JPS6017921A - 縮小投影露光装置 - Google Patents
縮小投影露光装置Info
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- JPS6017921A JPS6017921A JP58125785A JP12578583A JPS6017921A JP S6017921 A JPS6017921 A JP S6017921A JP 58125785 A JP58125785 A JP 58125785A JP 12578583 A JP12578583 A JP 12578583A JP S6017921 A JPS6017921 A JP S6017921A
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- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 abstract description 3
- 238000005286 illumination Methods 0.000 abstract 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 5
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は縮小投影露光装置に係り、特に合わせパターン
の位置情報を検出するに好適な自動しきい値設定機能を
有する縮小投影露光装置に関する。
の位置情報を検出するに好適な自動しきい値設定機能を
有する縮小投影露光装置に関する。
従来の縮小露光装置において、第１図に示すように、光
源５よシ照射された光は２方向に分光され、ウェハ６上
の左右の合わせパターン７により反射される。そして光
学的手段により、ウェハ６上の２個の合わせパターン７
を拡大して同一の撮像素子１上に投影し、モニタテレビ
４へ送出される第２図の映像信号１１をしきい値■８１
２によシ第３図に示す２値化映像信号１３に変換し、映
像信号１１の明暗の変化位置を情報として記憶させ、さ
らに計算機処理により第４図に示すモニタテレビに表示
される合わせパターン７の中心をめ、これによりウェハ
６を移動しパターン合わせを実行している。
源５よシ照射された光は２方向に分光され、ウェハ６上
の左右の合わせパターン７により反射される。そして光
学的手段により、ウェハ６上の２個の合わせパターン７
を拡大して同一の撮像素子１上に投影し、モニタテレビ
４へ送出される第２図の映像信号１１をしきい値■８１
２によシ第３図に示す２値化映像信号１３に変換し、映
像信号１１の明暗の変化位置を情報として記憶させ、さ
らに計算機処理により第４図に示すモニタテレビに表示
される合わせパターン７の中心をめ、これによりウェハ
６を移動しパターン合わせを実行している。
しかしながら、この方法はしきい値Ｖｓ１２が一画面の
全走査線とも固定であるため、モニタテレビ４上面の左
右の合わせパターン７周辺の照度のむら、およびウェハ
６の反射率の差異が生じていた。
全走査線とも固定であるため、モニタテレビ４上面の左
右の合わせパターン７周辺の照度のむら、およびウェハ
６の反射率の差異が生じていた。
したがって、この欠点を解消するため、光源５ｆ、複数
個設置し各々光量を変化させ、モニタ上の左右の照度を
均一にしたり、ウェハ６の種類によりしきい値１２を変
化させる等の操作があり、合わせパターン７が検出され
なくなった時には北記の動作が入り、検出に多大の時間
を必要とするため装置４としての高スループツト化に対
応できないものであった。
個設置し各々光量を変化させ、モニタ上の左右の照度を
均一にしたり、ウェハ６の種類によりしきい値１２を変
化させる等の操作があり、合わせパターン７が検出され
なくなった時には北記の動作が入り、検出に多大の時間
を必要とするため装置４としての高スループツト化に対
応できないものであった。
本発明の目的は、モニタテレビ上に描画される左右の合
わせパターン周辺の照度のむらをなくした縮小投影露光
装置全提供することにある。
わせパターン周辺の照度のむらをなくした縮小投影露光
装置全提供することにある。
このような目的を達成するために、本発明は、ウェハが
装着されているテーブル上にて合わせパターン図形を走
査線が横切る時の明暗の変化位置を受像面の原点からの
情報として記憶させるテレビカメラ装置を用いて、明暗
の変化を２値化信号として検出する時の明るさのしきい
値を、各走査線上の明るさにより自動的にしきい値を変
化させ、像面の照度むらによる影響を少なくして２値化
信号を得るようにしたものである。
装着されているテーブル上にて合わせパターン図形を走
査線が横切る時の明暗の変化位置を受像面の原点からの
情報として記憶させるテレビカメラ装置を用いて、明暗
の変化を２値化信号として検出する時の明るさのしきい
値を、各走査線上の明るさにより自動的にしきい値を変
化させ、像面の照度むらによる影響を少なくして２値化
信号を得るようにしたものである。
第５図および第６図は本発明による縮小投影露光装置の
一実１布［シリを示す構成図である。本実施例の縮小投
影露光装置は第１図ないし第４図に示した如くその概略
は、光源５より照射された光は２方向に分光され、左右
の合わせパターン７によυ反射され、撮像素子１に投影
され映像制御２によυモニタテレビ４に撮影される。一
方、しきい値１２により２値化された２値化映像信号１
３によ多位置座標Ｘａ＋、 Ｘｂ＋＋ Ｘａ２１ Ｘｂ
２が記憶装置３に記憶され、計算機処理により合わせパ
ターン７の検出を実行する。
一実１布［シリを示す構成図である。本実施例の縮小投
影露光装置は第１図ないし第４図に示した如くその概略
は、光源５より照射された光は２方向に分光され、左右
の合わせパターン７によυ反射され、撮像素子１に投影
され映像制御２によυモニタテレビ４に撮影される。一
方、しきい値１２により２値化された２値化映像信号１
３によ多位置座標Ｘａ＋、 Ｘｂ＋＋ Ｘａ２１ Ｘｂ
２が記憶装置３に記憶され、計算機処理により合わせパ
ターン７の検出を実行する。
第４図の如くモニタテレビ４に撮影された合わぜパター
ン７を走査線１０上に映像信号１１は第２図に示される
。これを任意のしきい値１２によ、！１ｌｌｚ値化する
と第３図の如く２値化映像信号１３が検出される。
ン７を走査線１０上に映像信号１１は第２図に示される
。これを任意のしきい値１２によ、！１ｌｌｚ値化する
と第３図の如く２値化映像信号１３が検出される。
ここで、映像信号１１は、第５図に示すように、バッフ
ァアンプ２０に入力され、その出力は加算器２１に入力
されるようになっている。この加算器２１は第６図の■
。に示す水平同期信号（Ｘ、）が入力されるようになっ
ており、前記映像信号１１と加算されるようになってい
る。加算器２１の出力は、２個のピーク検出器２２に入
力されるようになっている。各ピーク検出器２２の出力
はそれぞれ別個のバッファアンプ２０′に入力されるよ
うになっている。各ビック検出器２０′との接続点には
一端が接地されたスイッチＳｓ ＋ Ｓｓが接続されて
おり、これら各スイッチＳ１＋８３は第６図の８１．Ｓ
ｓに示すタイミングで開閉が繰シ返されるようになって
いる。また、前記各バッファアンプ２０′の出力はそれ
ぞれスイッチＳｔ 、８４を介して別個のバッファアン
プ２０〃に入力されるようになっている。前記各スイッ
チｆｌｌｈ 、 ８４は第６図の８２ｅＳ４に示すタイ
ミングで開閉が繰り返されるようになっており、さらに
前記スイッチＳ２とバッファアンプ２０“の接続点およ
びスイッチＳ４とバッファアンプ２０“の接続点にはそ
れぞれ一端が接地されたコンデンサＣＩ 、Ｃ２が接続
されている。前記各バッファアンプ２０“の各出力はそ
れぞれボリューム■１゜ＶＲｚｅ介しさらにスイッチ５
を介して出力されるようになっている。
ァアンプ２０に入力され、その出力は加算器２１に入力
されるようになっている。この加算器２１は第６図の■
。に示す水平同期信号（Ｘ、）が入力されるようになっ
ており、前記映像信号１１と加算されるようになってい
る。加算器２１の出力は、２個のピーク検出器２２に入
力されるようになっている。各ピーク検出器２２の出力
はそれぞれ別個のバッファアンプ２０′に入力されるよ
うになっている。各ビック検出器２０′との接続点には
一端が接地されたスイッチＳｓ ＋ Ｓｓが接続されて
おり、これら各スイッチＳ１＋８３は第６図の８１．Ｓ
ｓに示すタイミングで開閉が繰シ返されるようになって
いる。また、前記各バッファアンプ２０′の出力はそれ
ぞれスイッチＳｔ 、８４を介して別個のバッファアン
プ２０〃に入力されるようになっている。前記各スイッ
チｆｌｌｈ 、 ８４は第６図の８２ｅＳ４に示すタイ
ミングで開閉が繰り返されるようになっており、さらに
前記スイッチＳ２とバッファアンプ２０“の接続点およ
びスイッチＳ４とバッファアンプ２０“の接続点にはそ
れぞれ一端が接地されたコンデンサＣＩ 、Ｃ２が接続
されている。前記各バッファアンプ２０“の各出力はそ
れぞれボリューム■１゜ＶＲｚｅ介しさらにスイッチ５
を介して出力されるようになっている。
スイッチＳ５はＮＣ側とＮｏ側とにおいて断続が繰り返
され、そのタイミングは第６図の８５に示すようになっ
ている。このような構成において、映像信号１１をバッ
ファアンプ２０に通し、加算器２１にて水平同期信号■
８と合成し、各走査線１０毎の同期をとる。各走査線１
０と同期のとられた映像信号は、ピーク検出器２２によ
り像面の最大反射光を検出する。この時スイッチｓ１は
開、スイッチＳ３は閉であり、１走査線上の左半分（モ
ニタテレビ４上の左側）の領域においてピーク検出を実
行する。その後スイッチＳ２が短時間開となりコンデン
サＣＩにピーク値を充電し、再び閉となるためコンデン
サＣ１に充電された電荷はバッファアンプ２０″の入力
インピーダンスが高いために放電せず保持される。スイ
ッチＳ２が閉と同時にスイッチＳ３が開となシ、スイッ
チＳ！が開と同時にスイッチＳ１が閉となり、次に１走
査線上の右半分の領域においてピーク検出を実行し、１
走査線が終了するとスイッチＳ４が短時間開となりコン
デンサＣ２にピーク値を充電し、再び開となり電荷が保
持される。
され、そのタイミングは第６図の８５に示すようになっ
ている。このような構成において、映像信号１１をバッ
ファアンプ２０に通し、加算器２１にて水平同期信号■
８と合成し、各走査線１０毎の同期をとる。各走査線１
０と同期のとられた映像信号は、ピーク検出器２２によ
り像面の最大反射光を検出する。この時スイッチｓ１は
開、スイッチＳ３は閉であり、１走査線上の左半分（モ
ニタテレビ４上の左側）の領域においてピーク検出を実
行する。その後スイッチＳ２が短時間開となりコンデン
サＣＩにピーク値を充電し、再び閉となるためコンデン
サＣ１に充電された電荷はバッファアンプ２０″の入力
インピーダンスが高いために放電せず保持される。スイ
ッチＳ２が閉と同時にスイッチＳ３が開となシ、スイッ
チＳ！が開と同時にスイッチＳ１が閉となり、次に１走
査線上の右半分の領域においてピーク検出を実行し、１
走査線が終了するとスイッチＳ４が短時間開となりコン
デンサＣ２にピーク値を充電し、再び開となり電荷が保
持される。
スイッチＳ４が閉と同時にスイッチＳｓが開となり、ス
イッチＳ４が開と同時にスイッチＳ３が閉となる。この
動作は画面の全走査線に対して行なわれる。このスイッ
チＳ１１は、走査線上の左半分の領域ではＮＣ側、右半
分の領域ではＮＣ側となる動作を繰り返すことにより、
しきい値ｖ８は第６図の如く走査線上の明るさによシ変
化する。
イッチＳ４が開と同時にスイッチＳ３が閉となる。この
動作は画面の全走査線に対して行なわれる。このスイッ
チＳ１１は、走査線上の左半分の領域ではＮＣ側、右半
分の領域ではＮＣ側となる動作を繰り返すことにより、
しきい値ｖ８は第６図の如く走査線上の明るさによシ変
化する。
ここでしきい値の微調整はボリウムＶＲ＋。
ＶＲｇにより行なうようになっている。
上述した実施例では、−走査線を２分割し、各分割され
た走査線ごとに、明暗の変化を検出しているものである
が、２分割に限定されず、それ以上であればよシ以上の
効果が奏されることはいうまでもない。
た走査線ごとに、明暗の変化を検出しているものである
が、２分割に限定されず、それ以上であればよシ以上の
効果が奏されることはいうまでもない。
以上述べたように本発明によれば、モニタテレビの走査
線の分割された領域毎にパターンの２値化信号検出のた
めのしきい値を可変することができ、高速にパターンの
位置座標を計測するようにしているため描画される左右
の合わせパターン周辺の照度のむらをなくした縮小投影
露光装置が得られる。
線の分割された領域毎にパターンの２値化信号検出のた
めのしきい値を可変することができ、高速にパターンの
位置座標を計測するようにしているため描画される左右
の合わせパターン周辺の照度のむらをなくした縮小投影
露光装置が得られる。
第１図は縮小投影露光装置におけるパターン検出の概略
図、第２図はパターンの映像信号図、第３図はパターン
の２値化映像信号図、第４図はモニタテレビ上のパター
ンｊ最影図、第５図は本発明による縮小投影露光装置の
一実施例を示す部分構成図、第６図は本発明の上記一実
施例における回路のタイミング図である。 ２０・・・バッファアンプ、２１・・・加算器、２２・
・・ピーク検出器、１１・・・映像信号、１２・・・し
きい値（Ｖ＋＋）、Ｃ１、Ｃ２・・・コンデンサ、ＳＩ
＋８２＋８３！８４１８６ ・・・スイッチ。 代理人 弁理士 鵜沼辰之 第１ｍ 招２ｍ １つ 第３図 ９ 弔ｌ／−霞 第 ５ｍ ■又 ■ ｕ ＬＩ ＬＪ ５７ ｏＦＦ ｏｔＪ ５５ Ｎ、ＣＮ、Ｏ ９ ０□
図、第２図はパターンの映像信号図、第３図はパターン
の２値化映像信号図、第４図はモニタテレビ上のパター
ンｊ最影図、第５図は本発明による縮小投影露光装置の
一実施例を示す部分構成図、第６図は本発明の上記一実
施例における回路のタイミング図である。 ２０・・・バッファアンプ、２１・・・加算器、２２・
・・ピーク検出器、１１・・・映像信号、１２・・・し
きい値（Ｖ＋＋）、Ｃ１、Ｃ２・・・コンデンサ、ＳＩ
＋８２＋８３！８４１８６ ・・・スイッチ。 代理人 弁理士 鵜沼辰之 第１ｍ 招２ｍ １つ 第３図 ９ 弔ｌ／−霞 第 ５ｍ ■又 ■ ｕ ＬＩ ＬＪ ５７ ｏＦＦ ｏｔＪ ５５ Ｎ、ＣＮ、Ｏ ９ ０□
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、縮小レンズにてレチクルおよびウェハのパターン合
わせを可能とする縮小投影露光装置において、当該ウェ
ハが装着されているテーブル上にて合わせパターン図形
を走査線が横切る時の明暗の変化位置を受像面の原点か
らの情報として記憶させるテレビカメラ装置を用いて、
明暗の変化を２値化信号として検出する時の明るさのし
きい値を、各走査線上の明るさにより自動的にしきい値
を変化させ、像面の照度むらによる影響を少なくして２
値化信号を得ることｆ、特徴とする縮小投影露光装置。 ２゜上記特許請求の範囲第１項記載の装置において各走
査線を任意分割し、分割した走査線上の明るさによりし
きい値を自動的に変化させるようにした縮小投影露光装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58125785A JPS6017921A (ja) | 1983-07-11 | 1983-07-11 | 縮小投影露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58125785A JPS6017921A (ja) | 1983-07-11 | 1983-07-11 | 縮小投影露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6017921A true JPS6017921A (ja) | 1985-01-29 |
Family
ID=14918794
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58125785A Pending JPS6017921A (ja) | 1983-07-11 | 1983-07-11 | 縮小投影露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6017921A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0787932A2 (en) * | 1994-07-13 | 1997-08-06 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Slip control apparatus for motor vehicle lock-up clutch |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51137331A (en) * | 1975-05-22 | 1976-11-27 | Ikegami Tsushinki Co Ltd | Level discriminating circuit by a floating threshold |
| JPS5350610A (en) * | 1976-10-19 | 1978-05-09 | Sanyo Electric Co Ltd | Video signal processing circuit |
| JPS53132271A (en) * | 1977-04-20 | 1978-11-17 | Thomson Csf | Thin semiconductor plate* method of positioning pattern projected to said plate in projector* and projector |
| JPS5453927A (en) * | 1977-10-07 | 1979-04-27 | Oki Electric Ind Co Ltd | Optical character reader |
| JPS5717133A (en) * | 1980-05-19 | 1982-01-28 | Gca Corp | Automatic wafer matching device |
| JPS57183031A (en) * | 1981-05-06 | 1982-11-11 | Toshiba Corp | Method for wafer exposure and device thereof |
| JPS5856330A (ja) * | 1981-09-30 | 1983-04-04 | Hitachi Ltd | 縮小露光装置 |
-
1983
- 1983-07-11 JP JP58125785A patent/JPS6017921A/ja active Pending
Patent Citations (7)
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|---|---|---|---|---|
| JPS51137331A (en) * | 1975-05-22 | 1976-11-27 | Ikegami Tsushinki Co Ltd | Level discriminating circuit by a floating threshold |
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| EP0787932A3 (en) * | 1994-07-13 | 1998-01-14 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Slip control apparatus for motor vehicle lock-up clutch |
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