JPS6017796B2 - オルガノポリシロキサンの製造方法 - Google Patents
オルガノポリシロキサンの製造方法Info
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- JPS6017796B2 JPS6017796B2 JP54067704A JP6770479A JPS6017796B2 JP S6017796 B2 JPS6017796 B2 JP S6017796B2 JP 54067704 A JP54067704 A JP 54067704A JP 6770479 A JP6770479 A JP 6770479A JP S6017796 B2 JPS6017796 B2 JP S6017796B2
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Landscapes
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- Silicon Polymers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規かつ有用なオルガ/ポリシロキサン、詳し
くは分子中にけし、素原子に直接結合するアミノアルキ
ル基をするオルガ/ポリシロキサンおよびアミノアルキ
ル基とアミノキシ基とを有するオルガノポIJシロキサ
ンの製造方法に関するものである。
くは分子中にけし、素原子に直接結合するアミノアルキ
ル基をするオルガ/ポリシロキサンおよびアミノアルキ
ル基とアミノキシ基とを有するオルガノポIJシロキサ
ンの製造方法に関するものである。
本発明は
‘11 平均組成式
(式中RIは低級アルキル基、アリール基またぱヱアル
コキシ基、aは0.5Saミ2.90 bは0.04S
bS2.5でa+bはISa+bS3)で示されるオル
ガノハイド。
コキシ基、aは0.5Saミ2.90 bは0.04S
bS2.5でa+bはISa+bS3)で示されるオル
ガノハイド。
ジエンボリシロキサンと、一般式(式中R2低級アルキ
ル基)で示されるトリオルガノシリル基含有アミンとを
付加反応触媒の存在下に部分付加反応させて平均組成式
(式中R1、R2、a、bは前記に同じ、cは0.02
ScSI.5でb−cは0.02Sb−c<1.0)で
示されるオルガノポリシロキサンを作る第1工程、{2
) 上記第1工程で得たオルガノポリシロキサンと一般
式YOH ・…・・・・・・・・・・・
(W)〔式中Yは式または (こ)にR3、R4は水素原子または 1価炭化水素基、R5は2価炭化水素基)で示される有
機基)で示されるヒドロキシアミンと反応させる第2工
程、とよりなることを特徴とする平均組成式 (式中、R1、Y、a、b、cは前記と同じ)で示され
るオルガノポリシロキサンの製造方法に関するものであ
る。
ル基)で示されるトリオルガノシリル基含有アミンとを
付加反応触媒の存在下に部分付加反応させて平均組成式
(式中R1、R2、a、bは前記に同じ、cは0.02
ScSI.5でb−cは0.02Sb−c<1.0)で
示されるオルガノポリシロキサンを作る第1工程、{2
) 上記第1工程で得たオルガノポリシロキサンと一般
式YOH ・…・・・・・・・・・・・
(W)〔式中Yは式または (こ)にR3、R4は水素原子または 1価炭化水素基、R5は2価炭化水素基)で示される有
機基)で示されるヒドロキシアミンと反応させる第2工
程、とよりなることを特徴とする平均組成式 (式中、R1、Y、a、b、cは前記と同じ)で示され
るオルガノポリシロキサンの製造方法に関するものであ
る。
以下、本発明方法を詳細に説明する。
本発明の第1工程において始発原料とされるオルガノハ
イドロジェンポリシロキサンは上記した平均組成式(1
)で示されるものである。
イドロジェンポリシロキサンは上記した平均組成式(1
)で示されるものである。
式中RIはメチル基、エチル基、ブロピル基、プチル基
などの低級アルキル基、フェニル基などのアリール基、
メトキシ基、ェトキシ基、プロポキシ基、プトキシ基な
どのアルコキシ基であり、式中のaおよびbは前記の通
りである。なお、上記平均組成式(1)で示されるオル
ガノハイドロジェンポリシロキサンは、上記した各条件
を満足する限り、その粘度、分子構造あるいは性状など
にはとくに制限なく、例えば分子構造については直鎖状
、分枝鎖状あるいは環状のいずれであってもよいが、1
分子中に三Si一日結合を少なくとも2個有することが
必須とされる。
などの低級アルキル基、フェニル基などのアリール基、
メトキシ基、ェトキシ基、プロポキシ基、プトキシ基な
どのアルコキシ基であり、式中のaおよびbは前記の通
りである。なお、上記平均組成式(1)で示されるオル
ガノハイドロジェンポリシロキサンは、上記した各条件
を満足する限り、その粘度、分子構造あるいは性状など
にはとくに制限なく、例えば分子構造については直鎖状
、分枝鎖状あるいは環状のいずれであってもよいが、1
分子中に三Si一日結合を少なくとも2個有することが
必須とされる。
このようなオルガノハイドロジエンポリシロキサンとし
ては、下記に示すようなものが例示される(ただし、下
記分子式中、Meはメチル基を、Prはプロピル基を、
BuGまブチル基を、Phはフェニル基をそれぞれ示す
)。また、第1工程において上記平均組成式(1)で示
されるオルガノハイドロジエンポリシロキサンとともに
始発原料として使用されるトリオルガノシリル基含有ァ
ミンは、上記した一般式(D)で示されるものであって
、式中のR2はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基などの低級アルキル基であり、このようなトリオル
ガノシリル基含有アミンとしてはN一(トリメチルシリ
ル)ビニルアミン、N一(トリメチルシリル)アリルア
ミン、N−(トリメチルシリル)イソプロベニルアミン
、N一(トリメチルシリル)メチルアリルアミンなどが
例示される。
ては、下記に示すようなものが例示される(ただし、下
記分子式中、Meはメチル基を、Prはプロピル基を、
BuGまブチル基を、Phはフェニル基をそれぞれ示す
)。また、第1工程において上記平均組成式(1)で示
されるオルガノハイドロジエンポリシロキサンとともに
始発原料として使用されるトリオルガノシリル基含有ァ
ミンは、上記した一般式(D)で示されるものであって
、式中のR2はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基などの低級アルキル基であり、このようなトリオル
ガノシリル基含有アミンとしてはN一(トリメチルシリ
ル)ビニルアミン、N一(トリメチルシリル)アリルア
ミン、N−(トリメチルシリル)イソプロベニルアミン
、N一(トリメチルシリル)メチルアリルアミンなどが
例示される。
まず、本発明の第1工程は、上記したような平均組成式
(1)で示されるオルガノハイドロジェンポリシロキサ
ンと一般式(0)で示されるトリオルガノシリル基含有
アミンとを付加反応触媒の存在下、好ましくは窒素ガス
雰囲気中で部分付加反応させ、上記した平均組成式で示
されるオルガ/ボリシロキサンを製造するのであるが、
この場合の両者の使用割合については、例えばトリオル
ガノシリル基含有アミン1モルに対して、オルガノハイ
ドロジェンポリシロキサン中のうSi一日結合を少なく
とも2モル使用することが好ましい。
(1)で示されるオルガノハイドロジェンポリシロキサ
ンと一般式(0)で示されるトリオルガノシリル基含有
アミンとを付加反応触媒の存在下、好ましくは窒素ガス
雰囲気中で部分付加反応させ、上記した平均組成式で示
されるオルガ/ボリシロキサンを製造するのであるが、
この場合の両者の使用割合については、例えばトリオル
ガノシリル基含有アミン1モルに対して、オルガノハイ
ドロジェンポリシロキサン中のうSi一日結合を少なく
とも2モル使用することが好ましい。
また、反応温度は20〜200qo、好ましくは40〜
100℃の範囲とすることがよい。この反応において使
用することができる付加反応触媒としては、例えば周期
表の第側族に属する金属元素またはその化合物をあげる
ことができ、これには従来公知の白金黒体、アルミナ、
シリカなどの坦体に固体白金を担持させたもの、塩化第
一白金酸、塩化第二白金酸などの塩化白金酸、塩化白金
酸のアルコール化合物、アルデヒド化合物、塩化白金酸
と各種オレフィン類とのコンプレックスなど白金系化合
物あるいはロジウム化合物、パラジウム化合物などが例
示される。
100℃の範囲とすることがよい。この反応において使
用することができる付加反応触媒としては、例えば周期
表の第側族に属する金属元素またはその化合物をあげる
ことができ、これには従来公知の白金黒体、アルミナ、
シリカなどの坦体に固体白金を担持させたもの、塩化第
一白金酸、塩化第二白金酸などの塩化白金酸、塩化白金
酸のアルコール化合物、アルデヒド化合物、塩化白金酸
と各種オレフィン類とのコンプレックスなど白金系化合
物あるいはロジウム化合物、パラジウム化合物などが例
示される。
この付加反応触媒の使用量は前記第血族に属する金属元
素として少なくとも5脚使用すればよし、。
素として少なくとも5脚使用すればよし、。
この第1工程で得られる上記平均組成式(町)で示され
るオルガノポリシロキサンは具体的には平均組成式(1
)で示されるオルガノポリシロキサンの三Si一日結合
に一般式(D)で示されるトリオルガノシリル基含有ア
ミン化合物が部分的に付加反応したものであって、これ
には下記に示すような化合物が例示される。
るオルガノポリシロキサンは具体的には平均組成式(1
)で示されるオルガノポリシロキサンの三Si一日結合
に一般式(D)で示されるトリオルガノシリル基含有ア
ミン化合物が部分的に付加反応したものであって、これ
には下記に示すような化合物が例示される。
つぎに、本発明の第2工程において使用されるヒドロキ
シルアミンは上記した一般式(W)で示されるもので、
式中のYは式で示されるアミ/基または式 で示される環式アミ/基である。
シルアミンは上記した一般式(W)で示されるもので、
式中のYは式で示されるアミ/基または式 で示される環式アミ/基である。
式(の)中のR3およびR4は水素原子または一価炭化
水素基を表わし、この一価炭化水素基としては、メチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ビニル基、フェ
ニル基などの非置換一価炭化水素基あるいはこれらの基
の水素原子が部分的にハロゲン原子などで置換された置
換一価炭化水素基などが例示される。
水素基を表わし、この一価炭化水素基としては、メチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ビニル基、フェ
ニル基などの非置換一価炭化水素基あるいはこれらの基
の水素原子が部分的にハロゲン原子などで置換された置
換一価炭化水素基などが例示される。
なお、R3およびR4は必ずしも同種のものに限定され
ず異種のものであってもよい。
ず異種のものであってもよい。
また、式(肌)中のR5は二価炭化水素基を表わし、こ
れにはエチレン基、プロピレン基、ブチレン基などが例
示される。
れにはエチレン基、プロピレン基、ブチレン基などが例
示される。
上記した一般式(W)で示されるヒドロキシアミンとし
ては、Nージメチルヒドロキシルアミン、Nージエチル
ヒドロキシルアミン、Nージブロピルヒドロキシルアミ
ン、Nージブチルヒドロキシルアミンなどが例示される
。
ては、Nージメチルヒドロキシルアミン、Nージエチル
ヒドロキシルアミン、Nージブロピルヒドロキシルアミ
ン、Nージブチルヒドロキシルアミンなどが例示される
。
この第2工程は、上記第1工程において製造した平均組
成式(m)で示されるオルガノポリシロキサンと一般式
(W)で示されるヒドロキシルアミンとを反応(脱水素
反応および脱シリル化反応)させ、前記した平均組成式
(V)で示されるオルガノポリシロキサンを製造するの
であるが、両者の使用割合は等モルないしオルガノボリ
シロキサンを過剰モルとすればよく、また反応温度は一
20〜150qo、好ましくは0〜80qoの範囲とす
ることがよい。
成式(m)で示されるオルガノポリシロキサンと一般式
(W)で示されるヒドロキシルアミンとを反応(脱水素
反応および脱シリル化反応)させ、前記した平均組成式
(V)で示されるオルガノポリシロキサンを製造するの
であるが、両者の使用割合は等モルないしオルガノボリ
シロキサンを過剰モルとすればよく、また反応温度は一
20〜150qo、好ましくは0〜80qoの範囲とす
ることがよい。
この第2工程で得られる上記した一般式(V)で示され
るシロキサンとしては1分子中のけし、素原子にアミノ
アルキル基とアミノキシ基とを有するものであり、下記
に示すような化合物が例示される。
るシロキサンとしては1分子中のけし、素原子にアミノ
アルキル基とアミノキシ基とを有するものであり、下記
に示すような化合物が例示される。
本発明において最終的に得られる上記した平均組成式で
示されるオルガノボリシロキサンは分子鎖末端が水酸基
で封鎖された重合体を硬化させる際の硬化剤あるいはカ
ップリング剤などにきわめて有用とされ、例えばシーI
Jング材料、電気絶縁材料、ェラストマーの製造などに
広く応用することができる。
示されるオルガノボリシロキサンは分子鎖末端が水酸基
で封鎖された重合体を硬化させる際の硬化剤あるいはカ
ップリング剤などにきわめて有用とされ、例えばシーI
Jング材料、電気絶縁材料、ェラストマーの製造などに
広く応用することができる。
また、該オルガノポリシロキサンは、これを硬化性組成
物における硬化剤として使用した場合には、下塗り処理
を施してない各種の基質表面に対してきわめてすぐれた
接着力を該組成物に与えることができる。
物における硬化剤として使用した場合には、下塗り処理
を施してない各種の基質表面に対してきわめてすぐれた
接着力を該組成物に与えることができる。
つぎに本発明の実施例をあげる。
実施例 1
○ー 脱水キシレン200夕、1・3−ジハイドロジエ
ンー1・1・3・3−テトラメチルジシロキサン147
夕および塩化白金酸0.02夕を均一に混合したのち、
この混合物を窒素ガス雰囲気にて温度80〜85℃で加
熱し、ついでN−(トリメチルシリル)アリルアミン1
29夕を4ぴ分間を要して徐々に滴下し、温度85〜9
0℃で部分付加反応を行わせた。
ンー1・1・3・3−テトラメチルジシロキサン147
夕および塩化白金酸0.02夕を均一に混合したのち、
この混合物を窒素ガス雰囲気にて温度80〜85℃で加
熱し、ついでN−(トリメチルシリル)アリルアミン1
29夕を4ぴ分間を要して徐々に滴下し、温度85〜9
0℃で部分付加反応を行わせた。
反応終了後、温度5ぴ○以下で減圧ストリップしたとこ
ろ、25℃における粘度が&Sの淡黄色透明の液体が2
48タ得られた。
ろ、25℃における粘度が&Sの淡黄色透明の液体が2
48タ得られた。
このものは下記の分析結果から分子式
で示されるシ。
キサンであることが確認された(収率94%)。分析結
果 理論値 実測値三Si一日量
(meqノ9) 3.80 3.62N分析(%)
5.32 5.16‘2’つぎに、N−ジエチル
ヒドロキシルアミン98のこ、上記で得たシロキサン1
31.5夕を窒素ガスの雰囲気下、室温にて1時間を要
して滴下し、滴下終了後徐々に昇温し温度6ぴ○で1時
間反応させた。
果 理論値 実測値三Si一日量
(meqノ9) 3.80 3.62N分析(%)
5.32 5.16‘2’つぎに、N−ジエチル
ヒドロキシルアミン98のこ、上記で得たシロキサン1
31.5夕を窒素ガスの雰囲気下、室温にて1時間を要
して滴下し、滴下終了後徐々に昇温し温度6ぴ○で1時
間反応させた。
ついで反応生成物を温度60qo以下で減圧ストリップ
したところ、25℃における粘度がIZSの淡黄色透明
な液体が135タ得られた。このものは下記の分析結果
から分子式 で示されるシロキサンであることが確認された(収率9
7%)。
したところ、25℃における粘度がIZSの淡黄色透明
な液体が135タ得られた。このものは下記の分析結果
から分子式 で示されるシロキサンであることが確認された(収率9
7%)。
分析結果
C,.日3N2Si202
理論値 実測値
○ (%) 47.83 47.96日 (%
) 10.14 10.21N (%) 1
0.15 10.03si(多) 20.31
20.02赤外線吸収スペクトル分析三Si一日
216比ス‐1付近に特性吸収なしラSi−0一N 9
40伽‐1付近に袴性吸収あり−NH2 3360弧‐
1および3300弧‐1付近に特性吸収あり実施例 2
〜5 上記実施例1の{11の方法に準じて下記の第1一1表
に示すような種類のオルガノハイドロジェンポリシロキ
サンとN−(トリメチルシリル)アリルアミンとを同表
に示す反応比で部分付加反応させたところ、290にお
ける粘度が下記の第1−1表に示すような値の反応生成
物が得られた。
) 10.14 10.21N (%) 1
0.15 10.03si(多) 20.31
20.02赤外線吸収スペクトル分析三Si一日
216比ス‐1付近に特性吸収なしラSi−0一N 9
40伽‐1付近に袴性吸収あり−NH2 3360弧‐
1および3300弧‐1付近に特性吸収あり実施例 2
〜5 上記実施例1の{11の方法に準じて下記の第1一1表
に示すような種類のオルガノハイドロジェンポリシロキ
サンとN−(トリメチルシリル)アリルアミンとを同表
に示す反応比で部分付加反応させたところ、290にお
ける粘度が下記の第1−1表に示すような値の反応生成
物が得られた。
この反応生成物は同表に示す分析結果から下記の第1−
1表に示すような分子構造を有するシロキサンであるこ
とが確認された。つぎに、前記実施例1の{2’の方法
に準じて上記で得たシロキサンとNージェチルヒドロキ
シルアミンとを下記の第1一2表に示すような反応比で
反応させたところ、25o0における粘度が同表に示す
ような値の反応生成物が得られた。
1表に示すような分子構造を有するシロキサンであるこ
とが確認された。つぎに、前記実施例1の{2’の方法
に準じて上記で得たシロキサンとNージェチルヒドロキ
シルアミンとを下記の第1一2表に示すような反応比で
反応させたところ、25o0における粘度が同表に示す
ような値の反応生成物が得られた。
この反応生成物は下記の第1−2表に示す分析結果から
同表に示すような分子構造を有するシロキサンであるこ
とが確認された。
同表に示すような分子構造を有するシロキサンであるこ
とが確認された。
第1一1表
夫オルガノハィドロジェンボリシロキサンのモル数/N
−(トリメチルンリル)アリルアミンのモル数聡■ 船 誓 〜 S ン ト ン ザ 2二− リ ミ ふ 日 へ ■ Z \ 潔 三 W S ン 上 ザ ン * \ ド 三 下 べ 穀 溝 * 実施例 6〜9 上記実施例1の‘1’の方法に準じて下記の第2−1表
に示すような種類の環状オルガノハイドロジエンポリシ
ロキサンとN−(トリメチルシリル)アリルアミンとを
同表に示す反応比で部分付加反応させたところ、2yo
における粘度が下記の第2−1表に示すような値の反応
生成物が得られた。
−(トリメチルンリル)アリルアミンのモル数聡■ 船 誓 〜 S ン ト ン ザ 2二− リ ミ ふ 日 へ ■ Z \ 潔 三 W S ン 上 ザ ン * \ ド 三 下 べ 穀 溝 * 実施例 6〜9 上記実施例1の‘1’の方法に準じて下記の第2−1表
に示すような種類の環状オルガノハイドロジエンポリシ
ロキサンとN−(トリメチルシリル)アリルアミンとを
同表に示す反応比で部分付加反応させたところ、2yo
における粘度が下記の第2−1表に示すような値の反応
生成物が得られた。
この反応生成物は同表に示す分析結果から下記の第2−
1表に示すような分子横造を有するシロキサンであるこ
とが確認された。つぎに、前記実施例1の■の方法に準
じて上記で得たシロキサンとN−ジェチルヒドロキシル
アミンとを下記の第2−2表に示すような反応比で反応
させたところ、25qCにおける粘度が同表に示すよう
な値の反応生成物が得られた。
1表に示すような分子横造を有するシロキサンであるこ
とが確認された。つぎに、前記実施例1の■の方法に準
じて上記で得たシロキサンとN−ジェチルヒドロキシル
アミンとを下記の第2−2表に示すような反応比で反応
させたところ、25qCにおける粘度が同表に示すよう
な値の反応生成物が得られた。
この反応生成物は下記の第2一2表に示す分析結果から
同表に示すような分子構造を有するシロキサンであるこ
とが確認された。
同表に示すような分子構造を有するシロキサンであるこ
とが確認された。
船
・
船
鹿
崇
き
ト
ミ
ン
ト
三
・
Z
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誓
葉
毛
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叫
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*
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藁
善
貴
ト
、
ト
べ
鷲
溝
*
実施例 10
m 脱水キシレン80夕、1・3・5・7ーテトラメチ
ル−1・3・5・7−テトラハイドロジエンシクロテト
ラシロキサン60夕および塩化白金酸0.01夕を均一
に混合したのち、この混合物を窒素ガス雰囲気にて温度
80〜880に加熱し、ついでN一(トリメチルシリル
)アリルアミン71夕を3び分間を要して徐々に滴下し
、温度85〜90℃で部分付加反応を行わせた。
ル−1・3・5・7−テトラハイドロジエンシクロテト
ラシロキサン60夕および塩化白金酸0.01夕を均一
に混合したのち、この混合物を窒素ガス雰囲気にて温度
80〜880に加熱し、ついでN一(トリメチルシリル
)アリルアミン71夕を3び分間を要して徐々に滴下し
、温度85〜90℃で部分付加反応を行わせた。
反応終了後、温度5ぴ○以下で減圧ストリツプしたとこ
ろ、25℃における粘度が11cSの淡黄色透明の液体
が116タ得られた。
ろ、25℃における粘度が11cSの淡黄色透明の液体
が116タ得られた。
このものは下記の分析結果から分子式
で示されるシロキサンであることが確認された(収率9
3%)。
3%)。
分 析 結 果 理論値 実測値アS i
一日量(meqイ2) 4.02 3.98N
分析 (多) 5.62 5.22■ つぎに
N−ジエチルヒドロキシルアミン45夕に、上記で得た
シロキサン50夕を窒素ガスの雰囲気下、室温にて3ぴ
分間を要して滴下し滴下終了後徐々に昇温し温度60℃
で1時間反応させた。
一日量(meqイ2) 4.02 3.98N
分析 (多) 5.62 5.22■ つぎに
N−ジエチルヒドロキシルアミン45夕に、上記で得た
シロキサン50夕を窒素ガスの雰囲気下、室温にて3ぴ
分間を要して滴下し滴下終了後徐々に昇温し温度60℃
で1時間反応させた。
ついで反応生成物を温度60℃以下で減圧ストリツプし
たところ、25℃における粘度が39Sの淡黄色透明な
液体が51タ得られた。このものは下記の分析結果から
分子式で示される環状オルガノポリシロキサンであるこ
とが確認された(収率96%)。
たところ、25℃における粘度が39Sの淡黄色透明な
液体が51タ得られた。このものは下記の分析結果から
分子式で示される環状オルガノポリシロキサンであるこ
とが確認された(収率96%)。
分析結果
元素分析 C,8日48N4Si406
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 (1) 平均組成式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中R^1は低級アルキル基、アリール基またはアル
コキシ基、aは0.5≦a≦2.96、bは0.04≦
b≦2.5でa+bは1≦a+b≦3)で示されるオル
ガノハイドロジエンポリシロキサンと、一般式▲数式、
化学式、表等があります▼ (式中R^2は低級アルキル基)で示されるトリオルガ
ノシリル基含有アミンとを付加反応触媒の存在下に部分
付加反応させて平均組成式▲数式、化学式、表等があり
ます▼ (式中R^1、R^2、a、bは前記に同じ、cは0.
02≦c≦1.5でb−cは0.02≦b−c<1.0
)で示されるオルガノポリシロキサンを作る第1工程、
(2) 上記第1工程で得たオルガノポリシロキサンと
一般式YOH 〔式中Yは式 ▲数式、化学式、表等があります▼ または ▲数式、化学式、表等があります▼ (こゝにR^3、R^4は水素原子または1価炭化水素
基、R^5は2価炭化水素基)で示される有機基〕で示
されるヒドロキシアミンと反応させる第2工程、とより
なることを特徴とする平均組成式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1、Y、a、b、cは前記と同じ)で示さ
れるオルガノポリシロキサンの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP54067704A JPS6017796B2 (ja) | 1979-05-31 | 1979-05-31 | オルガノポリシロキサンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP54067704A JPS6017796B2 (ja) | 1979-05-31 | 1979-05-31 | オルガノポリシロキサンの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS55160785A JPS55160785A (en) | 1980-12-13 |
JPS6017796B2 true JPS6017796B2 (ja) | 1985-05-07 |
Family
ID=13352603
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP54067704A Expired JPS6017796B2 (ja) | 1979-05-31 | 1979-05-31 | オルガノポリシロキサンの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6017796B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA1293836C (en) * | 1986-06-30 | 1991-12-31 | Robert S. Neale | Polyorganosiloxane cross-linkers for rtv sealants |
JP4835841B2 (ja) * | 2006-05-22 | 2011-12-14 | 信越化学工業株式会社 | トリオルガノシリル基で保護したアミノ基含有シルセスキオキサン |
US9279031B2 (en) * | 2013-04-01 | 2016-03-08 | Milliken & Company | Amine-terminated, substantially linear siloxane compound and epoxy products made with the same |
-
1979
- 1979-05-31 JP JP54067704A patent/JPS6017796B2/ja not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS55160785A (en) | 1980-12-13 |
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