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）　
−１７，２０−ジメチルプロスタ−２，ｔｊ−・ジエン
酸（参考例１（ｈ）で製造した。）。
参考例２（Ｃ） （１３Ｅ）−（１１α、１５８）−６，９−ジオキソ−
１１，１５−ビス（テトラヒドロピラン−２−イルオキ
シ）−１６−（３−クロロフェノキシ）−１７，１８，
１９，２０−テトラノルプロスト−１３−エン酸メチル
エステル ＴＬＣ（酢酸エチル：シクロヘキサン−１：２）：Ｒｆ
−０，３１； ＩＲニジ＝１７５０．１７２０．１５９０．１５８０ｃ
ｍ　。
ＮＭＲ：δ−７，３０〜６．５６（４Ｈ，ｍ）、５．８
３〜５．４７（２Ｈ，ｍ）、４．９０−４．５６　（２
Ｈ，ｍ　）、３．５８（３Ｈ，＃）。
出発物質：　（１３Ｅ）−（９α、１１α、１５８）−
６−オキソ−９−ヒドロキシ−１１，１５−ビス（テト
ラヒドロピラン−２−イルオキシ）−１６（３−クロロ
フェノキシ）　−１７，１８゜１９．２０−テトラツル
ープロスト−１３−エン酸メチルエステル（参考例１（
Ｃ）で製造した。Ｘ参考例２（ｄ） （１３Ｅ）−（１１α、１５８，１６８，１８８）−６
，９−ジオキソ−１１，１５−ビス（テトラヒドロピラ
ン−２−イルオキシ）−１６，１８−エタ／−２０−エ
チルゾロス）−１３−エン酸ＴＬＣ；（酢酸エチル）　
：　Ｒｆ＝０．４６　；Ｍ　Ｓ　：ｍ／Ｚ＝４ｓｓ、４
０４．３８６．２７９゜出発物質：　（１３Ｅ）−（９
α、１１α、ｉｓｓ、１６Ｓ、１８８）−６，９−ジオ
キソ−１１，１５−ビス（テトラヒドロピラン−２−イ
ルオキシ）−１６，１８−エタノ−２０エチルプロスト
−１３−エン酸（参考例１（≧）で製造した。）。
参考例２（ｅ） （１３Ｅ）−（１１α、１５８，１６８，１８８）　−
１−（２，４−ジオキサ−３−メチルヘキシル）−１，
６，９−）ジオキソ−１１，１５−ビス（テトラヒドロ
ピラン−２−イルオキシ）−１６，１８−エタノ−２０
−エチルプロスト−１３−二ンＴＬＣ（酢酸エチル：シ
クロヘキサン＝１：１）：Ｒｆ＝０．３６； ＮＭＲ：δ＝５．６（ＩＨ，ｍ）、５．４（ＩＨ，ｍ）
、４，８３（３Ｈ，＋７１）、４．７８（ＬＨ，（１）
、４．８〜４．６　（２Ｈ。
７７Ｌ）、４．’７−４．４　（４Ｈ，ｍ　）、４．２
〜４．０　（Ｉ　Ｈ，ｍ　）、４．０９（２Ｈ，ｄ）、
１．３４（３Ｈ，ｔＬ）、１．１９（３Ｈ，り、０．８
８（３Ｈ，ｔ）； ＩＲニジ−１７４３，１７１５，９７３ｃｍ　ｍＭ５：
ｍ／Ｚ＝５７５．５４６．５２９．４７２．４４４．４
２６．４２１．４１８．４００゜ 出発物質：　（１３Ｅ）−（ＩＨ３，９α、１１α。
１５８．１６８．．１８３）−１−（２，４−ジオキサ
−３−メチルヘキシル）−１，９−ジヒドロキシ−６−
オキソ−１１，１５−ビス（テトラヒドロピラン−２−
イルオキシ）　−１６゜１８−エタノ−２０−エチルプ
ロスト−１３−二ン（参考例１（ｇ）で製造した。）。
参考例３ （１３Ｅ）−（１１α、１５８）、−６，９−ジオキソ
−１１，１５−ジヒドロキジブロスト−１３−エン酸（
６−ケドーＰＧＥ、） 参考例２で得られた１１．１５−ビス（テトラヒトにと
かし、８０℃で１０分間攪拌した。氷水で冷却後、反応
混合液に水３００１１Ｌｌを加え、酢酸エチル（５００
ｄＸ１回、１５０１ｊＸ２回）で抽出り、り。
有機層を水及び飽和食塩水で洗浄し、乾燥後、減圧濃縮
し粗生成物３．２１を得た。これをシリカゲルクロマト
グラフィ（酢酸エチル：ｒＬ−ヘキサン−１＝１→酢酸
エチル→メタノール：酢酸エチル＝１：５）”ｃｌ製し
、次の物性値を有する標題化合物１．６５Ｎを得た。
ＴＬＣ（１％ＡＣＯＨ／ＡＣＯＥｔ）　：Ｒｆ　＝　０
．３６　；融点二６７〜６９℃； ＮＭＲ：δ＝　５．７〜５．５　（２Ｈ，ｍ　）、４．
８〜４．２　（３Ｈ，ｈｒ）、４．２〜４．０　（２Ｈ
，ｍ　）、２．８５〜２．６　（２Ｈ，ｍ　）、２．６
〜２．３　（７Ｈ，ｍ　）、１．７〜１．４　（６Ｈ，
ｒｎ　）、１．４〜１．２（６Ｈ，扉）、０．８７（３
Ｈ，ｔ）；ＩＲ（（３）ＩＣ１３）：し＝３４００．２
９４０．１７４５．１７１５ｃｍ　。
ＭＳ　：　ｍ／Ｚ＝３６８　（Ｍ＋）、３５０，３３２
゜参考例３と同様にして次の化合物（α）、（ｂ）、（
ＣＪ、（り及びσ）を得た。
参考例３（α） （１３Ｅ）−（１１α、１５８，１７３）−６，９−ジ
オキソ−１１，１１ｒ５−ジヒドロキシー１７．２０−
）メーｙ−ルゾロス）−１３−エン酸ＴＬＯ（１％Ａｃ
ＯＨ／Ａｃ０Ｅｔ　）　：　Ｒｆ　−０，３６；ＮＭＲ
：δ−５，５６（２Ｈ，ｙｘ）、４．２〜４．０　（２
Ｈ，ｒｎ　）、４．３〜３．６（３Ｈ，ｂつ、２．９〜
２．．６　（３Ｈ，ｍ　）、２．６〜２．３　（７Ｈ，
ｍ　）、１．７〜１．５（４Ｈ，ｍ）、１．５〜１．１
　（９Ｈ，ｍ　）、０．９（６Ｈ，７７１）；ＩＲニジ
−３３５０，２９２０，１７３５，１７１０ｃＩｎ−”
；ＭＳ：ｍ／Ｚ＝３７８．３６０゜ 出発物質：　（１３Ｅ）−（１１α、１５８，１７Ｓ）
−６，９−ジオキソ−１１，１５−ビス−（テトラヒド
ロピラン−２−イルオキシ）−１７，２０−ジメチルプ
ロスト−１３−エン酸（参考例２（α）で製造した。）
。
参考例３（ｈ） （２Ｅ、１３Ｅ）−（１１α、１５Ｓ、１７Ｓ）−６゜
９−ジオキソ−１１，１５−ジヒドロキシ−１７゜２０
−ジメチルプロスト−ｚ、ｉ３−ジエン酸ＮＭＲ：δ＝
６．９７（ＩＨ，ｔｉす、５．８０　（ＩＨ，ｄ　）、
５．５５（２）１．ｆｆ１）、４．６〜３．８　（７Ｈ
，ｍ　）、２．７９（ＩＨ，ｄｄ）、０．８９　（６Ｈ
，ｍ　）　：工Ｒニジ＝３６００〜２４００．１７４０
．１７０５．１６５４．９７３ｃｍ　＊ ＭＳ：ｍ／ｚ＝３７６．３５８．３０６．２７７．２５
９．２４９．２３１゜ 出発物質：　（２ｇ、１３Ｅ）−（１１α、１５８，１
７Ｓ）−６，９−ジオキシ−１１，１５−ビス−（テト
ラヒドロピラン−２−イルオキシ）−１７、２０−ジメ
チルプロスト−２，１３−ジエン酸（参考例２（ｂ）で
製造した。）。
参考例３（Ｃ） （１３Ｅ）−（１１α、１５３）−６，９−ジオキソ−
１１，１５−ジヒドロキシ−１６（３−クロロフェノキ
シ）−１７，１８，１９，２０−テトラノルプロスト−
１３−エン酸メチルエステルＴＬＣ（酢酸エチル）：　
Ｒｆ−ｏ、４ｚ：ＮＭＲ：δ＝７．３１〜６．７２　（
４Ｈ，ｒｎ　）、５．８２〜５．６６（２Ｈ，ｍ）、４
．６０〜４．４０　（Ｉ　Ｈ，ｒｎ　）、４．３０〜３
．８５（５）（，７７Ｌ）、３．６５（３Ｈ，Ｓ）、２
．９８〜２．１５（ＩＯＲ，ｍ）、１．６８〜１．４５
　（４）１．　ｍ　）　；ＩＲニジ＝２９５０．２８８
０．１７４０．１７１５゜１５９０．１５８０ｃｍ　０ 出発物質−（１３Ｋ）−（１１α、１５Ｓ）−６，９−
ジオキソ−１１，１５−ビス（テトラヒドロピラン−２
−イルオキシ）−１６−（３−クロロフェノキシ）−１
７，１８，１９，２０−テトラツループロス）−１３−
エン酸メチルエステル（参考例２（Ｃ）で製造した。）
。
参考例３（ｄ） （１３Ｅ）−（１１α、１５３，１６８，１８８）−６
，９−ジオキシ−１１，１５−ジヒドロキシ−１６，１
８−エタノ−２０−エチルプロスト−１３−エン酸 ＴＬＣ（酢酸エチル）：Ｒｆ−０，０８７：融点ニア６
〜７９９Ｃ； ＮＭＲ：δ−５，５７（２Ｈ，ｍ　）、４．０９（ＩＨ
，ｍ）、３．８３（ＩＨ，ｍ）、２．７８　（Ｌ　Ｈ，
ｄｃｔ）、０．８８（３Ｈ，ｍ）： ＩＲ（ＫＢｒ法）ニジ−３６００〜２４００．１７４７
．１７２８．１７０Ｂ、９７３ｃｍ　＃ Ｍ３　：　ｍ／Ｚ　＝　４０４，３８６，２７９゜出発
物質：　（１３Ｋ）−（１１（１，１５８，１６８゜、
１８Ｓ）−６，９−ジオキソ−１１，１５−ビス（テト
ラヒドロピラン−２−イルオキシ）−１５Ｊ８−ｃメノ
ー２ｏ−エステルプロスト−１３−エン酸（参考例２（
ｄ）で製造した。）。
参考例３（ｇ）　’ （１３Ｅ）−（１１α、１５８，１６３，１８８）−１
−ヒドロキシメチル−１，６，９−）　ＩＪオキソ−１
１，１５−ジヒドロキシ−１６，１８−エタノ−２０−
エチルプロスト−１３−エン［（１６ｓ。
１８８）−２−デカルボキシ−２−ｉ　＋）コロイル−
１６，１８−エタノ−ω−ジホモ−６−ケドーＰＧＥ□
〕 ＴＬＣ（酢ｅ−Ｌｆｋ：ギ酸＝８０：１）：Ｒｆ＝０．
２１　； 融点＝９５〜９６°Ｃ： ＮＭＲ：δ＝５．６０　（２Ｈ，ｒｎ　）、４．２４　
（２Ｈ，ｓ　）、４．１２（ＩＨ，ｍ）、３．８６（Ｉ
Ｈ，ｍ）、２．７９（ＩＨ，ｍｄｉ）、０．８８（３Ｈ
，ｍ）： ＩＲ（ＫＢｒ法）ニジ−３４６０，１７４８，１７３２
，１７１０，１２８８，９７０ｃｒｎ　＊ＭＳ：　７Ｆ
！／Ｚ＝４１　ｓ、４００，３８２．３６９，２９３．
２５７．２２９゜ 出発物質：　（１３Ｅ）−（１１α、１５３，１６８゜
１８８）−１−（２，４−ジオキサ−３−メチルヘキシ
ル）　−１，６，９−）ジオキソ−１１゜１５−ビス−
（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）−１６，１８
−エタノ−２０−エチルプロスト−１３−エン（参考例
２（ｅ）で製造した。）。
参考例３σ） （１３Ｅ）−（９α、１１α、１５Ｓ）−６−オキソ−
９，１１，１５−）ジヒドエン酸プロスト−１３−二ン
酸（６−ケドーＰＧＦ　１ａ）ＴＬＧ（ｔ％ＡＣＯＨ／
ＡＣＯＥｔ）　：　Ｒｆ　＝　０．１８　：ＮＭＲ（ア
セ）　ン−ｄ６）：ａ−５，６〜５．４（２Ｈ，ｍ）、
４．５ＪｊＮ４．１　（１４Ｈｘ２．　ｒｎ　）、４．
Ｑ（ＩＨ，ｍ）、３．８（ＩＨ，ｙｘ）、３．５〜２．
５　（４Ｈ，ｂｙ）、２．９〜２．７（ＩＨ，ｍ）、２
．５〜１．９　（９Ｈ，ｍ　）、ｌ、８〜１．４（１２
Ｈ，７７１）、０．８５（３Ｈ，ｍ）；ＩＲ（ＫＢｒ法
）ニジ＝３４２０．２９４０．１７００ｃｍ　。
出発物質：　（１３Ｅ）−（９α、１１α、１５Ｓ）−
６−オキソ−９−ヒドロキシ−１１，１５−ビス（テト
ラヒト９０ピラン−２−イルオキシ）プロスト−１３−
エン酸（参考例１で製造した。）。
代理人　弁理士（８１０７）　佐々木　清　隆（ほか３
名） 手続補正書ζ幀つ 昭和５９年７月７日 特許庁長官殿 １、事件の表示 昭和５９年特許願第　５１０５８　号 事件との関係：特許出願人 名称　小野薬品工業株式会社 霞が関ビル内郵便局　私書箱第４９号 栄光特許事務所　電話（５８１）−９６０１（代表）昭
和５９年６　月　６　日（発送日：昭和５９年　６月２
６日）６、補正により増加する発明の数　０ 明細書の頁　行　補止前　補正後 １１　５　図式Ａ　反応工程式Ａ １２　１　図式　Ａ　良たぬイ釦％）Ａ１６　１　図式
中　式中 １３１０　図式Ｂ　反応工程式Ｂ １３　１１　図式　Ｂ　反応工程式　Ｂ１４　式の下１
　（図式中、　（式中、反応工程式Ａと １４　−３　図式Ａｔ！＝図弐Ｂ図式　反応工程式　Ｂ
１４　〃　４　図式Ａ　反応工程式Ａ １４　〃　５　図式Ｂ　反応工程式Ｂ １４　下から４　図式Ｂ　反応工程式Ｂ２６　下から６
　図式Ｃ反応工程式０ ２７　１　図式　Ｃｆｌｋ鋼６ｃ ２８　１　図式中、　式中、 ２８　下から２　図式Ｃ反応工程式Ｃ 手続補正書 昭和６０年３月ｒ日 特許庁長官殿 １、事件の表示 昭和５９　年特許願第　５１０５８　号事件との関係：
特許出願人 名称　小野薬品工業株式会社 ６、補正の対象 明細書の特許請求の範囲の欄及び発明の詳細な説明の欄
ｌ補正の内容 ３３　１　２−イル　２−イルオキシ ３６　５　酢酸エチル＝　酢酸エチル＝４２１０　実施
例２　参考例１ ４９　１　６−オキソ９−　６−オキソ−９−５４下か
ら５　１１１：Ｌ　１１ａ ５５　下から８　１６（５−クロロ　１ｂ−（３−り（
２）　明細書第３２頁の表を下記のとおシ補正する。
（３）明細書第Ｓ５頁〜第５８頁の実施例及び参考例の
記載中の［Ｍ８：ｍ／ＺＪを「Ｍ８二ｍ／２」に補正す
る（３５頁２行目、３６頁１１行目、３７頁６行目、３
８頁２行目と下から３行目、３９頁１０行目、４０頁２
行目と下から２行目、４１頁下から７行目、４８頁３行
目と下から２行目、５１頁４行目、５２頁４行目、５３
頁下から５行目、５４頁９行目、５５頁４行目、５７頁
１行目、５８頁３行目）。
１）一般式 〔式中、Ｙ及び２はそれぞれ独立してトランスービニシ
′ン基（すなわちＨ＞Ｃ−””ｗ　”又はエチレン基（
すなわち−ｃ　Ｈ＝　−０’Ｅｌｓ　）を表わし、Ｒ２
は水素原子、メチル基又はエチル基を表わし、 Ｒ３は単結合又は炭素数１〜５のアルキレン基を表わし
、 Ｒ４は炭素数１〜Ｂのアルキル基、又は置換されていな
いか少なくとも１個の炭素数１〜８のアルキル基で置換
されている炭素数４〜７の７クロアルキル基、又は置換
されていないか少なくとも１個のハロゲン原子、トリフ
ルオロメチル基もしくは炭素数１〜４のアルキル基で置
換されているフェニル基又はフェノキシ基を表わし、Ｒ
５は酸性条件で容易に除去できる水酸基の保護基を表わ
し、Ｗｌ　は式−〇〇〇ＲＩ。
−ＣＯＮ　（Ｒ’）２　、　−〇Ｈ２ＯＲ”　又は−０
Ｒ（ＯＲ’）ＯＨ，ＯＲ’（式中、Ｒ１は水素原子又は
炭素数１〜１２のアルキル基を表わし、ふたつのＲ６社
それぞれ独立して炭素数１〜４のアルキル基、フェニル
基又は炭素数７〜１２のアラルキル基を表わし、Ｒ７は
炭素数２〜１２０アシル基を表わし、Ｒａ−は前記と同
じ意味を表わす。）で示される基を表わす。］ で示される６−ケドープロスタグランジン類似化合物の
中間体。
２）Ｗｌ　が式−ｃｏｏｎ”　（式中、Ｒ１は水素原子
又は炭素数１〜１２のアルキル基を表わす。）を表わす
特許請求の範囲第１項記載の化合物。
３）　Ｗ”　カ式−０Ｒ（ＯＲ’）ＯＨ２ＯＲ’　（式
中、Ｒｓハ酸性条件で容易に除去できる水酸基の保護基
を表わし　Ｒ７は炭素数２〜１２のアシル基を表わす。
）を表わす特許請求の範囲第１項記載の化合物。
４）Ｒ８が水素原子を表わし、＋　Ｒ３−Ｒ４がｎ−ペ
ンチル基を表わす特許請求の範囲第１項記載の化合物。
ｓ）　ＲＺが水素原子を表わし、−Ｒ３−Ｒ４が２−メ
チルベキシル基を表わす特許請求の範囲第１項記載の化
合物。
６）Ｒ２が水素原子を表わし、−Ｒ３−Ｒ４が（３−ブ
チル）シクロペンチル基を表わす特許請求の範囲第１項
記載の化合物。
７）Ｒ２が水素原子を表わし、＋　Ｒ３−Ｒ４が（３−
クロロフェノキシ）メチル基を表わす特許請求の範囲第
１項記載の化合物。
８）化合物が（劾−２−オキサ−４Ｒ８−（５−メトキ
シカルボニルバレリル）−６−〇ｙｎ　−［５α−（テ
トラヒドロピラン−２−イルオキシ）オクタ−１−エニ
ル３−７−　ａｎｔｉ　−（テトラヒドロピラン−２−
イルオキｖ　）　−ｃｉｓ−ビシクロ〔五五〇〕オクタ
ンー３−オンである特許請求の範囲第１項記載の化合物
。
？）化合物が＠−２−オキサー４Ｒ８−（５−メトキシ
カルボニルバレリル）　−６−ｓｙｎ　−［５α−（テ
トラヒドロピラン−２−イルオキシ）−５α−メチルノ
ナ−１−エニル］　−７−ａｎｔｉ−（テトラヒドロピ
ラン−２−イルオキシ）　−ｃｉｅ−ビシクロ〔五五〇
〕オクタンー３−オンである特許請求の範囲第１項記載
の化合物。
１０）化合物が（ｍ、ｘ）−ｚ−オキサ−４Ｒ日−（５
−メトキシカルボニルペンタ−４−エノイル）−６−ｓ
ｙｎ　−［３α−（テトラヒドロピラン−２−イルオキ
シ）−５α−メチルノナ−１−エニル］−７−ａｎｔｉ
−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）　−ｃｉｓ
−ビシクロ〔′５．五〇〕オクタンー３−オンである特
許請求の範囲第１項記載の化合物。
１１）化合物が（Ｋ）−２−オキサ−４Ｒ８−（５−メ
トキシカルボニルバレリル）　−６−Ｂｙｎ　−［６α
−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）−４−（３
−クロロフェノキク）ブタ−１−工二ル］　−７−ａｎ
ｔｉ　−（テトラヒドロピラ／−２−イルオキＶ　）　
−ａ１θ−ビシクロ〔五五ロ］オクタンー３−オンであ
る特許請求の範囲第１項記載の化金物。
１２）化合物が（Ｋ）　−２−オキサ−４Ｒ８−（５−
メトキシカルボニルバレリル）　−６−ｓｙｎ　−［５
α−（テトラヒドロビラ／−２−イルオキシ）−４８，
６８−エタノデカ−１−エニル〕−７−ａｎｔｉ−（テ
トラヒドロピラン−２−イルオキシ）−０１８−ビシク
ロ［！Ｌ五〇〕オクタンー３−オンである特許請求の範
囲第１項記載の化合物。
１３）化合物が（ｍ）　−２−オキサ−４ＲＳ　−［６
Ｒ８−アセトキシ−６−（２，４−ジオキサ−３−メチ
ルベキンル）−ヘキサノイル］　−６−ｓｙｎ　−［Ｓ
α−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）−４８，
６Ｂ−エタノデカ−１−エニル］−７−ａｎｔｉ−（テ
トラヒドロピラン−２−イルオキシ）−〇１８−ビシク
ロ〔五！ＬＯ］オクタンー３−オンである特許請求の範
囲第１項記載の化合物。
１４）一般式 （式中、Ｙはトランス−ビニレン基又ハエチレン基を表
わし　Ｒ２は水素原子、メチル基又はエチル基を表わし
、Ｒ３は単結合又は炭素数１〜５のアルキレン基を表わ
し　Ｒ４は炭素数１〜８のアルキル基、又は置換されて
いないか少なくとも１個の炭素数１〜８のアルキル基で
置換されている炭素数４〜７のシクロアルキル基、又は
置換されていないか少なくとも１個のハロゲン原子、ト
リフルオロメチル基もしくは炭素数１〜４のアルキル基
で置換されているフェニル基又はフェノキシ基を表わし
、Ｒｓ　は酸性条件で容易に除去できる水酸基の保護基
を表わｆｏ）で示される化合物を、 一般式 ％式％ 〔式中、ｚはトランス−ビニレン基又ハエチレン基を表
わし、Ｗｌ　は式−００ＯＲ’　、−Ｃ＋０Ｎ（Ｒ’）
、　。
−〇ＨｔＯＲ”　又は−０Ｈ（ＯＲ７）Ｏ馬ＯＲ＆（式
中、Ｒ１は水素原子又は炭素数１〜１２のアルキル基を
表わし、ふたつのＲ６はそれぞれ独立して炭素数１〜４
のアルキル基、フェニル基又は炭素数７〜１２のアラル
キル基を表わし　Ｒ７は炭素数２〜１２のアシル基を表
わし　Ｒ６は前記と同じ意味を表わす。）で示される基
を表わす。］で示される酸の反応性誘導体とアシル化反
応に付すことを特徴とする一般式 （式中、すべての記号は前記と同じ意味を表わす。） で示される化合物の製造方法。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 ■）一般式 エチレン基（すなわち−（Ｊ２−ＯＨ２）　を表わし、
    Ｒ２は水素原子、メチル基又はエチル基を表わし、 Ｒ３は単結合又は炭素数１〜５のアルキレン基を表わし
    、 Ｒ４は炭素数１〜８のアルキル基、又は置換されていな
    いか少なくとも１個の炭素数１〜８のアルキル基で置換
    されている炭素数４〜７のシクロアルキル基、又は置換
    されていないか少なくとも１個のハロゲン原子、トリフ
    ルオロメチル基もしくは炭素数１〜４のアルキル基で置
    換されているフェニル基又はフェノキシ基を表わし、Ｒ
    ５は酸性条件で容易に除去できる水酸基の保護基を表わ
    し、Ｗｌ　は式−ＧＯＯＲ’、　−ＣＯＮ（Ｒ６）２．
    −０Ｈ２０Ｒ５又は−０Ｈ（ＯＲ７）ＯＨ２０Ｒ５（式
    中、Ｒ１は水素原子又は炭素数１〜１２のアルキル基を
    表わし、ふたつのＲ６はそれぞれ独立して水素原子、炭
    素１ｆｔ　１〜４のアルキル基、フェニル基又は炭素数
    ７〜１２のアラルキル基を表わし、Ｒ７は炭素数２〜１
    ２のアシル基を表わし、Ｒ５は前記と同じ意味を表わす
    。）で示される基を表わす。〕 で示される６−ケドープロスタグランジン類似化合物の
    中間体。 ２）Ｗｌが式−〇〇〇ＲＩ　（式中、Ｒ１は水素原子又
    は炭素数１〜１２のアルキル基を表わす。）を表わす特
    許請求の範囲第１項記載の化合物。 ３）Ｗ”　が式−０Ｈ（ＯＲ７）ＣＨ２０Ｒ５（式中、
    Ｒ５は酸性条件で容易に除去できる水酸基の保護基を表
    わし、Ｒは炭素数２〜１２のアシル基を表わす。）を表
    わす特許請求の範囲第１項記載の化合物。 ４）Ｒ２が水素原子を表わし１．−Ｒ３−Ｈ４がルーペ
    ンチル基を表わす特許請求の範囲第１項記載の化合物。 ５）Ｒ２が水素原子を表わし、−Ｈ３−Ｈ４が２−メチ
    ルベキシル基を表わす特許請求の範囲第１項記載の化合
    物。 ６）Ｒ２が水素原子を表わし、−Ｈ３−Ｈ４が（３−ノ
    テル）シクロ竪ンテル基を表わす特許請求の範囲第１項
    記載の化合物。 ７）Ｒ２が水素原子を表わし、−Ｒ３−Ｒ４が（３−ク
    ロロフェノキシ）メチル基を表わす特許請求の範囲第１
    項記載の化合物。 ８）化合物が（Ｆ、）−２−オキサ−４Ｒ８−（５−メ
    トキシカルボニルバレリル）−６−ｚｙｎ−［３α−（
    テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）オクタ−１−エ
    ニル〕−７−α、ｔｉ−（テトラヒドロピラン−２−イ
    ルオキシ）　−ｃｉｓ　−ビシクロ（３，３，０）オク
    タン−３−オンである特許請求の範囲第１項記載の化合
    物。 ９）化合物が（ＥＪ−２−、ｔ＊ｆ−４Ｒ８−（５−メ
    トキシカルボニルバレリル）　−６−−５’ｙｎ　−（
    ３α−（テトラヒドロ２ラン−２−イルオキシ）−５α
    −メチルノナ−１−エニル〕−７−αルｔｉ−（テトラ
    ヒト９０ピラン−２−イルオキシ）−ｃｉｓ−ビシクロ
    （３，３，０）オクタン−３−オンである特許請求の範
    囲第１項記載の化合物。 １０）　化合物が（Ｅ、Ｅ）−２−、オキサ−４Ｒ８−
    （５−メトキシカルボニルベンター４−エノイル）−６
    −＃ｙｎ−［３α−（テトラヒト９０ピラン−２−イル
    オキシ）−５α−メチルノナ−１−工二ル］−７−ａｎ
    ｔｉ−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）　−ｃ
    ｉｓ−ビシクロ（３，３，０）オクタン−３−オンであ
    る特許請求の範囲第１項記載の化合物。 １１）化合物が（Ｅ）−２−オキサ−４Ｒ８−（５−メ
    トキシカルボニルバレリル）　−６−５＝ｙｎ　−（３
    α−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）−４−（
    ３−クロロフェノキシ）ブタ−１−エニル〕−７−αｒ
    Ｌｔｉ　−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）　
    −ｃｉｓ−ビシクロ（３，３，０）オクタン−３−オン
    である特許請求の範囲第１項記載の化合物。 １２）化合物が（Ｅ）−２−オキサ−４Ｒ８−（５−メ
    トキシカルボニルバレリル）　−５−ｓｙｎ　−（３α
    −テトラヒト８０ピラン−２−イルオキシ）−４８，６
    ８−エタノデカ−１−エニル〕−７−αｎｔｉ　−（テ
    トラヒドロピラン−２−イルオキシ）　−ｃｉｓ−ビシ
    クロ（３，３，０）オクタン−３−オンである特許請求
    の範囲第１項記載の化合物。 １３）化合物が（Ｋ）−２−オキサ−４Ｒ８−（６Ｒ８
    −アセトキシ−６−（２，４−ジオキサ−３−メチルヘ
    キシル）−ヘキサノイル）　−５−ｚｙｎ−〔３α−テ
    トラヒドロピラン−２−イルオキシクー４３．６８−エ
    タノデカ−１−エニル〕−７−αｎｔｉ　−（テトラヒ
    ドロピラン−２−イルオキシ）　−ｃｉｚ−ビシクロ［
    ３，３，０）オクタン−３−オンである特許請求の範囲
    第１項記載の化合物。 １４）一般式 （式中、Ｙはトランス−ビニレン基又はエチレン基を表
    わし、Ｒ２は水素原子、メチル基又はエチル基を表わし
    、Ｒ３は単結合又は炭素数１〜５のアルキレン基を表わ
    し、Ｒ４は炭素数１〜８のアルキル基、又は置換されて
    いないか少なくとも１個の炭素数１〜８のアルキル基で
    置換されている炭素数４〜７のシフ４０−ア・ル・キル
    基、又は置換されていないか少なくとも１個のハロゲン
    原子、トリフルオロメチル基！、しくは炭素数１〜４の
    アルキル基で置換されているフェニル基又はフェノキシ
    基を表わし、Ｒ５は酸性条件で容易に除去できる水酸基
    の保護基を表わす。） で示される化合物を、 一般式 ％式％ （式中、Ｚはトランス−ビニレン基又はエチレ７基ヲ表
    ｂ１．、Ｗ１ハ式−ＣＯＯＲ１，−０ＯＮ（Ｒｊ、）２
    ゜−０Ｈ２０Ｒ５又は−０Ｈ（ＯＲ７）ＯＨ２０Ｒ５（
    式中、Ｒ１は水素原子又は炭素数１〜１２のアルキル基
    を表わし、ふたつのＲ６はそれぞれ独立して水素原子、
    炭素数１〜４のアルキル基、フェニル基又は炭素数７〜
    １２のアラルキル基を表わし、Ｒ７は炭素数２〜１２の
    アシル基を表わし、Ｒ５は前記と同じ意味を表わす。）
    で示される基を表わす。〕 で示される酸の反応性誘導体とアシル化反応に付すこと
    を特徴とする一般式 （式中、すべての記号は前記と同じ意味を表わす。） で示される化合物の製造方法。
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