JPS60184218A - 光フアイバ心線 - Google Patents
光フアイバ心線Info
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- JPS60184218A JPS60184218A JP59039184A JP3918484A JPS60184218A JP S60184218 A JPS60184218 A JP S60184218A JP 59039184 A JP59039184 A JP 59039184A JP 3918484 A JP3918484 A JP 3918484A JP S60184218 A JPS60184218 A JP S60184218A
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- Japan
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- silicone rubber
- optical fiber
- fiber core
- coating layer
- thermosetting silicone
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- Granted
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C25/00—Surface treatment of fibres or filaments made from glass, minerals or slags
- C03C25/10—Coating
- C03C25/104—Coating to obtain optical fibres
- C03C25/106—Single coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C25/00—Surface treatment of fibres or filaments made from glass, minerals or slags
- C03C25/10—Coating
- C03C25/104—Coating to obtain optical fibres
- C03C25/1065—Multiple coatings
Landscapes
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
- Surface Treatment Of Glass Fibres Or Filaments (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
技術分野
この発明は光通信ケーブルなどに用いられる光フアイバ
心線に係り、特に長期供用後においても伝送損失の増加
のない光フアイバ心線に関する。
心線に係り、特に長期供用後においても伝送損失の増加
のない光フアイバ心線に関する。
発明の背景
光通信ケーブルの実用化に伴い、ケーブル敷設後長期間
（５〜１０年程度）経過すると、長波長域での伝送損失
が増加する現象が認められている。
（５〜１０年程度）経過すると、長波長域での伝送損失
が増加する現象が認められている。
この現象の原因は、光フアイバ心線の一次被覆材である
熱硬化シリコーンゴムから発生する微量の水素（Ｈ２）
ガスが光フアイバ内の欠陥と結びついて水酸基（ＯＨ基
）となり、この水酸基によって波長１．４μｍ以上の伝
送損失が増加するものと現在考えられている。
熱硬化シリコーンゴムから発生する微量の水素（Ｈ２）
ガスが光フアイバ内の欠陥と結びついて水酸基（ＯＨ基
）となり、この水酸基によって波長１．４μｍ以上の伝
送損失が増加するものと現在考えられている。
本発明者らは、この現象についてさらに追求したところ
、上記′微量の水素ガスが熱硬化シリコーンゴムの硬化
剤に含まれている未架橋の５ｉ−Ｈ基から発生するもの
であることを見い出し、よって上記伝送損失の増加を防
止するには熱硬化シリコーンゴムに残在する５ｉＩ（基
を減少または皆無とすればよいことを知り、この発明を
得るに至った。
、上記′微量の水素ガスが熱硬化シリコーンゴムの硬化
剤に含まれている未架橋の５ｉ−Ｈ基から発生するもの
であることを見い出し、よって上記伝送損失の増加を防
止するには熱硬化シリコーンゴムに残在する５ｉＩ（基
を減少または皆無とすればよいことを知り、この発明を
得るに至った。
発明の目的
この発明は係る事情に基づいてなされたもので、長期の
供用後であっても伝送損失の増加がない光通信ケーブル
を構成することのできる光ファイバ心線を提供すること
を目的とするものである。
供用後であっても伝送損失の増加がない光通信ケーブル
を構成することのできる光ファイバ心線を提供すること
を目的とするものである。
発明の構成
との発明の光フアイバ心線は、その−次被機層をなす熱
硬化シリコーンゴムに、この熱硬化シリコーンゴムを赤
外吸収スペクトル測定した際、波数２１００〜２２００
ロー１のＳｉＨ伸縮振動による吸収が試料膜厚０．ＩＪ
Ｉ’Ｊの時、透過率が７０俤以上のものを用いるもので
ある。
硬化シリコーンゴムに、この熱硬化シリコーンゴムを赤
外吸収スペクトル測定した際、波数２１００〜２２００
ロー１のＳｉＨ伸縮振動による吸収が試料膜厚０．ＩＪ
Ｉ’Ｊの時、透過率が７０俤以上のものを用いるもので
ある。
一般に、ＳｉＨ基の伸縮振動による赤外吸収ピークは、
２０００〜３０００副−１に表われるが、この用途に使
われる熱硬化シリコーンゴム中に残る未架橋Ｓ１Ｈ基の
吸収ピークは、２１００〜２２００ｃｙ＋＋−’ に表
われるので、この波数域での吸−聴ピークを対象とすれ
ばよい。また、上記透過率は、試料の膜厚（試料光路長
）を０．１ｕ＋とじ、かつ大気を対象としてめたもので
あって、これが７０係未満となると硬化シリコーンゴム
中の残留Ｓｉｎ 基量が多く、伝送損失増加阻止効果を
得ることが不可能となる。
２０００〜３０００副−１に表われるが、この用途に使
われる熱硬化シリコーンゴム中に残る未架橋Ｓ１Ｈ基の
吸収ピークは、２１００〜２２００ｃｙ＋＋−’ に表
われるので、この波数域での吸−聴ピークを対象とすれ
ばよい。また、上記透過率は、試料の膜厚（試料光路長
）を０．１ｕ＋とじ、かつ大気を対象としてめたもので
あって、これが７０係未満となると硬化シリコーンゴム
中の残留Ｓｉｎ 基量が多く、伝送損失増加阻止効果を
得ることが不可能となる。
発明の作用効果
このように、硬化後のシリコーンゴム中に残存するＳｉ
Ｈ基を、赤外吸光法によってめた上記特定値未満とする
ごとによシ、熱硬化シリコーンゴム中の阻Ｈ基量が少な
く、これから発生するＨ２ガス量も減少し、光フアイバ
中のＯＨ基の増加が防止され、伝送損失の増加が有効に
抑えられる。
Ｈ基を、赤外吸光法によってめた上記特定値未満とする
ごとによシ、熱硬化シリコーンゴム中の阻Ｈ基量が少な
く、これから発生するＨ２ガス量も減少し、光フアイバ
中のＯＨ基の増加が防止され、伝送損失の増加が有効に
抑えられる。
よって、この硬化シリコーンゴムよりなる一次被覆層を
持つ光フアイバ心線は、長期間供用後も良好な伝送特性
を維持することができる。
持つ光フアイバ心線は、長期間供用後も良好な伝送特性
を維持することができる。
実験例
以下、実験例を示して上記作用効果を確認する。
熱硬化シリコーンゴム中に残存する未架橋のＳｉＨ基は
、赤外分光光度法によって定量できる。
、赤外分光光度法によって定量できる。
第１図の赤外吸収スペクトルは、ＳｉＨ基ヲ多く含む熱
硬化シリコーンゴムの赤外吸収スペクトルで、波数２１
５０ｃｍ−” の鋭く強い吸収ピークはＳｉＨ基の伸縮
振動による吸収ピークであり、この吸収ピークの高さに
よって熱硬化シリコーンゴム中の残留ＳｉＨ基の濃度を
めることができる６この吸収スペクトルは、硬化前のシ
リコーンゴムをガラス板上に膜厚０．１鴎に塗布し、こ
れを光フアイバ心線の一次被覆層形成時と同様の架橋条
件によって硬化せしめて製膜し光膜状試料についてめた
ものである。また、第２図および第３図は、架橋条件を
変えて架橋度合を変化させ硬化シリコーンゴム中の残存
ＳｉＨ基量を変えた試料についての吸収スペクトルであ
る。第２図のスペクトルでは２１５０ｃｙｙ＋−’ の
透過率は約７８係で、ＳｉＨ基量が第１図のものに比べ
て大幅に減少していることがわかる。第３図は透過率が
約８２％であって、はぼバックグラウンドと同じ透過率
であり、ＳｉＨ基量がほとんど残っていないものと考え
られるものである。
硬化シリコーンゴムの赤外吸収スペクトルで、波数２１
５０ｃｍ−” の鋭く強い吸収ピークはＳｉＨ基の伸縮
振動による吸収ピークであり、この吸収ピークの高さに
よって熱硬化シリコーンゴム中の残留ＳｉＨ基の濃度を
めることができる６この吸収スペクトルは、硬化前のシ
リコーンゴムをガラス板上に膜厚０．１鴎に塗布し、こ
れを光フアイバ心線の一次被覆層形成時と同様の架橋条
件によって硬化せしめて製膜し光膜状試料についてめた
ものである。また、第２図および第３図は、架橋条件を
変えて架橋度合を変化させ硬化シリコーンゴム中の残存
ＳｉＨ基量を変えた試料についての吸収スペクトルであ
る。第２図のスペクトルでは２１５０ｃｙｙ＋−’ の
透過率は約７８係で、ＳｉＨ基量が第１図のものに比べ
て大幅に減少していることがわかる。第３図は透過率が
約８２％であって、はぼバックグラウンドと同じ透過率
であり、ＳｉＨ基量がほとんど残っていないものと考え
られるものである。
そこで、波数２１５０ｃｒ１！−” での透過率が、８
２チ、７８俤、７ｏ憾、５５係となるように架橋条件を
変えて硬化せしめた４種の熱硬化シリコーンゴムよシな
る一次被覆層を、ＣＶＤ法およびＶＡＤ法によって得ら
れた光ファイバに設けて光フアイバ心線を計８種製造し
九。これらの心線の初期の伝送特性を測定したのち、２
０ｏ℃、６時間加熱して促進劣化試験を行い、試験後の
伝送特性を測定した。加熱試験前後の波長１．４μｍで
の伝送損失の増加量と、上記透過率との関係を第４図に
示した。第４図のグラフから透過率が８０係前後であれ
ば＃１とんど伝送損失増加がないことがわかるｆｌまた
、７０％以上であれば損失増加は１ ａＢ／［ｍ程度に
抑えられることがわかり、７０％未満では、特にＣＶＤ
法による光）がイバにあっては損失増加が急増する傾向
にあり、好ましくないことが理解される。そして、２ｏ
ｏ℃で６時間の加熱促進劣化試験は、実使用期間約５〜
７年間に相当することが、別にわがっているので、透過
率８０４程度の熱硬化シリコーンゴムよりなる一次被覆
層を持つ光７アイパ心線は５年程度の実供用後において
も、伝送損失の増加がないものと予想される。
２チ、７８俤、７ｏ憾、５５係となるように架橋条件を
変えて硬化せしめた４種の熱硬化シリコーンゴムよシな
る一次被覆層を、ＣＶＤ法およびＶＡＤ法によって得ら
れた光ファイバに設けて光フアイバ心線を計８種製造し
九。これらの心線の初期の伝送特性を測定したのち、２
０ｏ℃、６時間加熱して促進劣化試験を行い、試験後の
伝送特性を測定した。加熱試験前後の波長１．４μｍで
の伝送損失の増加量と、上記透過率との関係を第４図に
示した。第４図のグラフから透過率が８０係前後であれ
ば＃１とんど伝送損失増加がないことがわかるｆｌまた
、７０％以上であれば損失増加は１ ａＢ／［ｍ程度に
抑えられることがわかり、７０％未満では、特にＣＶＤ
法による光）がイバにあっては損失増加が急増する傾向
にあり、好ましくないことが理解される。そして、２ｏ
ｏ℃で６時間の加熱促進劣化試験は、実使用期間約５〜
７年間に相当することが、別にわがっているので、透過
率８０４程度の熱硬化シリコーンゴムよりなる一次被覆
層を持つ光７アイパ心線は５年程度の実供用後において
も、伝送損失の増加がないものと予想される。
第５図は、ＣＶＤ法によって得られた光ファイバに透過
率８２優の熱硬化シリコーンゴムの一次被覆層を設けた
光フアイバ心線についての加熱促進方化試験前後の伝送
特性の変化を示すものである。この結果から波長１．０
〜１．８μｍの領域では、伝送損失の増加がほとんど認
められないこと力！わ７ノ為 った。
率８２優の熱硬化シリコーンゴムの一次被覆層を設けた
光フアイバ心線についての加熱促進方化試験前後の伝送
特性の変化を示すものである。この結果から波長１．０
〜１．８μｍの領域では、伝送損失の増加がほとんど認
められないこと力！わ７ノ為 った。
以上の実験結果から、膜厚０．１間で波数２１００〜２
２００ｃｍ−” での赤外吸収スペクトルの透過率が７
０係以上の熱硬化シリコーンゴムよりなる一次被覆層を
持つ光フアイバ心線は、−次被覆層中にＳｉＨ基がほと
んど残留しておらず、このＳｉＨ基に起因するＩ■２０
発生がなく、長期にわたっても伝送損失の増加のないも
のであることがわかる。
２００ｃｍ−” での赤外吸収スペクトルの透過率が７
０係以上の熱硬化シリコーンゴムよりなる一次被覆層を
持つ光フアイバ心線は、−次被覆層中にＳｉＨ基がほと
んど残留しておらず、このＳｉＨ基に起因するＩ■２０
発生がなく、長期にわたっても伝送損失の増加のないも
のであることがわかる。
製造方法
次に、ＳｉＨ基がほとんど存在しない熱硬化シリコーン
ゴムよｆｉ−＆る一次被覆層を持つ光フアイバ心線を製
造する方法を説明する。
ゴムよｆｉ−＆る一次被覆層を持つ光フアイバ心線を製
造する方法を説明する。
熱硬化シリコーンゴム中のＳｉＨ基を可及的に少なくす
るには、十分に架橋して硬化剤が１００係架橋するよう
にすればより０したがって、架橋温度を上げ、架橋時間
を長くすればよいことになる。
るには、十分に架橋して硬化剤が１００係架橋するよう
にすればより０したがって、架橋温度を上げ、架橋時間
を長くすればよいことになる。
しかし、架橋時間を長くすること法生産スピードの低下
を招き、まだ硬化炉の炉長を長くする必要が生じて設備
費の増大を来す。よって、架橋温度を上げるのが実用的
である。ところが、ＳｉＨ基が残らないような架橋温度
条件ではシリコーンゴムの燃焼が生じる。
を招き、まだ硬化炉の炉長を長くする必要が生じて設備
費の増大を来す。よって、架橋温度を上げるのが実用的
である。ところが、ＳｉＨ基が残らないような架橋温度
条件ではシリコーンゴムの燃焼が生じる。
例えば、硬化炉の有効炉長６０ ｃｍ、線速６０Ｓ／分
とした時、従来の架橋温度は７００〜８００℃としてい
る。しかしこれではＳｉＨ基が残ってしまうので、有効
炉長および線速を同様にしてＳｉＨ基が残らないように
するには架橋温度を９００〜１０００℃にしなければな
らない。ところがこのような高温ではシリコーンゴムは
燃焼しはじめてしまう。そこで、硬化炉内にＮ２ ガス
などの酸素を含まないガスを流し、炉内の雰囲気の０２
濃度 −を１０ ｖｏ−ｅ１以下として燃焼を防ぐよ
うにする。
とした時、従来の架橋温度は７００〜８００℃としてい
る。しかしこれではＳｉＨ基が残ってしまうので、有効
炉長および線速を同様にしてＳｉＨ基が残らないように
するには架橋温度を９００〜１０００℃にしなければな
らない。ところがこのような高温ではシリコーンゴムは
燃焼しはじめてしまう。そこで、硬化炉内にＮ２ ガス
などの酸素を含まないガスを流し、炉内の雰囲気の０２
濃度 −を１０ ｖｏ−ｅ１以下として燃焼を防ぐよ
うにする。
特に、ヘリウムガスを導入すれば、ヘリウムガスは熱伝
導率が高いので、加熱効果が高まり、好ましい結果を得
ることができる。
導率が高いので、加熱効果が高まり、好ましい結果を得
ることができる。
また、この硬化処理は、未硬化のシリコーンゴムを光フ
ァイバに塗布後、高温条件で一挙に完全架橋を行うよう
にしてもよく、また通常の温度条件で架橋した心線をさ
らに高温条件でアフターキュアするようにしてもよい。
ァイバに塗布後、高温条件で一挙に完全架橋を行うよう
にしてもよく、また通常の温度条件で架橋した心線をさ
らに高温条件でアフターキュアするようにしてもよい。
さらに、架橋温度を上げるかわりに、錫、亜鉛などの金
属塩や有機アミン類の硬化促進剤（触媒）を添加して完
全架橋を計るようにしてもよい。
属塩や有機アミン類の硬化促進剤（触媒）を添加して完
全架橋を計るようにしてもよい。
また、硬化剤を改良してＳｉＨ基を含まないようなもの
を開発して使用してもよく、要は熱硬化シリコーンゴム
を光フアイバ上に被覆した状態においてＳｉＨ基が特定
量以下であれば、どのような方法でも採用することがで
きる。
を開発して使用してもよく、要は熱硬化シリコーンゴム
を光フアイバ上に被覆した状態においてＳｉＨ基が特定
量以下であれば、どのような方法でも採用することがで
きる。
第１図ないし第３図はいずれも熱硬化シリコーンゴムの
赤外吸収スペクトルであり、ＳｉＨ基濃度の異る３種の
熱硬化シリコーンゴムについて得られたスペクトルであ
る。第４図は熱硬化シリコーンゴムの２１５０ｃｍ−”
での透過率と、この熱硬化シリコーンゴムよりなる一
次被覆層を有する光フアイバ心線の加熱促進試験による
１、４μｍでの伝送損失増加との関係を示すグラフ、第
５図は透過率８２壬の熱硬化シリコーンゴムを一次被覆
層とする光フアイバ心線の加熱促進劣化試験前後の伝送
特性を示すスペクトルである。 第１図 ｅ〔長（，４１ｍ） ２．５ ３．０ ４．０ ５．０ ４０００ ３２００ ２４００ ＋９００３６００ ２
８００ ２０００ １８００渡牧 （ｃｍ ） 第２図 シＬ表 （Ａｌｍ） ２．５ ３．０ ４．０ ５．０ ３６００ ２８００ ２０００ ＋８００遺 朕 （ｃ
ｍ ） 第３図 δＬ艮（ｕｍｉ シＬ［１ｃｍ） 第４図 ５０ ６０ ７０ ８０ ９０ ；ｆＪ−款２１５０ｃｍ’マｅ＋ Ｌ ｋ ”ＩＦ’
ｔ％）第５図 １．０ １．２ １．４ ＋、６ １．８５艮ｋ（ｕｍ
） 手続補正書（１４戊） ＩＩＩＪｔｌ 卯、＋２．？ｒ’ ＋１１、 事件の表
示 昭和 ５９ 年特話：願第３９ Ｊ ８４−８２、 発
明の６拍１ 光フアイバ心線 ３、 補正をする者 特６１’ ｔｌｉ願人 （５１ｇ）藤倉’ｒ［線株式会社 （ほか７名）４、代
理人 （り 明細書の「特許請求の範囲」、「発明の１１Ｙ絹
な説明」および「図面のＦｉｆｊ単な説明」の各１１＆
４゜６・ 補正の内容 （１）特許請求の範囲を別紙の辿りに訂正する。 （２） 明細書第２頁第３行目の「−次ｍ＊材」、第３
頁第３行目および第グ頁第７〜を行目の「−次被覆層」
をいずれも「被覆層」て訂正する。 （３）明細＠第グ頁第９行目の「維持することができる
。」の後に改行して次の文章ご加入する。 ［７２お、この発明における被覆層とは光ファイバ裸線
に直接接するものを云い、この被覆層のみでもツＣファ
イバ心線とされる他この被覆層上に別の１層もしくは多
層の被覆を設けて光フアイバ心線とされることもある。 」 （４）明細書第５頁第３行目およびｊＭ／ｇ行目の「−
次ｆ＆覆層」を「被覆層」に訂正する。 （５）明細畜第６頁第／Ｇ’〜／ｊ行目および第１デ〜
２０行目の「−次彼置層」を「被覆層」に訂正する。 （６）明細１第７頁８ｇに行目の２つの「−次被置層」
をいずれも「被覆層」に訂正する。 （７）明細書第７頁第１ｊ行目の「−次被覆層」を「ｆ
＆積層」て訂正する。 （８）明細１！ｆ第ワ貞第１２行目の「採用することが
できる−・の後に、改行して次の文章を加入する。 「〔製造例〕 溶融紡糸して得られた径１５０μ禦の光ファイバ裸線に
直ちに未硬化液状シリコーンゴムｆｌｈ布し、硬化炉に
導き、シリコーンゴムを硬化せしめて被覆層を形成した
。この際の硬化条件？ｒ：種々に変更し、被覆層中の残
留ＳｉＨ基濃度を赤外吸収法にて試料厚さ０．１鵡、波
数２１５０ＣＩ１１−１ での透過率で評価した。 ■ 硬化炉長：６０Ｃ１１ 走行速度：６０ｍ１分 炉内雰囲気：大気中（酸素２０ ｖｏ１％）温 度＝７
００〜８００℃ 透過率＝５６％ ■ 硬化炉長：６０ｃｍ 走行速度：６０ｍ／分 炉内ＳＯ気：醗素１０ｖｏ／％、歳泰９０ ｖｏ１％温
度：９００〜１０００”Ｃ 透過率ニア８％ Ｏ硬化炉長：（ｉＱｃｍ 走行速ｆ：６０ｍ／分 炉内雰囲気：ヘリウム２０マＯ１％、 窒素 ８０１０１％ ｉｌｌ！ 度８９００〜１０００”Ｃ 透過率：８２％ また、２段硬化法によってシリコーンゴムを硬化せしめ
、被覆層を形成した。この被ａｆ層につ℃１ても同様に
赤外吸収法で残留ＳｉＨ基濃度を測定し７２：Ｏ ０１段目硬化 硬化炉長：６Ｑｃｍ 走行速度’： ６０ Ｉ１１／分 炉内雰囲気：大気中 温 度ニア００〜８００℃ ０２段目硬化 硬化炉長Ｈ５Ｑｃ＋ｎ 走行速度：８０講／分 炉内雰囲気：酸素１０ ｖｏＪ％、窒素９０ｖＯ“温
度；９００〜１０００’Ｃ 得られた被覆層の透過率は７５％であった。 以上の結果から、酸素含有率１０ ｖｏＡ！％以丁であ
れば９００〜１０００°Ｃの高温硬化がｉＪ能となり、
この条件で硬化することにより残留ＳｉＨ基濃度を所￥
蓋以下にできることがわかる。」（９）明細書外９貞纂
／９行目および第１０頁第２行目の「−次被覆層」を「
被覆層」に訂正する。 特許請求の範囲 石英系光ファイバに熱硬化シリコーンゴムよりなる被覆
層を設けてなる光フアイバ心線において、上記熱硬化シ
リコーンゴムが、赤外吸収スペクトル測定において、波
数２１００〜２２００ｃｍ−１のＳｔＨ伸縮振動による
吸収が、試料膜厚０．ＩＭで透過率７０％以上であるこ
とを特徴とする元ファイバ心線。
赤外吸収スペクトルであり、ＳｉＨ基濃度の異る３種の
熱硬化シリコーンゴムについて得られたスペクトルであ
る。第４図は熱硬化シリコーンゴムの２１５０ｃｍ−”
での透過率と、この熱硬化シリコーンゴムよりなる一
次被覆層を有する光フアイバ心線の加熱促進試験による
１、４μｍでの伝送損失増加との関係を示すグラフ、第
５図は透過率８２壬の熱硬化シリコーンゴムを一次被覆
層とする光フアイバ心線の加熱促進劣化試験前後の伝送
特性を示すスペクトルである。 第１図 ｅ〔長（，４１ｍ） ２．５ ３．０ ４．０ ５．０ ４０００ ３２００ ２４００ ＋９００３６００ ２
８００ ２０００ １８００渡牧 （ｃｍ ） 第２図 シＬ表 （Ａｌｍ） ２．５ ３．０ ４．０ ５．０ ３６００ ２８００ ２０００ ＋８００遺 朕 （ｃ
ｍ ） 第３図 δＬ艮（ｕｍｉ シＬ［１ｃｍ） 第４図 ５０ ６０ ７０ ８０ ９０ ；ｆＪ−款２１５０ｃｍ’マｅ＋ Ｌ ｋ ”ＩＦ’
ｔ％）第５図 １．０ １．２ １．４ ＋、６ １．８５艮ｋ（ｕｍ
） 手続補正書（１４戊） ＩＩＩＪｔｌ 卯、＋２．？ｒ’ ＋１１、 事件の表
示 昭和 ５９ 年特話：願第３９ Ｊ ８４−８２、 発
明の６拍１ 光フアイバ心線 ３、 補正をする者 特６１’ ｔｌｉ願人 （５１ｇ）藤倉’ｒ［線株式会社 （ほか７名）４、代
理人 （り 明細書の「特許請求の範囲」、「発明の１１Ｙ絹
な説明」および「図面のＦｉｆｊ単な説明」の各１１＆
４゜６・ 補正の内容 （１）特許請求の範囲を別紙の辿りに訂正する。 （２） 明細書第２頁第３行目の「−次ｍ＊材」、第３
頁第３行目および第グ頁第７〜を行目の「−次被覆層」
をいずれも「被覆層」て訂正する。 （３）明細＠第グ頁第９行目の「維持することができる
。」の後に改行して次の文章ご加入する。 ［７２お、この発明における被覆層とは光ファイバ裸線
に直接接するものを云い、この被覆層のみでもツＣファ
イバ心線とされる他この被覆層上に別の１層もしくは多
層の被覆を設けて光フアイバ心線とされることもある。 」 （４）明細書第５頁第３行目およびｊＭ／ｇ行目の「−
次ｆ＆覆層」を「被覆層」に訂正する。 （５）明細畜第６頁第／Ｇ’〜／ｊ行目および第１デ〜
２０行目の「−次彼置層」を「被覆層」に訂正する。 （６）明細１第７頁８ｇに行目の２つの「−次被置層」
をいずれも「被覆層」に訂正する。 （７）明細書第７頁第１ｊ行目の「−次被覆層」を「ｆ
＆積層」て訂正する。 （８）明細１！ｆ第ワ貞第１２行目の「採用することが
できる−・の後に、改行して次の文章を加入する。 「〔製造例〕 溶融紡糸して得られた径１５０μ禦の光ファイバ裸線に
直ちに未硬化液状シリコーンゴムｆｌｈ布し、硬化炉に
導き、シリコーンゴムを硬化せしめて被覆層を形成した
。この際の硬化条件？ｒ：種々に変更し、被覆層中の残
留ＳｉＨ基濃度を赤外吸収法にて試料厚さ０．１鵡、波
数２１５０ＣＩ１１−１ での透過率で評価した。 ■ 硬化炉長：６０Ｃ１１ 走行速度：６０ｍ１分 炉内雰囲気：大気中（酸素２０ ｖｏ１％）温 度＝７
００〜８００℃ 透過率＝５６％ ■ 硬化炉長：６０ｃｍ 走行速度：６０ｍ／分 炉内ＳＯ気：醗素１０ｖｏ／％、歳泰９０ ｖｏ１％温
度：９００〜１０００”Ｃ 透過率ニア８％ Ｏ硬化炉長：（ｉＱｃｍ 走行速ｆ：６０ｍ／分 炉内雰囲気：ヘリウム２０マＯ１％、 窒素 ８０１０１％ ｉｌｌ！ 度８９００〜１０００”Ｃ 透過率：８２％ また、２段硬化法によってシリコーンゴムを硬化せしめ
、被覆層を形成した。この被ａｆ層につ℃１ても同様に
赤外吸収法で残留ＳｉＨ基濃度を測定し７２：Ｏ ０１段目硬化 硬化炉長：６Ｑｃｍ 走行速度’： ６０ Ｉ１１／分 炉内雰囲気：大気中 温 度ニア００〜８００℃ ０２段目硬化 硬化炉長Ｈ５Ｑｃ＋ｎ 走行速度：８０講／分 炉内雰囲気：酸素１０ ｖｏＪ％、窒素９０ｖＯ“温
度；９００〜１０００’Ｃ 得られた被覆層の透過率は７５％であった。 以上の結果から、酸素含有率１０ ｖｏＡ！％以丁であ
れば９００〜１０００°Ｃの高温硬化がｉＪ能となり、
この条件で硬化することにより残留ＳｉＨ基濃度を所￥
蓋以下にできることがわかる。」（９）明細書外９貞纂
／９行目および第１０頁第２行目の「−次被覆層」を「
被覆層」に訂正する。 特許請求の範囲 石英系光ファイバに熱硬化シリコーンゴムよりなる被覆
層を設けてなる光フアイバ心線において、上記熱硬化シ
リコーンゴムが、赤外吸収スペクトル測定において、波
数２１００〜２２００ｃｍ−１のＳｔＨ伸縮振動による
吸収が、試料膜厚０．ＩＭで透過率７０％以上であるこ
とを特徴とする元ファイバ心線。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 石英系光ファイバに熱硬化シリコーンゴムよりなる一次
被覆層を設けてなる光フアイバ心線において、 上記熱硬化シリプーンゴムが、赤外吸収スペクトル測定
において、波数２１０ （１〜２２００ｃｍ−１のＳｉ
Ｈ伸縮振動による吸収が、試料嗅厚０．１ｕで透過率７
（１以上であることを＊徴とする光フアイバ心線。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59039184A JPS60184218A (ja) | 1984-03-01 | 1984-03-01 | 光フアイバ心線 |
| EP85301247A EP0157488B1 (en) | 1984-03-01 | 1985-02-25 | Optical fiber |
| DE8585301247T DE3561312D1 (en) | 1984-03-01 | 1985-02-25 | Optical fiber |
| US06/706,574 US4679899A (en) | 1984-03-01 | 1985-02-28 | Optical fiber |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59039184A JPS60184218A (ja) | 1984-03-01 | 1984-03-01 | 光フアイバ心線 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60184218A true JPS60184218A (ja) | 1985-09-19 |
| JPH0313563B2 JPH0313563B2 (ja) | 1991-02-22 |
Family
ID=12546023
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59039184A Granted JPS60184218A (ja) | 1984-03-01 | 1984-03-01 | 光フアイバ心線 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4679899A (ja) |
| EP (1) | EP0157488B1 (ja) |
| JP (1) | JPS60184218A (ja) |
| DE (1) | DE3561312D1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0488045U (ja) * | 1990-12-18 | 1992-07-30 |
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| IT1246761B (it) * | 1990-07-02 | 1994-11-26 | Pirelli Cavi Spa | Cavi a fibre ottiche e relativi componenti contenenti una miscela omogenea per proteggere le fibre ottiche dall' idrogeno e relativa miscela barriera omogenea |
| US5320904A (en) * | 1991-08-12 | 1994-06-14 | Corning Incorporated | Reduction of hydrogen generation by silicone-coated optical fibers |
| FI110638B (fi) * | 1998-10-06 | 2003-02-28 | Metso Paper Automation Oy | Menetelmä ja laite liikkuvalla alustalla olevan silikonipäällysteen määrän mittaamiseksi |
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|---|---|---|---|---|
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-
1984
- 1984-03-01 JP JP59039184A patent/JPS60184218A/ja active Granted
-
1985
- 1985-02-25 EP EP85301247A patent/EP0157488B1/en not_active Expired
- 1985-02-25 DE DE8585301247T patent/DE3561312D1/de not_active Expired
- 1985-02-28 US US06/706,574 patent/US4679899A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0488045U (ja) * | 1990-12-18 | 1992-07-30 |
Also Published As
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|---|---|
| EP0157488A3 (en) | 1986-07-30 |
| US4679899A (en) | 1987-07-14 |
| JPH0313563B2 (ja) | 1991-02-22 |
| EP0157488A2 (en) | 1985-10-09 |
| DE3561312D1 (en) | 1988-02-11 |
| EP0157488B1 (en) | 1988-01-07 |
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