JPS60167346A - 真空処理装置 - Google Patents
真空処理装置Info
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- JPS60167346A JPS60167346A JP59268321A JP26832184A JPS60167346A JP S60167346 A JPS60167346 A JP S60167346A JP 59268321 A JP59268321 A JP 59268321A JP 26832184 A JP26832184 A JP 26832184A JP S60167346 A JPS60167346 A JP S60167346A
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- heat
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- elastic material
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、ウェーハ押上げ装置に係り、特に、エツチン
グ装置、プラズマＣＶＤ装置等の半導体製造装置に好適
なウェーハ押上げ装置に関するものである。
グ装置、プラズマＣＶＤ装置等の半導体製造装置に好適
なウェーハ押上げ装置に関するものである。
従来のウェーハ押上げ装置例を第１図により説明する。
第１図は、従来のウェーハ押上げ装置が適用された半導
体製造装置の処理室並びに予備室内の斜視図で、処理室
（図示省略）に上部電極（図示省略）と上下に対向し回
転可能に内設された下部電極テーブル（以下、テーブル
と略） １０のウェーハ１１の載置位置には案内孔（図
示省略）が穿設され、案内孔には、上端にウェーハ１１
０載置面を有する押上げ棒１２．１２’と、処理室の外
側に設けられ押上げ棒１２．１２’を上下動させる駆動
装５ｉ（図示省略）とで構成されたウェーハ押上げ゛装
置の押上げ棒稔。
体製造装置の処理室並びに予備室内の斜視図で、処理室
（図示省略）に上部電極（図示省略）と上下に対向し回
転可能に内設された下部電極テーブル（以下、テーブル
と略） １０のウェーハ１１の載置位置には案内孔（図
示省略）が穿設され、案内孔には、上端にウェーハ１１
０載置面を有する押上げ棒１２．１２’と、処理室の外
側に設けられ押上げ棒１２．１２’を上下動させる駆動
装５ｉ（図示省略）とで構成されたウェーハ押上げ゛装
置の押上げ棒稔。
プが上下動可能に内設されている。処理室に、例えば、
ゲートバルブ（図示省略）を介し兵役された予備室（図
示省略）には、ウェーハ１１をすくう爪１３が設けられ
ゲートバルブを介し処理室と予備室との間を往復動する
搬送アーム１４と搬送ベルト１５ａと先端が上下動可能
な搬送ベルト１５ｂとが内設されている。また、搬送ベ
ルト１５．ａ、１５ｂ間には、上端にウェーハ１１の載
置面を有す′る押上げ棒１６、１６’と、予備室の外側
に設けられ押上げ棒１６゜１６′を上下動させる駆動装
置（図示省略）とで構成されたウェーハ押上げ装置の押
上げ棒１６．１６’が上下動可能に設けられている。
ゲートバルブ（図示省略）を介し兵役された予備室（図
示省略）には、ウェーハ１１をすくう爪１３が設けられ
ゲートバルブを介し処理室と予備室との間を往復動する
搬送アーム１４と搬送ベルト１５ａと先端が上下動可能
な搬送ベルト１５ｂとが内設されている。また、搬送ベ
ルト１５．ａ、１５ｂ間には、上端にウェーハ１１の載
置面を有す′る押上げ棒１６、１６’と、予備室の外側
に設けられ押上げ棒１６゜１６′を上下動させる駆動装
置（図示省略）とで構成されたウェーハ押上げ装置の押
上げ棒１６．１６’が上下動可能に設けられている。
まず、供給カセット１７を搬送ベルト１５ ａ端に、収
納カセット１８を搬送ベルト１５ ｂ端にそれぞれセッ
トし予備室内を処理室内と同程度に真空排気する。その
後、供給カセット１７のウェーハ１１を搬送ベルｈ １
５ ａにより押上げ棒１６の位置まで搬送し、駆動装置
により押上げ棒１６を上昇させてウェーハ１１を押上げ
る。押上げられたウェーハ１１は、爪１３です（い取ら
れ搬送アーム１４を予備室からゲートバルブを介し処理
室に前進させることでテーブルｌＯのウェーハ載置位置
まで搬送され、駆動装置により押上げ棒りを上昇させる
ことで押上げられる。
納カセット１８を搬送ベルト１５ ｂ端にそれぞれセッ
トし予備室内を処理室内と同程度に真空排気する。その
後、供給カセット１７のウェーハ１１を搬送ベルｈ １
５ ａにより押上げ棒１６の位置まで搬送し、駆動装置
により押上げ棒１６を上昇させてウェーハ１１を押上げ
る。押上げられたウェーハ１１は、爪１３です（い取ら
れ搬送アーム１４を予備室からゲートバルブを介し処理
室に前進させることでテーブルｌＯのウェーハ載置位置
まで搬送され、駆動装置により押上げ棒りを上昇させる
ことで押上げられる。
ウェーハ１１を爪１３から除去された搬送アームエ４は
、処理室からゲートバルブを介し予備室へ後進し元の位
置に戻される。押上げ棒稔で押上げられたウェーハ１１
は、駆動装置により押上げ棒ルを下降させることでテー
ブル１０に載置される。テーブル１０を回転しウェーハ
載置位置へのウェーハ１１の載置が完了した後に、ゲー
トバルブを閉弁し処理が行われる。処理が終了した後に
、ゲートバルブを開弁する。その後、駆動装ＭＩこより
押上げ棒１２’を上昇させることで処理が終了したウェ
ーハ１１を押上げ棒ｎ′で押上げ、押上げ棒１２’で押
上げられたウェー ７％ １１は、搬送アーム１４をゲ
ートバルブを介し予備室から処理室へ前進させ、駆動装
置により押上げ！ １２’を下降させることで爪１３に
すくい取られる。
、処理室からゲートバルブを介し予備室へ後進し元の位
置に戻される。押上げ棒稔で押上げられたウェーハ１１
は、駆動装置により押上げ棒ルを下降させることでテー
ブル１０に載置される。テーブル１０を回転しウェーハ
載置位置へのウェーハ１１の載置が完了した後に、ゲー
トバルブを閉弁し処理が行われる。処理が終了した後に
、ゲートバルブを開弁する。その後、駆動装ＭＩこより
押上げ棒１２’を上昇させることで処理が終了したウェ
ーハ１１を押上げ棒ｎ′で押上げ、押上げ棒１２’で押
上げられたウェー ７％ １１は、搬送アーム１４をゲ
ートバルブを介し予備室から処理室へ前進させ、駆動装
置により押上げ！ １２’を下降させることで爪１３に
すくい取られる。
爪１３にすくい取られたつ、 −７％ １１は、押上げ
棒１６′の位置まで搬送され駆動装置により押上げ棒１
６′を上昇させることで押上げられ爪１３から除去され
る。
棒１６′の位置まで搬送され駆動装置により押上げ棒１
６′を上昇させることで押上げられ爪１３から除去され
る。
ウェーハ１工を除去された爪１３は、搬送アーム１４を
更に後進させることで元の位置に戻される。押上げ棒１
６′で押上げられたウェー／１１１は、駆動装置により
押上げ棒１６’を下降させることで搬送ベルＩ−１５ｂ
に載置され、その後、搬送ベルト１５ ｂにより搬送さ
れて収納カセット１８に収納される。このようにして、
テーブル１０に載置され処理が終了したウェーハ１１は
、収納カセット１８に順次収納される。
更に後進させることで元の位置に戻される。押上げ棒１
６′で押上げられたウェー／１１１は、駆動装置により
押上げ棒１６’を下降させることで搬送ベルＩ−１５ｂ
に載置され、その後、搬送ベルト１５ ｂにより搬送さ
れて収納カセット１８に収納される。このようにして、
テーブル１０に載置され処理が終了したウェーハ１１は
、収納カセット１８に順次収納される。
なお、この場合は、テーブル１０へのウェーハの載置並
びにテーブル１０から収納カセット１８へのウェーハ１
１の収納操作は同時に行われる。供給カセット１７０ウ
エーハ１１の処理が終了し、処理が終了したウェー／１
１１の収納カセット１８への収納が全て完了した後に、
ゲートバルブを閉弁し予備室の真空をブレークして供給
カセット１７並びに収納カセットが予備室外へ取出され
る。
びにテーブル１０から収納カセット１８へのウェーハ１
１の収納操作は同時に行われる。供給カセット１７０ウ
エーハ１１の処理が終了し、処理が終了したウェー／１
１１の収納カセット１８への収納が全て完了した後に、
ゲートバルブを閉弁し予備室の真空をブレークして供給
カセット１７並びに収納カセットが予備室外へ取出され
る。
このようなウェーハ押上げ装置では、押上げ棒を上下動
させる駆動装置を設ける必要があり、また、駆動装着と
処理室並びに予備室とを真空シールする必要があるため
、構造が複雑となり、したがって、その信頼性並びに保
守性が低下するといった欠点があった。
させる駆動装置を設ける必要があり、また、駆動装着と
処理室並びに予備室とを真空シールする必要があるため
、構造が複雑となり、したがって、その信頼性並びに保
守性が低下するといった欠点があった。
本発明の目的は、構造が簡単で信頼性並びに保守性の高
いウェーハ押上げ装置を提供することにある。
いウェーハ押上げ装置を提供することにある。
本発明は、一端にウェーハ載置面を有すると共に、他端
面が冷却機能を有する固定面に当接し設けられた熱伸縮
材と、該熱伸縮材に添装されたヒータとで構成したこと
を特徴とし、構造を簡単化でき高信頼性並びに高保守性
が得られるものである。
面が冷却機能を有する固定面に当接し設けられた熱伸縮
材と、該熱伸縮材に添装されたヒータとで構成したこと
を特徴とし、構造を簡単化でき高信頼性並びに高保守性
が得られるものである。
本発明の一実施例を第２図により説明する。
第２図は、本発明によるウェーハ里上げ装置を適用した
半導体製造装置の処理室の縦断面図で、例えば、ゲート
バルブ１９を介し予備室加が兵役された処理室２１には
、上部電極ηと、上部電極ηと上下に対向し磁性シール
材幻でシールされ回転可能なテーブル１０とが内設され
ている。テーブル１０のウェーハ載置位置には、固定面
となる底面を有する孔列がテーブル１０の表面から穿設
され、孔列には、一端（第２図では、上端）にウェーハ
の載置面を有すると共に、他端面（第２図では、下端面
）が孔列の底面に当接した熱伸縮材、例えば、形状記憶
合金で形成された熱伸縮材５と、熱伸縮材怒に巻付けら
れて添装されたヒータがとて構成されたウェーハ押上げ
装置が、ガイドｎに伸縮をガイドされて内股されている
。ヒータかには、テーブル１０の側面か′ら孔列に連通
し穿設された孔列に挿設された電線間の一端が接続され
、電線間の他端は、外部に設けられた電源０Ｎ−ＯＦＦ
制御する電源制御装置（図示省略）からの電線間が接続
すれたスリップリング３１と接続可能となっている。ス
リ・ツブリング３１は、テーブル１０の側面と摺動可能
に支持材３２を介し処理室２１の内側面に設けられてい
る。また、テーブル１０には、孔列の底面と対応する位
置で冷媒流路間が形成されている。
半導体製造装置の処理室の縦断面図で、例えば、ゲート
バルブ１９を介し予備室加が兵役された処理室２１には
、上部電極ηと、上部電極ηと上下に対向し磁性シール
材幻でシールされ回転可能なテーブル１０とが内設され
ている。テーブル１０のウェーハ載置位置には、固定面
となる底面を有する孔列がテーブル１０の表面から穿設
され、孔列には、一端（第２図では、上端）にウェーハ
の載置面を有すると共に、他端面（第２図では、下端面
）が孔列の底面に当接した熱伸縮材、例えば、形状記憶
合金で形成された熱伸縮材５と、熱伸縮材怒に巻付けら
れて添装されたヒータがとて構成されたウェーハ押上げ
装置が、ガイドｎに伸縮をガイドされて内股されている
。ヒータかには、テーブル１０の側面か′ら孔列に連通
し穿設された孔列に挿設された電線間の一端が接続され
、電線間の他端は、外部に設けられた電源０Ｎ−ＯＦＦ
制御する電源制御装置（図示省略）からの電線間が接続
すれたスリップリング３１と接続可能となっている。ス
リ・ツブリング３１は、テーブル１０の側面と摺動可能
に支持材３２を介し処理室２１の内側面に設けられてい
る。また、テーブル１０には、孔列の底面と対応する位
置で冷媒流路間が形成されている。
このようなウェーハ押上げ装置では、テーブルへのウェ
ーハの載置並びにテーブルからのウェーハの除去は次の
ように行われる。
ーハの載置並びにテーブルからのウェーハの除去は次の
ように行われる。
まず、テーブルへのウェーハの載置であるが、予備室加
からゲートバルブ１９を介しテーブル１０のウェーハ載
置位置まで爪（図示省略）ですくわれ搬送されたウェー
ハ１１は、電線間の他端がスリップリング３１に接触し
た後、電源制御装置をＯＮすることでスリップリング３
１を介し電線間、３０を経て給電されるヒータ３で発生
する抵抗熱により加熱され、ガイドかでガイドされて伸
びる熱伸縮材５で押上げられ、爪から熱伸縮材５に受取
られる。
からゲートバルブ１９を介しテーブル１０のウェーハ載
置位置まで爪（図示省略）ですくわれ搬送されたウェー
ハ１１は、電線間の他端がスリップリング３１に接触し
た後、電源制御装置をＯＮすることでスリップリング３
１を介し電線間、３０を経て給電されるヒータ３で発生
する抵抗熱により加熱され、ガイドかでガイドされて伸
びる熱伸縮材５で押上げられ、爪から熱伸縮材５に受取
られる。
ウェーハ１１を除去された爪は、ゲートバルブ１９を介
し処理室２１から予備室加の所定位置まで戻る。
し処理室２１から予備室加の所定位置まで戻る。
ウェーハ１１が熱伸縮材６で受取られた後に、電源制御
装置をＯＦＦしヒータ加への給電を停止し、冷媒流路お
を流通する冷媒、例えば、冷却水で冷却されている孔列
の底面により熱伸縮材部を冷却する。この冷却により熱
伸縮材６は元の長さに縮み、これによりウェーハ１１は
テーブル１０のウェーハ載置位置に載置される。
装置をＯＦＦしヒータ加への給電を停止し、冷媒流路お
を流通する冷媒、例えば、冷却水で冷却されている孔列
の底面により熱伸縮材部を冷却する。この冷却により熱
伸縮材６は元の長さに縮み、これによりウェーハ１１は
テーブル１０のウェーハ載置位置に載置される。
次に、テーブルからのウェーハの除去であるが。
この場合は、テーブルへのウェーハの載置と逆操作によ
り行われる。
り行われる。
本実施例のようなウェーハ押上げ装置では、熱伸縮材を
ヒータで加熱し、冷却水で間接的に冷却して伸縮させる
ことで、テーブルへのウェーハの載置並びにテーブルか
らのウェーハの除去を行うことができるので、従来のウ
ェーハ押上げ装置のように駆動装置を処理室の外側に設
ける必要がなく、また、駆動装置と処理室との真空シー
ルも不要となり、構造が簡単となる。
ヒータで加熱し、冷却水で間接的に冷却して伸縮させる
ことで、テーブルへのウェーハの載置並びにテーブルか
らのウェーハの除去を行うことができるので、従来のウ
ェーハ押上げ装置のように駆動装置を処理室の外側に設
ける必要がなく、また、駆動装置と処理室との真空シー
ルも不要となり、構造が簡単となる。
なお、本実施例では、処理室に適用した例について説明
したが、予備室にも問題なく適用することができる。
したが、予備室にも問題なく適用することができる。
本発明によれば、ウェーハ押上げ装置を、一端にウェー
ハの載置面を有すると共に、他端面が冷却機能を有する
固定面に当接し設けられた熱伸縮材と、該熱伸縮材に添
装されたヒータとで構成したことで、駆動装置が不用で
、かつ、真空シールが簡単となり構造を簡単化できるの
で、高信頼性並びに高保守性が得られる効果がある。
ハの載置面を有すると共に、他端面が冷却機能を有する
固定面に当接し設けられた熱伸縮材と、該熱伸縮材に添
装されたヒータとで構成したことで、駆動装置が不用で
、かつ、真空シールが簡単となり構造を簡単化できるの
で、高信頼性並びに高保守性が得られる効果がある。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、一端にウェーハの載置面な有すると共に、他端面が
冷却機能を有する固定面に当接して設けられた熱伸縮材
と、該熱伸縮材に添装されたヒータとで構成したことを
特徴とするウェーハ押上げ装置。 ２、前記熱伸縮材を、形状記憶合金で形成した特許請求
の範囲第１項記載のウェーハ押上げ装置。 ３、 前記固定面下に、冷媒流路を設けた特許請求の範
囲第１項記載のウェーハ押上げ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59268321A JPS60167346A (ja) | 1984-12-21 | 1984-12-21 | 真空処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59268321A JPS60167346A (ja) | 1984-12-21 | 1984-12-21 | 真空処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60167346A true JPS60167346A (ja) | 1985-08-30 |
| JPS624856B2 JPS624856B2 (ja) | 1987-02-02 |
Family
ID=17456910
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59268321A Granted JPS60167346A (ja) | 1984-12-21 | 1984-12-21 | 真空処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60167346A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1997023899A1 (en) * | 1995-12-22 | 1997-07-03 | Lam Research Corporation | Shape memory alloy lift pins for semiconductor processing equipment |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5457867A (en) * | 1977-10-17 | 1979-05-10 | Nichiden Varian Kk | Vacuum processor with automatic wafer feeder |
-
1984
- 1984-12-21 JP JP59268321A patent/JPS60167346A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5457867A (en) * | 1977-10-17 | 1979-05-10 | Nichiden Varian Kk | Vacuum processor with automatic wafer feeder |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1997023899A1 (en) * | 1995-12-22 | 1997-07-03 | Lam Research Corporation | Shape memory alloy lift pins for semiconductor processing equipment |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS624856B2 (ja) | 1987-02-02 |
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