JPS60183191A - 光学的情報記録媒体 - Google Patents

光学的情報記録媒体

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JPS60183191A
JPS60183191A JP59037291A JP3729184A JPS60183191A JP S60183191 A JPS60183191 A JP S60183191A JP 59037291 A JP59037291 A JP 59037291A JP 3729184 A JP3729184 A JP 3729184A JP S60183191 A JPS60183191 A JP S60183191A
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康司 大森
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は光学的情報記録媒体に関するものであり、特に
、レーザービームを用いて記録層に微小なビットをあけ
たシ、微小な変質点を形成して情報の記録を行ういわゆ
るヒートモードのＤＲＡＷ用記録媒体に関するものであ
る。
（従来技術） 光学的情報記録方式は書込みヘッドあるいは読取シヘッ
ドと記録媒体とが非接触であるため、摩耗劣化が無いと
いう利点があり、今日まで種々の記録媒体が開発されて
いる。
このような光記録媒体のうち、暗室による画像処理が不
要である等の点で、ヒートモード光記録媒体の開発が活
発になっている。
このヒートモードの光記録媒体は、記録光を熱として利
用する光記録媒体であり、普通は、レーザー等の記録光
で媒体の一部を融解蒸発除去して、ピントといわれる小
穴を形成して書き込みを行い、このピントを読み出し光
で検出して読み出しを行う。
このようなピント形式方式の媒体では基体上に、例えば
ニトロセルロース等の自己酸化性化合物と光吸収体とを
含む記録層を設層し、ニトロセルロース等を分解させて
ピントを形成する。
上記の光吸収体のうち、代表的に用いられる色素として
はシアニン色素がある。しかし、シアニン色素を記録層
中に含有させたときには゛、熱や光に対する安定性が低
く、生保存性が悪い。例えば、室内光にさらした状態で
保存するような場合、書き込みができない状態になって
しまう。光吸収体として、テトラヒドロコリンまたはコ
コールの錯体を用いたものはシアニン色素系と比べて、
いわゆる記録媒体の耐久性が著しく向上している（特開
昭５８−１９７０８’８号）が、耐光性においては、未
だ実用レベルにまでは達しておらず、読み出し光のくり
返し照射によシ、いわゆる再生劣化を生じ、シ對比が劣
化する。
また、特に色素と熱可塑性樹脂とから記録層を形成する
方式のものは、一旦形成したピントを消去光や熱により
消去して、再書き込みをすることができるが、このよう
な消去により、書き込み特性が劣化してしまう。また、
書き込み感度や読み出しのＳハ比も十分でない。
一般には、記録層に、上記色素とともに、自己酸化性化
合物または熱可塑性樹脂を含有させて、自己酸化性化合
物を燃焼させたり、熱可塑性樹脂を融解させてピットを
形成したシ、変形スポットを形成させている。また、こ
れら化合物や樹脂は記録膜の物性を向上させる役目をす
る。
上記の自己酸化性化合物としては従来一般にニトロセル
ロースが使用されている。光学的記録媒体に使われるニ
トロセルロースはアルコール類に不溶であるために、ア
ルコール以外の有機溶剤に溶解させて、基板に塗布し、
その後、溶剤を蒸発除去する方法で、記録媒体塗膜を基
板上に付着形成させている。
しかし、基板がポリメチルメタアクリ１ノート。
ポリカーボネートの如きプラスチック成形板から成る場
合には、ニトロセルロースの溶剤、即ちケトン類、エス
テル類、及び一般に染料の良溶媒として知られているノ
・ロゲン化炭化水素類は、プラスチック成形基板をも、
容易に溶解させてしまう。
このために、例えば光記録ディスクの場合には、プラス
チック製のディスク基板のグループ（溝）をも溶解して
しまうので、グループを完全に残した状態で、記録膜を
塗布することが不可能であった。　。
またアルコール類に溶解するような低粘度のニトロセル
ロースの場合には、その溶液粘度が低いので、その後一
旦、溶液中に分散させた顔料がすぐに沈降してしまうの
で、顔料の分散状態の良好な塗膜、即ち記録媒体を得る
ことが出来なかった。
一方、アルコール可溶の染料を使用した時には外観上、
良好な塗膜が得られるけれども、この塗膜は強靭性に欠
けているためて、いわゆる耐久性に乏しいという欠陥が
あった。
本発明者らの実験によると、染料−ニトロセルロース系
塗膜は良好なピットを形成することが出来るけれども、
顔料−ニトロセルロース系塗膜では、良好なピットを形
成することが難しく、特に無機顔料−ニトロセルロース
系では満足すべきピットを形成することが出来なかった
。
（発明の目的） したがって、本発明の目的は保存安定性に優れ且つ書込
みおよび読取り感度またはＳ／Ｎ比の高いバランスのと
れたヒートモードの光学的情報記録媒体を提供すること
にある。
本発明者らは、このような目的につき鋭意研究を行った
結果、このような目的を達成する光吸収体としての顔料
または／および染料とセルロイドの組合せを見い出し、
本発明をなすに至った。
すなわち、本発明による光学的情報記録媒体は基材と、
この基材上に設けられた記録層とを有し、この記録層に
レーザー光を照射して記録層を燃焼まだは変質させて記
録点を形成することによって情報を記録する光学的情報
記録媒体において、上記記録層がセルロイドと光吸収剤
とによって構成されていることを特徴としている。
上記光吸収剤としては公知の任意のものが使用できるが
、特に顔料が好ましく、顔料としては０．６〜０．８部
ｍの領域に吸収波長を持つものが好ましい。
一般によく知られている顔料として、無機顔料では緑、
青、紫、系統色のものがよく、クロム緑。
酸化クロム緑、ピリジアン、紺青９群青、コバルト青、
マンガン紫、コバルト紫１等が例示される。
有機顔料ではフタロシアニン−金属酸体の一群が例示さ
れる。
これらの顔料は、記録光の照射によシ、記録光を吸収し
て、光を熱に変換することによりビットを形成すること
か出来る。
上記基材は公知の任意の材料で作ることができ、アルミ
ニウム、ステンレススチール等の金属板。
ガラス板、あるいはポリメチルメタクリレート。
ポリカーボネート等のプラスチック板、さらにはポリエ
ステルフィルム等より成るテープであってもよい。
本発明の特徴は記録層が光吸収剤を分散させたセルロイ
ドによって構成されている点にある。
先ず、従来自己酸化性化合物として周知のニトロセルロ
ースとセルロイドとの相違を説明する。
セルロイドはニトロセルロースを原料にして作られるが
、両者の特性は大きく相違し、一般に両者は全く別のも
のとして扱われている。すなわちニトロセルロースは一
般にアルコール類にハ溶解せず、好溶剤はエステル類で
ある。溶剤中に非溶媒であるアルコールを添加する場合
もあるが、これは塗膜特性を改良するためで、溶剤の主
体はエステル類である。とれて対し、セルロイドは一般
にチッソ含量（Ｎ％）が１１前後のニトロセルロースか
らアルコール置換によって水を３％以下に除去した後、
例えばニトロセルロース２部に、ショウノウ１部をエタ
ノール２部に溶解した溶液を加えて熟成し、塊状になっ
たものをニーダ−で捏和（約３時間）し、濾過したもの
である。このセルロイドは一般のニトロセルロースと違
ってアルコール類に溶解する。
一般にセルロイドはニトロセルロースト樟脳（力ｙ７７
−）の混合物であり、樟脳はセルロイドの中で、可塑剤
として作用しているといわれている。しかし、同一粘度
のとトロセルローズから製造したセルロイドの同一濃度
のアルコール溶液粘度は、セルロイドに用いたと同量の
ニトロセルロースと樟脳をアルコールに溶解した場合の
溶液粘度とは著しく異なり、その粘度はセルロイドの方
がはるかに高い。
以上の説明から明らかなように、本発明で用いるセルロ
イドは従来公知ｃ例、特開昭５８−１６６５４８号）の
ニトロセルロース４！：は全く構成。
効果が異るということは理解できょう。
一方、光学的情報記録媒体の基板としてポリメチルメタ
クリレート、ポリカーボネート等のプラスチックを用い
た場合にはアルコール類以外の溶剤、例えば、ケトン、
エステル、芳香族炭化水素。
ハロゲン化炭化水素、有機酸によって基板が溶けてしま
う。従って、７ｏｏ入程度の深さのトンツク溝（グルー
プ）が成形されたプラスチック基板を使用する場合には
アルコール以外の溶剤を用いると上記グループが溶けて
しまい、実用化できない。
これに対して、本発明によるセルロイドを用いた場合に
は、セルロイドがアルコール類に溶解するので、ポリメ
チルメタアクリｌ／　ｈ　＋ポリカーボネートのような
プラスチック基板上に塗布しても、基板のグループを溶
解することなく、グループを完全に残して塗布すること
ができる。またセルロイド−アルコール溶液はニトロセ
ルローズ溶液に比べて、低い濃度でも非常に高粘度であ
り、例えば濃度が５％の場合、粘度はセルロイドでは１
１０ｃｐｓ／２０℃、ニドＣ１（！　ルｏ　−スでは１
４　（！ｌ）８／２０　℃　である。そのために、セル
ロイド溶液はニトロセルロース溶液に比べて、顔料を分
散させることが容易であシ、溶液中に分散された無機顔
料ですら、容易に沈降してしまう事がない。従って、こ
の溶液を塗布して、顔料分散の均一な塗膜を得ることも
容易となる。しかも、光を照射して、ビットを形成する
場合にも、顔料−ニトロセルロース系よりも、顔料−セ
ルロイド系の方が、良好なピットを形成することができ
、特に無機顔料系では、さらに顕著である。セルロイド
と顔料とは通常重量比で、１対０．１〜１００の広範な
量比の中から、後述の所望の透過率及び反射率が得られ
るように選択することができる。
上記セルロイド溶液は周知のスピンコーター。
バーコーター、ディプコーティング、その他任意の方法
で基板上に形成でき、その膜厚は一般に０．０３〜２μ
間程度でよい。
また、上記セルロイド溶液にはこの他、他のポリマーな
いしオリゴマー、各種可塑剤、界面活性剤、帯電防止剤
、滑剤、難燃剤、安定剤、分散剤等が含有されていても
よい。
光学的情報記録媒体の書込みまたは読取り方式には反射
光利用方式と透過光利用方式の２つがあり、反射光利用
方式の場合には記録層側から光を当てる表面読取り方式
と基板側から光を当てる背面読取り方式があるが、本発
明は基板と反射膜を適当に選択することによっていずれ
の方式にも適用することができる、その他必要に応じて
保護層を設けることもできる。
本発明のセルロイド−光吸収剤より成る記録層は従来公
知のＴｅ等の易蒸発性金属の薄膜層と積層して用いるこ
ともできる。
基板がプラスチックの場合には基板と記録層との間にア
ルミニウムのような金属層を介在させて反射率を大きく
するのが好ましい。
また、背面読取り方式の場合には基板と反対側の記録層
外表面上にガス透過性の反射層を形成するのが好ましい
。このガス透過性反射層はアルミニウムの蒸着によって
形成することができ、２ｏ。
久程度のアルミ−ラム蒸着膜は半透明であり、その膜け
Ｈ２Ｏ、ＣＯ、Ｃｏ２．　Ｎｏ　、　ＮＯ２ガスを通過
させることができるので、レーザー光の照射によって本
発明のセルロイド−染料記録層は不完全燃焼して黒化す
るが、ガスは上記薄膜を通って放出きれる。
しかし、レーザー照射部に見掛上の形状変形はほとんど
ない。こうして変質（炭化）したセルロイドは耐久性、
特に、光と熱に対する安定性が非常に優れている。
さらに、本発明は一枚の基板の両面に形成して両面を記
録面とする場合、あるいは基板の片面のみに記録層を形
成した後、記録層を内側にして２枚を貼合せて使用する
場合のいずれにでも適用できる。
以下、本発明を特殊実施例により説明するが、本発明は
これにのみ限定されるものではない。
実施例−１ 下記組成の溶液（６）を調製し、これを直径５インチの
アルミ製ディスク基板（１）上に、塗膜（２）の厚さ０
．２μ劇になるように、スピンコード塗布し、直ちに６
０℃で１０分間乾燥させた（第１図）。なお、光吸収体
の無機顔料、紺青はＫＦｅ　（Ｆｅ　（ＣＮ）　６）で
ある。
こうして得られた記録媒体の入射角６０°の鏡面反射率
は４４．２％であった。また、この溶液（５）をポリカ
ーボネート基板に塗布して得た記録媒体の各波長におけ
る光吸収特性を測定したところ、第５図のような光線透
過特性が得られた。６００〜８００ｎｍに強い光吸収帯
が見られる。これを波長６３゛３ｎｍ、出力ＩＱｍｗの
Ｈｅ−Ｎｅｖ−ザーのパルス光（パルス幅１μｓｅｃ　
）を１．６□のスポットに集光して照射したところ　１
：、のピット（５）が得られた。
このようにして作成した、アルミ基板上に塗設した媒体
につき、これをｉ　ｓ　ｏ、ｏ　ｒ−ｐ−ｍで回転させ
ながら、半導体１ノ−ザー記録光（波長、８３０ｎｍ）
を１：、に集光し、（集光部出力ｘｏｍＷ）、Ｉ　ＭＨ
２の周波数で、パルス列状に照射した。これにより、媒
体にはビットがトランク状に形成された。このビット（
５）の形状は第１図に示すように良好なものであった。
この後、読み出し光として、半導体１／−ブー光、（波
長ｓ３ｏｎｍ）を、１μ−に集光しく集光部１ｍＷ）、
これを連続光として照射しビット形成ずみ基板を１８０
０　ｒ−ｐ−ｍで回転させ、ビットとノン・ビットの鏡
面反射光によりＳ／Ｎ比を測定した。
さらに、ビット形成後の媒体に、読み出し光を連続５分
間照射して、Ｓ／Ｎ比の再生劣化を測定した。
これとは別に、本媒体を太陽光の下で、１ケ月間放置し
、その後書き込みを行い、Ｓ／Ｎ比の測定を行い、耐光
性を評価した。また、本媒体を１５０℃の条件に５分間
量いた後、書き込みを行い、Ｓ／Ｎ比の測定を行い、耐
熱性を評価した。
これらの結果を第１表に示す。
比較例−１゜ 次の組成の溶液（ト）を調製し、実施例−１と同様に処
理した。
ｎ−ブチルアルコール　４０．０ｇ 得られたビット（６）の形状は第２図に示すようにビッ
トの中心部がアルミ面であり、その周辺部は塗膜面で、
さらに、その周辺は盛り上がっていた。
尚、記録媒体の６０６鏡面反射率は４９．０％であった
。
この比較例１の性能を実施例１と同じ方法で測定した結
果は第１表に示しである。
第１表　Ｓ／Ｎ比の比較 実施例−２゜ 、光吸収体として、下記構造式（Ｉ）のフタロシアニン
銅誘導体（油溶染料）を用い、次の組成の溶液（Ｃ）を
調製し、これを直径５インチの、３００λのアルミ薄膜
（１４）を真空蒸着により、塗設しであるポリカーボネ
ート樹脂製の晃ディスク基板（１ｏ）上に、塗膜（１２
）の厚味が０．２μｍになるように、スピンコード塗布
し、直ちに６０’Ｃで１ｏ分間乾燥させた。
置換基は３位 こうして得た記録媒体の鏡面反射率を測定すると４９、
．０４であった。またこの溶液（ｑをポリカーボネート
基板に塗布して得た記録媒体の各波長における光吸収特
性を測定したところ、第６図のような光線透過特性が得
られた。６００〜７００　ｎｍに強い光吸収帯が見られ
る。これを波長６３３ｎｍ、出力ＩＱｍＷのＨｅ−Ｎｅ
−レーザーパルス光（パルス幅０．５μｓｅｃ　）　１
．６　？ｌｌ、　ｔＤ　ス；ｆ？　ｙ　）に集光して照
射したところ、１−の良好な型のビットが形成された。
走査電顕で観察した。その断面図を第３図に示す。
このようにして作成した、媒体につき、これを１８０Ｏ
ｒｐｍテ回転させ乍ら、Ｈｅ−Ｎｅｖ−サー記録光（６
３３ｎｍ）を１に、、に集光しく集光部用カ１０ｍＷ）
ＩＭＨ２の周波数で、パルス列状に照射した。これによ
り媒体にはピントがトラック状に形成された。
その後、読み出し光として、Ｈｅ−Ｎｅレーザー（６３
３ｎｍ）を１グ、に集光し、（集光部ｌ　ｍＷ叉これを
連続光として照射し、ピント形成ずみ基板を１８００ｒ
ｐｍで回転させ、ビットとノン・ビットの鏡面反射光に
よりＳ／Ｎ比を測定した。結果を第２表に示す。また実
施例１と同じ方法で測定した、再生劣化、耐光性、耐熱
性のＳ／Ｎ比も第２表に示した。
第　２　表 実施例−３゜ 光吸収体として、アジン系油溶染料（ＯｒｉｏｎｔＳｐ
ｉｒｉｔ　Ｂｌａｃｋ　ＳＢ　（オリエント〕、青味の
黒）を用い、次の組成の溶液０を調製し、これを直径５
インチの、７００人のプ１／グループ（溝）付き、ポリ
カーボネート樹脂製の光デイスク基板（１０）上に塗膜
（１２）の厚味が０．２βｍになるように、スピンコー
ド塗布し、直ちに６０℃で１０分間乾燥させた。
次に、このコーテイング膜（１２）上に膜厚が２００Ｘ
になるように、ｋｌ（アルミ）　（１４’）を真空蒸着
した。こうして得た記録媒体の鏡面１反射率を基板側か
ら測定すると、３８．４％であった。またこの溶液０を
別のポリカーボネート基板に塗布して得られた記録媒体
の各波長における光吸収特性を測定したところ、第７図
のような光線透過特性が得られた。６００〜７００　ｎ
ｍにゆるやかな光吸収帯が見られる。これを、波長６３
３　ｎｍ　１　出力Ｉ　Ｑ　ｍＷｌのＨｅ　−Ｎｅ　ｖ
−ザーのパルス光（パルス幅０．５μ５ｅｃ）を１．６
−のスポットに集光して、背面側（ポリカーボネート基
板側）から照射したところ、１□の黒色に変化した良好
な形のビットが形成された。
走査電顕て観察したその断面図を第４図に示した。
このようにして作成した、媒体につき、これを１８００
ｒｐｍで回転させたら、Ｈｅ−Ｎｅレーサー記録光（６
３３ｎｍ）を１５に集光し、（集光部出力１０ｍＷ）　
ｌ　ＭＨｚの周波数で、背面（基板）側からパルス列状
に照射した。これＶＣ）り媒体にはビットがトラック状
に形成された。その後、読み出し光として、Ｈｅ−Ｎｅ
レーザー（６３３ｎｍ）を１＃Ｉ、ｌに集光し、（集光
部１　ｍＷ）、これを連続光として、背面（基板）側か
ら照射し、ピント形成ずみ基板を１８０゜ｒｐｍで回転
させ、ビットとノンビットの鏡面反射光によりＳ／Ｎ比
を測定した。結果を第３表に示す。また、実、雄側１と
同じ方法で測定した、再生劣化、耐光性、耐熱性のＳ／
Ｎ比も第３表に示した。
第　３　表
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明による記録層をアルミ板上に形成した実
施例の概念的断面図で、ビット形状は顕微鏡でみたもの
。 第２図は従来公知のニトロセルロースＱいた比較例の第
１図と同様な概念的断面図。 第３図は本発明による記録層をアルミ反射層を介してプ
ラスチック板上に形成した実施例の概念的断面図。 第４図は背面読出し方式に本発明を適用した実施例の概
念的断面図で、この図は基板上に形成したグループ上に
記録点を形成した場合を示している。 第５〜７図は本発明による光学的記録媒体の光線透過率
を波長に対して描いた図。 （図中符号） １．１０；基板　２．１２：記録層 １４：反射層　１５：記録点 特許出願人 ダイセル化学工業株式会社 ８１）１　図 ψ　２１シｌ 第３図 第４図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １）基材と、この基材上に設けられた記録層とを有し、
    この記録層にレーザー光を照射して記録層を燃焼または
    変質させて記録点を形成するこ七によって情報を記録す
    る光学的情報記録媒体において、上記記録層がセルロイ
    ドと光吸収剤とによって構成されていることを特徴とす
    る光学的情報記録媒体。 ２）上記光吸収剤が顔料および／または染料であること
    を特徴とする特許請求の範囲第１項に記載の光学的情報
    記録媒体。 ３）上記基材が、プラスチック材、料によって作られて
    いることを特徴とする特許請゛求の範囲第１項に記載の
    光学的情報記録媒体。 ４）上記記録層と上記基板との間に金属層が介在してい
    ることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の光学的
    情報゛記録媒体。 ５）上記金属層がアルミニウムの薄膜であることを特徴
    とする特許請求の範囲第４項に記載の光学的情報記録媒
    体。 ６）上記基板とけ反対側の上記記録層の外表面上に金属
    層が形成されていることを特徴とする特許請求の範囲第
    １項に記載の光学的情報記録媒体。 ７）上記金属層がアルミニウムの薄膜であることを特徴
    とする特許請求の範囲第６項に記載の光学的情報記録媒
    体。
JP59037291A 1984-03-01 1984-03-01 光学的情報記録媒体 Granted JPS60183191A (ja)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02179790A (ja) * 1988-12-29 1990-07-12 Sony Corp 光記録媒体

Citations (1)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58102348A (ja) * 1981-12-12 1983-06-17 Tdk Corp 光記録媒体

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