JPS60192759A - ポリマー組成物の電離放射線耐性の増強方法 - Google Patents

ポリマー組成物の電離放射線耐性の増強方法

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JPS60192759A
JPS60192759A JP2368785A JP2368785A JPS60192759A JP S60192759 A JPS60192759 A JP S60192759A JP 2368785 A JP2368785 A JP 2368785A JP 2368785 A JP2368785 A JP 2368785A JP S60192759 A JPS60192759 A JP S60192759A
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polymer
poly
acid
carbonate
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ロジヤー・ダブリユ・アバキアン
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    • C08L67/02Polyesters derived from dicarboxylic acids and dihydroxy compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
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    • C08K5/00Use of organic ingredients
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 発明の背景 透明なプラスチック物品に加工することのできるポリマ
ー、たとえば芳香族ポリカーボネート樹脂やそのブレン
ドは医学分野用の製品に使用することがある。 このよ
うな製品としては、血中酸素供給器、麻酔キャニスタ−
1静脈内連結子および補助具、拍動バルーンポンプ、血
液遠心器がある。 これらの物品は殺菌処理にかけられ
ることが多く、典型的な処理方法にはオートクレーブ中
での加熱、エチレンオキサイドによる接触処理、または
電離放射線たとえばガンマ線もしくは電子線の照射があ
る。 しかしながらこれらの技術にはそれぞれ何らかの
欠点がある。 オートクレーブの場合、ポリカーボネー
トおよびポリアリ−レートを含めて多くのポリマーが熱
に対して不安定であること、この技術では比較的高いエ
ネルギーを必要とすること、ならびに処理後の物品に湿
気が残るため使用する前に先ず乾燥させなければならな
いことのために望ましくないことが多い。
エチレンオキサイドを使用する虻はこのカスの毒性、不
安定、および廃棄処理に関連した環境問題のために好ま
しくない。
これらの技術に代わって有用なのは電離放射線による殺
菌であり、それはこの技術が低温で実施することができ
しかも比較的安価であって本質的に乾式法であるからで
ある。 しかしながら、特にポリカーボネート樹脂、ポ
リアリ−レートまたはこれらのブレンドから製造した物
品に電離放射線を照射すると、通常は光学的に透明なポ
リマーに黄変が生ずるのが普通である。 これは見掛け
が悪いであろう。 このような影響を相殺するためにポ
リマー中に着色剤を混入せしめることがよく行なわれて
いる。 こうして生ずる黄色が審美的に許容しやすい色
、たとえば青味がかった色合で遮蔽される。
発明の概要 前記のような放射線に繰り返しまたは長時間曝されると
通常黄変する傾向のあるポリカーボネートホモポリマー
およびコポリマーおよび/またはポリアリ−レート単独
ならびにこれらを第2のポリマ〜と組み合わせたポリマ
ーの電離放射線耐性を増大せしめる方法が発見された。
 この方法は、前記の如きポリマーを電離放射線に対し
て安定にする化合物であって、しかも電離放射線によっ
て生成したH基、OH基および/または水和電子のよう
な活性種に対し速い反応速度で反応するかおよび/また
は酸化作用の強いことを特徴とする非ポリマー性化合物
のうちから選択した添加剤を含有せしめることを含んで
いる。 好ましい一局面では、第2のポリマーを独立し
た色安定化効果を奏するに有効な量で使用する。。
本発明の安定剤化合物は、カルボキシ (−COOH)、エステル(−COOR)、ヒドロキシ
(−OH)、チオ(〉S)、アニリド(C,H,、NH
−)、アミノ(−NH2)、オキサミドCH2NC0C
ONH−)、カルボニル(> CO) 、チオカルボニ
ル(>C8)およびホスホのうちから選択された官能基
な/種以上有することができ、エステル類、アルコール
類、障害フェノール系化合物群、チオエステル類、オキ
サミドフェノール系化合物群、シュウ酸アニリド化合物
群、チアゾール類、チオジアゾール類、チオ尿素、ホス
ホネート類、ホスホナイ[・類およびジホスホナイト類
のうちから選択し得る。
電離放射線耐性を改良するのに必要とされる添加剤の量
は少量で充分であり、典型的な場合ポリマー700部に
対して約θOj〜約2.0重量部である。
3、発明の詳細な説明 一般に本発明の方法を実施するには、処理すべきポリカ
ーボネートまたは全体として芳香族性のポリエステル(
ポリアリ−レート)および場合によって使用する第2の
ポリマーを前記の如き添加削/種以上と組み合わせるた
めにこれらを充分に混合して実質的に均一な混和物を形
成する。混合物を形成するには、標準的な混合装置およ
び技術、たとえば機械的ブレンクー、櫂形ミキサー、タ
ンブラ−デバイスまたはこれらと同等のものを用いて従
来と同様にすることができる。 所望であれば、ポリマ
ー(7種以上)と添加剤を相互溶媒に溶解させて充分に
混合し、次いで通常の方法、たとえば溶媒の蒸発または
蒸留によって回収することができる。 また、高温また
はポリマーもしくはポリマーブレンドの軟化点より少し
高い温度でエクストルーダーに通す、等のように成分を
溶融混合することもできる。 これらの方法のいずれも
、ポリマーまたはポリマーブレンドに安定化剤を添加す
るのに使用可能である。
本発明で有用なポリカーボネートホモポリマーとして特
に芳香族ポリカーボネートがある。これらのポリマーは
、当業者には製造できるし、または様々な市販経路から
入手することもできる。
これらを製造するには、二価フェノールをカーボネート
前駆体、たとえばホスゲン、ハロホーメートまたはカー
ボネートエステルと反応させればよい。 これらのポリ
マーは典型的な場合次式の繰り返し構造単位を有する。
1 一→−0−A−0−C−知一 ここで、Aはポリマー生成反応に使用した二価フェノー
ルの二価の芳香族残基である。 芳香族カーボネートポ
リマーは(メチレンクロライド中23℃で測定した)固
有粘度が030〜/、Odl/lの範囲にあるものが好
ましい。 二価フェノール類とは、ヒドロキシ基を2個
含有しておりこれらが各々芳香核の炭素原子に結合して
いる単核または多核芳香族化合物を意味する。 典型的
な二価フェノール類には、2,2−ビス−(クーヒドロ
キシフェニル)プロパン、ムコ−ビス−(3J−ジメチ
ル−グーヒドロキシフェニル)プロパン、幻り′−ジヒ
ドロキシジフェニルエーテル、ビス(コーヒドロキシフ
ェニル)メタン、これらの混合物、等が包含される。 
好ましい芳香族カーボネートポリマーは2,2−ビス(
グーヒドロキシフェニル)プロパン(ビスフェノール−
A)から誘導されたホモポリマーである。
本発明で使用するポリ(エステル−カーボネート)は公
知であり市販品から入手可能である。
通常これらは線状ポリマー鎖中にカーボネート基1 一千一〇−C−O−弁一 カルボキシレート基: 1 + C−C−+− および芳香族炭素環式基を繰り返し有するコポリエステ
ルである。 ただし、カルボキシレート基の少なくとも
いくつかとカーボネート基の少なくともいくつかは芳香
族炭素環式基の環炭素原子に直接結合している。 一般
に、これらのポリ(エステル−カーボネート)コポリマ
ーを製造するには、二官能性カルボン酸(たとえば、フ
タル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、ホモフタル酸、
o−、m−、γ−フェニレンジ酢酸)、多核芳香族酸(
たとえば、ジフェン酸、/、クーナフタル酸)、これら
の任意の混合物等を、上記に記載したような二価フェノ
ールおよびカーボネート前駆体と反応させる。 %に有
用なポリエステルカーボネートは、ビスフェノールAと
、イソフタル酸、テレフタル酸、またはイソフタル酸と
テレフタル酸の混合物、またはこれらの酸の反応性誘導
体たとえばテレフタロイルジクロライド、イソフタロイ
ルジクロライドもしくはこれらの混合物と、ホスゲンと
から誘導される。 これら好ましい樹脂類中、ジヒドロ
キシジアリール単位とベンゼンジカルボキシレート単位
と力〜ボネート単位とのモル割合は/:θ認〜10:θ
どθ〜θθ0の範囲であることができ、テレフタレート
単位とイソフタレート単位のモル割合は99:/〜/:
99の範囲であることができる。 カーボネート単位の
モル割合が00場合樹脂は全体が芳香族性のポリエステ
ルである。 ロブソン(Robeson)の米国特許第
乞32乞と乙2号参照。
本発明の実施に有用なポリ(スルホン−カーボネート)
は、スルホンたとえばジヒドロキシジフェニルスルホン
と、二価フェノールと、ホスゲンまたはホスゲン前駆体
との反応で誘導されるものである。 好ましい材料は、
フォックス(F ax)の米国特許第3737.’10
9号の記載に従って、ビス−(3,J−−ジメヂルーグ
ーヒドロキシフェニル)スルホンとビスフェノール−A
をホスゲンと共に重合して製造される。 このタイプの
特に好ましいコポリマーを製造するには、スルホンフル
99重量係、好ましくはり0〜99重量係とビスフェノ
ール−199〜/重量%、好ましくは乙θ〜/重量係と
をホスゲンと共に反応させる。
「フタレート」という用語は本明細書中で通常の意味で
使用されており、C6I(、(COO)、、−基を含有
するフタル酸の塩および好ましくはこの種のジエステル
で炭素原子を2〜乙θ個有するものを意味し、フタル酸
シアミル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジエチル、フタ
ル酸ジベンジル、フタル酸ジメチル、フタル酸フェニル
クレジル、フタル酸フェニルベンジル、フタル酸ブチル
ベンジル、フタル酸ブチルシクロヘキシル、フタル酸オ
クチルクレジル、フタル酸ジフェニル、フタル酸ジ−n
−ヘキシル、フタル酸ジイソヘキシル、フタル酸ブチル
オクチル、フタル酸ブチルデシル、フタル酸ジイソオク
チル、フタル酸シーーーエチルヘキシル、フタル酸ジ−
n−オクチル、フタル酸ジ−イソノニル、フタル酸ジイ
ソデシル、フタル酸ジー認−プロピルヘプチル、フタル
酸ジ−n−ノニル、フタル酸ジ−n−デシルおよびフタ
ル酸ジトリデシルならびにこれらの任意の混合物を包含
するがこれらに限定されるわけではない。
上記のものに対応するイソフタレートおよびテレフタレ
ート、すなわち、インフタル酸およびテレフタル酸から
誘導される対応のジエステル、たとえばイソフタル酸ジ
メチル、イソフタル酸シアミル、インフタル酸ジブチル
等、ならびにテレフタル酸ジメチル、テレフタル酸シア
ミル、テレフタル酸ジブチル等も同様に本発明に使用さ
れる。
ポリマーに添加するのに適したアルコール類は広範囲の
化合物群から選択することができる。
通常これらアルコール類は炭素原子な2〜50個含有し
、直鎖または分枝鎖である。 ジオール類とポリオール
類が好ましく、特にジオール類が最も好ましい。 例を
挙げると、これらのジオール類には脂肪族、たとえばエ
チレングリコール、プロピレングリコール、/、3−プ
ロパンジオール、/、、、2−ブタンジオール、/、グ
ーブタンジオール、メソーー、3−ブタンジオール、/
、2−ベンタンジオール、2,3−ベンタンジオール、
/、クーベンタンジオール、/、クーへキサンジオール
等、脂環式、たとえば/、2−シクロベンタンジオール
、/、2−シクロヘキサンジオール等、分枝非環式、た
とえば認、3−ジメチルーユ、3−ブタンジオール(ピ
ナコール)等が包含される。
本発明の方法を実施する際に使用されるチオエステル類
またはチオジエステル類は次式のものである。
ここで、RとR′は、それぞれ独立に、炭素原子7〜7
5個の直鎖または分枝のアルキルであり、たとえば、メ
チル、エチル、n−ブチル、n−プロピル、n−ペンチ
ル、イソブチル、イソプロピル。
ヘキシル等である。
チオジアゾール類は環構造中に窒素原子を2個、イオウ
原子を/個有する五員環炭化水素である。 これらは更
に環上に置換されたチオール基(−8H)をZ個以上有
することができ、有することが好ましい。
チアゾール類は次式のいずれかから誘導される化合物で
ある。
オルト メタ 同様に、他のタイプのチオ−含有化合物、たとえばチオ
尿素も包含きれる。
また、高度に分枝したポリオール類、たとえばペンタエ
リトリトール、ならびにアルコキシで置換した環式また
は非環式アルカン類、たとえばトリメチロールプロパン
または/、クーシクロヘキサンジメタツールも本発明方
法に有用である。
本発明の方法で安定剤として機能する他の化合物は高分
子量オキサミドフェノール類、たとえば、2.2−オキ
サミドビス−〔エチル3−C3,タージーtert−ブ
チルーグーヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、な
らびに高分子量シュウ酸アニリド類およびこれらの誘導
体である。
同様にホスホナイト類、特に次式のジホスホナイト類も
使用される。
ここで、Rはアリール、たとえばフェニルまたはジフェ
ニルであり、R’、 R2,R5およびR4は、それぞ
れ独立に、非置換の捷たは炭素原子を/〜72個有する
直鎖もしくは分枝アルキルで置換されたフェニル基であ
る。
本発明で有用なホスホネート類は次式のもの、およびと
nらのニッケル含有誘導体である。
ここで、R5,R6およびR7は、それぞれ独立に。
炭素原子7〜30個のアルキルまたはアリールである。
また、無機酸の塩類、特にたとえば亜硫酸のアルカリ金
属塩、たとえば亜硫酸ナトリウムも本発明に包含される
第2の樹脂を含有する本発明の態様の場合。
そのポリカーボネートまたはポリアリ−レートに対する
使用量は広く変化することができる。 一般に、第1の
ポリマーと第一のポリマーの合計700部に対して、第
一ポリマーを/〜99重量部、置部に応じて第1ポリマ
ー・を99〜/重量部使用する。
本発明に使用するのに適したポリエステルは、脂肪族、
脂肪族エーテル、もしくは脂環式ジオールまたはこれら
の混合物(これらは炭素原子を約2〜約7θ個含有する
ものが好ましい)と、芳香族または脂環式ジカルボン酸
/種以上とあ・ら誘導される。 好ましいポリエステル
は脂肪族ジオールと芳香族ジカルボン酸から誘導された
もので次の一般式の繰り返し単位を有する。 01 ここでnは一〜グの整数である。 最も好ましいポリエ
ステルはポリ(エチレンテレフタレート)である。
また、上記のポリエステルに更に全組成物に対しθ5−
SO重量%の量のポリオールおよび/または酸を含有す
るものも本発明に包含される。
この酸は炭素原子数が一〜、20の範囲にある脂肪族ま
たは脂環式のものであり得る。 同様に、グリコールは
炭素原子数が上記と同じ範囲にある脂環式または脂肪族
のものであり得る。 アルキレン部分が炭素原子を2〜
70個有し、グリコール部分が全体で100〜/Qθ0
0の分子量で変化するポリアルキレンエーテルグリコー
ル類も使用することができる。 これらポリエステルは
全て、たとえば米国特許第、2.グ乙式3ノ2号および
第3、O’17,339号の教示に従って製造すること
ができる。
脂環式ジオールと芳香族ジカルボン酸から誘導されたポ
リエステルを製造するには、たとえば、/、4t−シク
ロヘキサンジメタツールのシスまたはトランス異性体(
またはこれらの混合物)を芳香族ジカルボン酸と縮合し
て次式の繰り返し単位を有するポリエステルにする。
ここで、シクロへ牛サン環はそのシスおよびトランス異
性体から選択され、Rは炭素原子を4〜20個含有する
アリールまたは脂環式基を表わし。
これは芳香族ジカルボン酸から誘導された脱カルボキシ
ル残基である。
脱カルボキシル残基Rが表わす芳香族ジカルボン酸の例
としては、イソフタル酸、テレフタル酸、/、2−ジ(
γ−カルボキシフェニル)エタン。
グ、り′−ジカルボキシジフェニルエーテル等およびこ
れらの混合物がある。 縮合環を含有する酸、たとえば
/、クーまたは/、!−ナフタレンジカルボン酸が存在
することもできる。 同様に、脂環式二塩基酸、たとえ
ばシクロヘキサンジカルボン酸も包含される。 好まし
いジカルボン酸はテレフタル酸またはテレフタル酸とイ
ソフタル酸の混合物である。
別の好ましいポリエステルは/、クーシクロヘキサンジ
メタツールのシスまたはトランス異性体(あるいはこれ
らの混合物)とイソフタル酸およびテレフタル酸の混合
物との反応によって誘導することができる。 これらの
ポリエステルは次式の繰り返し単位を有するであろう。
1 更に別の好ましいポリエステルは、シクロヘキサンジメ
タツール、アルキレングリコールおよび芳香族ジカルボ
ン酸から誘導されるコポリエステルである。 これらの
コポリエステルを製造するには、たとえば/、クーシク
ロヘキサン−ジメタツールのシスまたはトランス異性体
(あるいはこれらの混合物)とアルキレングリコールを
芳香族ジカルボン酸と共に縮合して次式の単位を有する
コポリエステルを生成する。
ここで、シクロヘキサン環はそのシスおよびトランス異
性体から選択され、Rは前記定義のとおりであり、nは
Ω〜10の整数であり、、X単位は約/〜約92重量襲
を占め、y単位は約92〜約1重量係を占める。
このような好ましいコポリエステルを誘導するには、/
、クーシクロヘキサンジメタツールのシスまたはトラン
ス異性体(あるいはこれらの混合物)およびエチレング
リコールをテレフタル酸ととθ: 20 : /θ0 
のモル比で反応させればよい。
これらのコポリエステルは次式の繰り返し単位を有する
ここでXとyは前記定義のとおりである。
ここに記載したポリエステルは、市販されているか捷た
は米国特許第認、90乙グ乙乙号に記載の方法を含めて
業界で公知の方法によって製造することができる。
本発明の実施に使用するポリエステルは通常、フェノー
ル/テトラクロロエタン(10: &θ)混合溶媒また
は類似の溶媒中23〜3θCで測定した場合の固有粘度
が約92〜約1.θdl/9である。
ポリマー−添加剤ブレンドを調合する際他の成分を含有
せしめてもよく、そうすることが多いと理解されたい。
 このような付加的成分は一般に、化学的物理的特性な
変えるためにポリカーボネート樹脂およびブレンドと共
によく使われる通常の非ポリマー性材料中から選択する
。 これらの材料としては、可塑剤、熱安定剤、酸化防
止剤、難燃剤、潤滑剤、充填材および補強剤が包含され
る。 使用量は通常どおりである。
本発明によって製造された組成物は、上述したような殺
菌可能な医療用製品の成分要素として有用な成形品に加
工することができる。 これらは厳しい殺菌条件で処理
することができ、その際光学的透明度が損なわれること
はほとんどない。
特定具体例の説明 以下実施例により本発明の方法を更に詳説する。 しか
しながら、これらの実施例のみに本発明の範囲を限定す
る意図は全くない。
実施例中、成形サンプルはコバ4t、 ト−、to放射
線源を使用して空気中で照射した。 黄色度インデック
スは、%インチ厚の射出成形板を用い、AsTMD/?
、肘に従ってパシフィックーサイエンティフィックスペ
クトロガード(Pacific −8cientifi
c Spectrogard ) l :L 二7トで
測定した。
照射を始めてすぐに記録をとった。
実施例 /〜/グ 本発明に従って、表/に示した化合物を表示した量でポ
リ(ビスフェノール−Aカーボネート)樹脂(レキサン
(LEXAN■)、ゼネラルエレクトリックカンパニイ
(General Electric Co、 )製)
と混合して組成物を調製した。
混合物を520〜!70Fの温度で押し出し、320〜
j夕OFで射出成形(型温度720〜/とθF)してテ
ストプレートにした。 得られた結果表/(続き) (エチル3−(3,j−ジーtert−ブチルークーヒ
ドロキシフェニル) プロピオネート)e // シュウ酸アニリド誘導体f O,2、!、、3に
ノロ2 ペンタエリトリトール 0.C2,3,0と/
3 トリメチロールプロパン θ、! /9乙テトラキ
ス(メチレン(3,S−ジ 0/−tert−ブチル−
グーヒドロキシ −ヒドロシンナメート)メタンh よ0 .230/ /9.と7 322よθ ノと/り
 /よ2と 3/に タ0,2乙、、2/ 623/3 グに3i0 C23
,9j 、2/、99 ’1.39認、夕 /乙0オ 
/3乙θ よグク 上記の表中で、用語「Y■」は黄色度インデックスであ
り、線量は合計のMradの単位で表わされており、添
加剤の量はポリカーボネート樹脂100部に対する重量
部(phr)で表わしである。
2−− hの文字は次の市販材料を示す。
a−グツド−ライト(GOOD−RITE■) 3/2
J、B、 F、グツドリッチ社(Goodrich C
o、 )、3、J−ジーtert−ブチルーグーヒドロ
キシヒドロケイ皮酸の/、3.3−トリス(2−ヒドロ
キシエチル)−S−トリアジン−認。
グ、≦(/H13旦、オ旦)−トリオントリエステル。
b−サイアノックス(CYANOX■) LTDP、ア
メリカンサイアナミド社(Amer icanCyan
amid Co、 )。
c=バンヶム(VANCHEM■) DMTD、 R,
T。
バンダービルト社(Vanderbilt Co、 、
 Lnc、)。
d−イルガスタブ(IRGASTAB■)200六チバ
一ガイギー社(C1ba −Geigy Corp、 
) 。
e=ナウガード(NAUGARD■)XL−へユ二ロイ
ヤル社(Uniroyal Corp、 ) 、オキサ
ミドフェノール系。
f= サ:/ デュボール(SANDUVOR■)VS
U。
サンドズ社(Sandoz Co、 ) +1gニサン
ドスタブ(SANDO8TAB)P−EPQ。
サンドズ社(5andoz CO,)。
h−イルガスタブ(IRGANOX■)10/θ、チバ
ーガイギー社(Ciba−Geigy Corp、 )
、高分子量立体障害フェノール系化合物。
実施例 /l 混和物を作ってポリマーブレンドを調製し、500〜乙
00Fの温度で押し出し、!00〜!とθFの温度で射
出成形して試験片にした。 ガンマ線の他に、いくつか
の試片は電子線源に露出した。
この電子線露出によって未改質ポリカーボネートはひど
く黄変する。 使用した調合組成と得られた結果を表2
に示す。
2−′ 表コ 実施例 /、3−A*/オ ボリ(ビスフェノール八カーボネート)” 30 30
コポリエステル二と!モル係テレフタレート、/jモル
チイソフタレート、/、グーシクロヘキサンジメタツー
ルb 6θ 夕0三官能性障害フェノール0 θコ 赤−青混合染刺 θ00102 θ00102特性 * コントロール(対照) a LEXAN■、 General Electri
c Co。
b コクール(KODAR■)、イーストマンコダック
社(Eastman Kodak Co、 )CGOO
D−RITE■3/23. B、 F、 Goodri
ch Co。
実施例/夕の組成物は、同じく色安定化された比較対照
よりガンマ線に対して有効に色安定化゛されていた。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (1)芳香族ポリカーボネートホモポリマーもしくはb
    ポリマー単独またはとれと第一のポリマーとの混合物の
    電離放射線に対する安定性を増強する方法であって、ポ
    リマーの前記放射線に露出された際の黄変傾向を減少せ
    しめる非ポリマー性安定剤化合物少なくとも7種を有効
    量で含有せしめることからなり、前記非ポリマー性安定
    剤化合物が、電離放射線によって形成されるH基、OH
    基および/または水和電子の如き活性種に対する酸化作
    用が強いかおよび/または前記活性種との反応の反応速
    度が大きいことを特徴とする方法。 (2)前記第2のポリマーがポリマー混合物の黄変傾向
    を減少−昼しめるのに充分な量で存在することを特徴と
    する特許請求の範囲第1項に記載の方法、。 (3)安定剤化合物がカルボキシ(−COOH) 、エ
    ステル(−COOR)、ヒドロキシ(−OH)、チオ(
    〉S)、アニリド(C6H,、Nf−I−)、アミノ(
    −幽)、オキサミド(H2NCOCONH−)、カルボ
    ニル(>、CO)、チオカルボニル(>C8)およびホ
    スホのうちから選択された官能基を7種以上布すること
    を特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の方法。 (4)安定剤化合物がアルコール類、エステル類、障害
    フェノール系化合物類、チオエステル類、オキサミドフ
    ェノール系化合物類、シュウ酸アニリド化合物類、チア
    ゾール類、チオジアゾール類、チオ尿素、ホスホネート
    類、ホスホナイト類およびジホスホナイト類のうちから
    選択されることを特徴とする特許請求の範囲第3項に記
    載の方法。 (5)ポリカーボネート単独またはこれと第一のポリマ
    ーとの混合物10θ部に対して安定剤化合物を約00j
    〜約コ、0重量%の量で含有せしめることを特徴とする
    特許請求の範囲第1項に記載の方法。 (6) ポリカーボネートが、二価フェノールをカ−ボ
    ネート前駆体と反応させて製造されたホモポリマーであ
    り、式: (式中人は前記二価フェノールに由来する二価の芳香族
    基である)の繰り返し構造単位を有することを特徴とす
    る特許請求の範囲第1項に記載の方法。 (7)ポリカーボネートがポリ(ビスフェノールAカー
    ボネート)樹脂であることを特徴とする特許請求の範囲
    第3項に記載の方法。 (8)ポリカーボネートが線状ポリマー鎖中に繰1 り返しカーボネート基 ÷0−C−0−)、繰り返1 しカルボキシレート基 (C−0+、および芳香族炭素
    環式基を有するポリ(エステル−カーボネート)であり
    、ただし前記カルボキシレート基の少なくともいくつか
    と前記カーボネート基の少なくともいくつかは前記芳香
    族炭素環式基の環炭素原子に直接結合していることを特
    徴とする特許請求の範囲第1項に記載の方法。 (9)ポリ(エステル−カーボネート)がビスフェノー
    ル−Aとイソフタル酸またはテレフタル酸とから誘導さ
    れたものであることを特徴とする特許請求の範囲第と項
    に記載の方法。 (10)ポリ(エステル−カーボネート)がイソフタル
    酸、テレフタル酸およびビスフェノール−Aの混合物か
    ら誘導さねたものであることを特徴とする特許請求の範
    囲第ざ項に記載の方法。 (11)安定剤化合物が、フタル酸シアミル、フタル酸
    ジブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジベンジル、フ
    タル酸ジメチル、フタル酸フェニルクレジル、フタル酸
    フェニルペンシル、フタル酸ブチルペンシル、フタル酸
    ブチルシクロヘキシル、フタル酸オクチルクレジル、フ
    タル酸ジフェニル、フタル酸ジ−n−ヘキシル、フタル
    酸ジイソヘキシル、フタル酸ブチルオクチル、フタル酸
    ブチルデシル、フタル酸ジイソオクチル、フタル酸ジ−
    ノーエチルヘキシル、フタル酸ジ−n−オクチル、フタ
    ル酸ジイソノニル、フタル酸ジイソデシル、フタル酸ジ
    ー記−プロビルヘプチル、フタル酸シー +1−ノニル
    、フタル酸ジ−n−デシル、フタル酸ジトリデシル、お
    よびこれらの任意の混合物のうちから選択されたフタル
    酸エステルであることを特徴とする特許請求の範囲第7
    項に記載の方法。 (12)安定剤化合物が前項に掲げたフタル酸エステル
    のいずれかに対応するイソフタル酸エステルまたはテレ
    フタル酸エステルであることを特徴とする特許請求の範
    囲第1/項に記載の方法。 (13)安定剤化合物がアルコール類の7種であること
    を特徴とする特許請求の範囲第グ項に記載の方法。 Oa 前記アルコール類の7種がジオールであることを
    特徴とする特許請求の範囲第73項に記載の方法。 05)ジオールが/、¥−シクロヘキサンジメタツール
    であることを特徴とする特許請求の範囲第1グ項に記載
    の方法。 (+61 前記アルコール類の7種がポリオールである
    ことを特徴とする特許請求の範囲第73項に記載の方法
    。 卸 ポリオールがペンタエリトリトールであることを特
    徴とする特許請求の範囲第1乙項に記載の方法。 (L8)ポリオールがトリメチロールプロパンであるこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第1乙項に記載の方法。 卸 ポリオールが立体的に障害されていることを特徴と
    する特許請求の範囲第1乙項に記載の方法。 噛 立体障害フェノールが3.j−ジーter t−ブ
    チル−グーヒドロキシヒドロケイ皮酸の/、3.タート
    リス(2−ヒドロキシエチル)−8−トリアジン−2,
    グ、乙(/旦、3旦、タ旦)−トリオンとのトリエステ
    ルであることを特徴とする特許請求の範囲第79項に記
    載の方法 0υ 立体障害フェノールがテトラキス(メチレン(3
    ,j−ジーtert−プチルーグーヒドロキシーヒドロ
    シンナメート))メタンであることを特徴とする特許請
    求の範囲第79項に記載の方法。 (社)安定剤化合物がオキサミドフェノール系であるこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第グ項に記載の方法。 (ハ)オキサミドフェノール系化合物が認、2′−オキ
    サミド−ビス−(エチル3−C3,タージーter を
    −ブチル−グーヒドロキシフェニル)プロピオネ−ト)
    であることを特徴とする特許請求の範囲第、22項に記
    載の方法。 (2)安定剤化合物がチアジアゾール類の7種であるこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第グ項にN[載の方法。 (25)前記チアシアソール類が認、タージメルカプト
    −7,3,’l−チアジアゾールであることを特徴とす
    る特許請求の範囲第2グ項に記載の方法。 (2G) 安定剤化合物がシュウ酸アニリド誘導体であ
    ることを特徴とする特許請求の範囲第グ項に記載の方法
    。 (27)安定剤化合物がチオエステルであることな特徴
    とする特許請求の範囲第グ項に記載の方法。 (至)チオエステルがジラウリルチオジプロピオネート
    であることを特徴とする特許請求の範囲第27項に記載
    の方法。 09ノ 安定剤化合物がチアソール誘導体であることを
    特徴とする特許請求の範囲第グ項に記載の方法。 0υ)チアゾール誘導体が一一メルカブトベンソチアゾ
    ールであることを特徴とする特許請求の範囲第29項に
    記載の方法。 0])安定剤が有機リン化合物であることを特徴とする
    特許請求の範囲第グ項に記載の方法。 O搬 有機リン化合物がホスホネートであることを特徴
    とする特許請求の範囲第37項に記載の方法。 e31 ホスホネートがニッケル ビス(0−エチル(
    3,j−ジーtert−ブチルーグーヒドロキシベンジ
    ル))ホスホネートであることを特徴とする特許請求の
    範囲第32項に記載の方法。 04)有機リン化合物がジホスホナイトであることを特
    徴とする特許請求の範囲第37項に記載の方法。 c3■ ジホスホナイトがテトラキス(2,クージーt
    ert−ブチルフェニル)グ、グ′−ビフェニレンジホ
    スホナイトであることを特徴とする特許請求の範囲第3
    り項に記載の方法。 (支))安定剤化合物か無機酸塩であることを特徴とす
    る特許請求の範囲第1項に記載の方法。 C37) 酸が亜硫酸であることを特徴とする特許請求
    の範囲第3乙項に記載の方法。 關 塩が亜硫酸のアルカリ金属塩であることを特徴とす
    る特許請求の範囲第37項に記載の方法1(ト)塩が亜
    硫酸ナトリウムであることを特徴とする特許請求の範囲
    第3と項に記載の方法。 (40)第一のポリマーがポリエステルホモポリマーま
    たはコポリマーであることを特徴とする特許請求の範囲
    第1項に記載の方法。 (4υ 第一のポリマーがポリ(フルキレン芳香族ジカ
    ルボキシレート)であることを特徴とする特許請求の範
    囲第76項に記載の方法。 (42)ポリ(アルキレン芳香族ジカルボキシレート)
    が、脂肪族ジオールと芳香族ジカルボン酸から誘導され
    たものであり、式: (式中11は認〜グの整数である)の繰り返し単位を有
    することを特徴とする特許請求の範囲第97項に記載の
    方法。 (43ポリ(アルキレン芳香族ジカルボキシレート)が
    ポリ(エナレンテレフタレート)であることを特徴とす
    る特許請求の範囲第グλ項に記載の方法。 (44)ポリ(アルキレン芳香族ジカルボキシレート)
    が、脂環式ジオールと芳香族ジカルボン酸から誘導され
    たものであり、式: (式中、シクロヘキサン環はそのシス異性体およびトラ
    ンス異性体から選択され、Rは炭素原子を6〜20個含
    有し芳香族ジカルボン酸から誘導された脱カルボキシル
    化残基であるアリールまたは脂環式基を表わす)の繰り
    返し単位を有することを特徴とする特許請求の範囲第7
    7項に記載の方法。 (4つ ポリ(アルキレン芳香族ジカルボキシレート)
    が、/、クーシクロヘキサンジメタツールと、イソフタ
    ル酸とテレフタル酸の混合物との反応によって誘導され
    たものであり、式: の繰り返し単位を有することを特徴とする特許請求の範
    囲第クク項に記載の方法。 (46)ポリエステルコポリマーが、シクロヘキサンジ
    メタツール、アルキレングリコールおよび芳香族ジカル
    ボン酸から誘導されたものであり、式: (式中、シクロヘキサン環はそのシス異性体およびトラ
    ンス異性体から選択され、Rはイソフタル酸またはテレ
    フタル酸の脱カルボキシル化残基であり、nはΩ〜10
    の整数であり、X単位は約/〜約99重量%であり、y
    単位は約99〜約/重量%である)の単位を有すること
    を特徴とする特許請求の範囲第77項に記載の方法。 (47)コポリエステルが/、クーシクロヘキサンジメ
    タツールおよびエチレングリコールとテレフタル酸との
    反応によって誘導されたものであることを特徴とする特
    許請求の範囲第グ乙項に記載の方法。 (48)第1のポリマーがポリ(ビスフェノールA力−
    ホネート)ホモポリマーであり、第一のポリマーがポリ
    (エチレンテレフタレート)であることを特徴とする特
    許請求の範囲第1項に記載の方法。 (4G+第1のポリマーがポリ(ビスフェノールAカー
    ボネート)ホモポリマーであり、第2のポリマーが/、
    クーシクロへキサンジメタツール、エチレングリコール
    およびテレフタル酸のコポリエステルであることを特徴
    とする特許請求の範囲第1項に記載の方法。 tao+第1のポリマーがポリ(ビスフェノールAカー
    ボネート)ホモポリマーであり、第2のポリマーがエチ
    レングリコール、フタル酸および分枝剤から誘導された
    ヒドロキシで末端停止したポリエステルであることを特
    徴とする特許請求の範囲第1項に記載の方法。 6υ 第1のポリマーがポリ(ビスフェノールAカーボ
    ネート)ホモポリマーであり、第2のポリマーがエチレ
    ングリコール、ブチレングリコール・およびアジピン酸
    のポリエステルであることを特徴とする特許請求の範囲
    第1項に記載の方法。 62)第1のポリマーがポリ(ビスフェノールAカーボ
    ネート)ホモポリマーであり、第一のポリマーがテレフ
    タレート、インフタレートおよび/、クーシクロヘキサ
    ンジメタツールのコポリエステルであることを特徴とす
    る特許請求の範囲第1項に記載の方法。 l531 第1のポリマーがポリ(ビスフェノールAカ
    ーボネート)ホモポリマーであり、第一のポリマーが/
    、クーシクロヘキサンジメタツールと/、クーシクロヘ
    キサンジカルボン酸のポリエステルであることを特徴と
    する特許請求の範囲第1項に記載の方法。 6a 第1のポリマーがポリ(ビスフェノールAカーボ
    ネート)ホモポリマーであり、第一のポリマーがポリ(
    テトラメチレン)グリコール、/、クーブタンジオール
    、ネオペンチルグリコールおよびテレフタル酸から誘導
    された単位からなるコポリエステルであることを特徴と
    する特許請求の範囲第1項に記載の方法。 155) 2種のポリマーの量がこれら2種の合計70
    0重量部につき99二/〜/:99重量部の範囲にある
    ことを特徴とする特許請求の範囲第2項に記載の方法。
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