JPS60177235A - 真空計の校正装置 - Google Patents

真空計の校正装置

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Publication number
JPS60177235A
JPS60177235A JP3233484A JP3233484A JPS60177235A JP S60177235 A JPS60177235 A JP S60177235A JP 3233484 A JP3233484 A JP 3233484A JP 3233484 A JP3233484 A JP 3233484A JP S60177235 A JPS60177235 A JP S60177235A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
vacuum
vacuum gauge
gas
pressure
gauge
Prior art date
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Pending
Application number
JP3233484A
Other languages
English (en)
Inventor
Tsuneo Fujita
藤田 常夫
Kenji Hayashi
憲治 林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP3233484A priority Critical patent/JPS60177235A/ja
Publication of JPS60177235A publication Critical patent/JPS60177235A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01LMEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
    • G01L27/00Testing or calibrating of apparatus for measuring fluid pressure
    • G01L27/002Calibrating, i.e. establishing true relation between transducer output value and value to be measured, zeroing, linearising or span error determination
    • G01L27/005Apparatus for calibrating pressure sensors

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Measuring Fluid Pressure (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は真空計の校正に係るもので、特に真空計のセン
サー間で放電現象が起こるような超高真空領域で微量な
測定ガスを供給して真空計を校正する場合に好適な真空
計の校正9置に関するものである。
〔発明の背景〕
真空ポンプの上部にマニホルドを取付け、その内部に測
定ガス供給管を設け、また、マニホルドの周囲1こ被校
正用真空計および校正用真空計を取付けたJIS規格に
よる校正方法は、超高真空領域定ガスを供給する場合は
、超高真空領域で微量なガスを供給することはリークバ
ルブでの調整が困難で、超高真空領域での校正ができな
いという欠点があった。
〔発明の目的〕
本発明の目的は、超高真空計の校正が超高真空領域又・
も測定ガスによって可能であり、超高真空領域で圧力計
セン号−間の放電を防止して超高真空領域まで精度のよ
い校正ができる腐真空祖の校正装置を提供することにあ
る。
〔発明の$1.要〕 本発明は、測定ガス供給部と真空計取付部間にオリフィ
スを設けてiIl定ガス供給部と真空!II′!v付部
に圧力差を生じさせ、測定ガス併給部に神助用の真空ポ
ンプを接続し真空引きができるようにして圧力調整を容
易ならしめ、また、超高真空領域で真空針のセンサー間
で放電現象が生じないよう遮蔽板を設け、各真空計およ
びガス分析器に同じ測定ガスの分圧が流れるような構造
にした真空針の校正g置である。
〔発明の実施例〕
以下、本発明の一実施例を第1図および第2図により説
明する。
真空ポンプ1の上部にテス!・ドーム2を接続する。テ
ストドーム2は仕切りZにより2室に仕切られ、この仕
切り乙にオリフィス3が取付けられ、オリフィス3下部
の室には校正用真空計41ガス分析a5.被校正用真空
計6および遮蔽板7が設けらnる。一方、オリフィス3
上部の室には真空計8.ガス供給管9および室内真空引
き管1oが設けられている。真空引き回路には、夏空ポ
ンプ11およびバルブ12が接続さnている。ガス供給
回路は、水素ガスボンベ】3.減圧弁】4.締切弁15
の回路と、窒素ガスボンベ16.減圧弁17 、締切弁
18の回路および連結管四、リークバルブ(9)より構
成されて、いる。
真空計の校正は、まずテストドーム2に接続されている
バルブ】2およびリークバルブ加を完全に締切った状態
でテストドーム2の内圧が到達圧力になるまで真空ポン
プ1で真空引きを行なう。そして、テストドーム2の内
圧が到達圧力になったことを真空計8および校正用真空
計4で確かめると共にガス分析器5で被校正用真空計6
部の残留ガフを分1析する・ 上記残留ガス分析で水素分圧が95チ以上であることを
確認し、この状態で被校正用真空計6を作動させ、到達
圧力での校正用真空計4との校正を行なう。
圧力の高い状態での水素ガスによる校正は、水素ガスボ
ンベ13から減圧弁14で定圧にし締切弁15゜リーク
バルブクによって必要量の水素ガスをテストドーム2の
オリフィス3上部の室に供給し、オリフィス31遮蔽板
7を通り校正用真空計4.ガス分析器51被校正用真空
計6の取付部の圧力およびガス分圧濃度が同一にさnた
状態で行なう。
テストドーム2内部の真空計4.6の取付部の圧力調整
は、真空引き回路の真空ポンプ11により2 て真空引きを行ないバルブ神の開度で調圧する。
窒素ガスでの真空計の校正は、上述の水素ガスでの校正
の停台と同様に窒素ガスボンベ16から減圧弁17で定
圧にし締切弁18 、 U−クバルブ9によって必at
の窒素ガスをテストドーム2のオリフィス3の上部室に
供給し、オリフィス3.遮蔽板7を別して校正用真空計
4、被校正用真空計6゜ガス分析器5の取付部の圧力お
よびガス分圧濃度が同一になるように測定ガスを供給し
、ガス分析器5で測定ガス分圧が95係以上の状態で被
校正用真空計6を校正用真空計4で校正する。
遮蔽板7は、テストドーム2内の圧力が低下しII!高
真空状態になる真空計のセンサー間で放電現象が発生し
正確な圧力指示ができないので、テストドーム2の外部
から容易にベーキングできる構造とするために設けたも
のである。
超高真空計の校正は、テストドーム2内を超高真空状態
にする必要があり、テストドーム2内を超高真空状態に
するにはテストドーム2内が十分ベーキングできる構造
にする必要がある。
定ガス分圧を同一にするためであり、遮蔽板7のコンダ
クタンスが無視できる程度のコンダクタンスの小さいオ
リフィス3とするものである。
真空計の校正時には測定ガスをテストドーム2内部にリ
ークバルブ19で供給量を調整しながら供給するが、超
高真空状態では供給量が少量でリークバルブ四のみでは
微調整ができないため真空ポンプ11を使用し、テスト
ドーム2の内圧調整を行なうものである。また、測定ガ
スに水素ガスと窒素ガスを用いるのは一般的に容器内の
圧力を測定する際圧力が高い時は窒素分圧が高く、圧力
が低くなると水素分圧が高(なるので、真空針自身とし
ては両者にて校正を行なってお4必要があるためである
本実施例によれば、超高真を計の校正時に超高真空状態
の圧力の低い状態でも、測定ガスの供給と真空ポンプの
併用で超?Pb真空状態での真空計の校正が可能である
。また、超高真空状1で同じ所に多(の真空針を取イ]
け作動させると、真空計のセン吠−Illで放電現象が
発生し正確な指示値を示さないが、真空計取付部に放電
防止用の遮蔽板を設け、遮蔽板のコンダクタンスで真空
計数イ]部の圧力および測定ガスの分圧に差が生じない
ようにガス供給部と真空計取付部の間にコンダクタンス
の小さいオリフィスを設けたことにより、超高真空状態
で真空計の正確な校正が可能となる。
〔発明の効果〕
本発明によれば、真空剤センサー間での放電を防止し、
真空C1の校正が超高真空状態で精度よくできるという
効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明Iこよる真空計の校正装置の一実施例を
示す一部断面正面図、第2図は第1図のA−入断面図で
ある。 1−・・・真空ポンプ、2・・・・・・テストドーム、
3・・・・・・オリフィス、4・・・・・・校正用真空
針、5・・・・・・ガス分析器、6・・・・・・被校正
用真空引、7・・・・・・遮蔽板、8・・・・・・真空
計、9・・・・・ガス供給管、10・・・・・・真空引
き管、1J・・・・・・真空ポンプ、12・・・・・・
バルブ、13・・・・・・水素ガスボンベ、14・・・
・・減圧弁、15・・・・・・締切弁、16・・・・・
・預素ガスボンベ、17・・・・・・減圧弁、18・・
・・・・締切弁、19・・・・・・連結管、λ・・・・
・・リークバルブ。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 テストドームなオリフィスによって2室に仕切り、
    真空引き用真空ポンプを接続した下流側の室に被校正用
    および校正用真空計とガス分析器を取付けると共に各真
    空計間の遮蔽板を設け、IFI=− 上流の室の真空計を取付けると共にガス供給回路と補助
    用の真空引き回路を接続り、たことを特徴とする真空針
    の校正装置。
JP3233484A 1984-02-24 1984-02-24 真空計の校正装置 Pending JPS60177235A (ja)

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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100724092B1 (ko) 2005-10-27 2007-06-04 한국표준과학연구원 In ―situ법에 의한 진공게이지의 절대교정 및 비교교정 장치 및 방법
KR100805926B1 (ko) 2006-08-22 2008-02-21 한국표준과학연구원 저진공 게이지 및 고진공 게이지의 통합 교정장치
CN102564696A (zh) * 2012-02-09 2012-07-11 江苏东方航天校准检测有限公司 便携式真空规校准系统及方法
CN102589803A (zh) * 2012-02-06 2012-07-18 江苏东方航天校准检测有限公司 一种便携式多功能真空校准系统及方法
CN102749170A (zh) * 2012-07-16 2012-10-24 卢耀文 复合型真空规校准系统及方法
CN102944358A (zh) * 2012-11-12 2013-02-27 中国航天科技集团公司第五研究院第五一〇研究所 一种高低温真空校准装置及方法

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