JPS60160597A - 断層撮影装置 - Google Patents
断層撮影装置Info
- Publication number
- JPS60160597A JPS60160597A JP59015807A JP1580784A JPS60160597A JP S60160597 A JPS60160597 A JP S60160597A JP 59015807 A JP59015807 A JP 59015807A JP 1580784 A JP1580784 A JP 1580784A JP S60160597 A JPS60160597 A JP S60160597A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- voltage
- circuit
- control signal
- ray tube
- tube current
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05G—X-RAY TECHNIQUE
- H05G1/00—X-ray apparatus involving X-ray tubes; Circuits therefor
- H05G1/08—Electrical details
- H05G1/26—Measuring, controlling or protecting
- H05G1/30—Controlling
- H05G1/34—Anode current, heater current or heater voltage of X-ray tube
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- X-Ray Techniques (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（イ）産業上の利用分野
この発明は、断層撮影装置に関し、特に、Ｘ線管装置と
受像手段とが軌道運転中に、軌道に応じて照射Ｘ線量を
変化させるようにしたＸ線制御装置を有する断層撮影装
置に関する。
受像手段とが軌道運転中に、軌道に応じて照射Ｘ線量を
変化させるようにしたＸ線制御装置を有する断層撮影装
置に関する。
（ロ）従来技術
通常の平行平面式のＸ線断層撮影装置は、第１図に示す
ように、Ｘ線管ｌとフィルム２とを、テーブル３上の被
検者４を間に挟んで対向配置し、被検者４の体内の任意
の位置に設定された断層面５に平行な平面６．７上をＸ
線管ｌとフィルム２とがそれぞれ移動できるようにして
おいて、これら両者を断層面５の中心点０を中心に対称
的に移動させるようにして構成されている。そして上記
の面６．７上での移動軌跡は直線、円、楕円、ハイポサ
イクロイダルおよびうす巻き軌道などの種々のものが採
用されている。
ように、Ｘ線管ｌとフィルム２とを、テーブル３上の被
検者４を間に挟んで対向配置し、被検者４の体内の任意
の位置に設定された断層面５に平行な平面６．７上をＸ
線管ｌとフィルム２とがそれぞれ移動できるようにして
おいて、これら両者を断層面５の中心点０を中心に対称
的に移動させるようにして構成されている。そして上記
の面６．７上での移動軌跡は直線、円、楕円、ハイポサ
イクロイダルおよびうす巻き軌道などの種々のものが採
用されている。
ところで、一般に断層撮影の目的は、截断面の像を正確
に読影することであると言える。それゆえ、正確な読影
の障害となる障害陰影をできる限り目立たなくするか、
障害陰影を見わけ易くする必要がある。従来、多軌道断
層撮影装置を用いた撮影では、撮影部位や撮影軌道の種
類により載断面以外の像が截断面の像の読影の障害とな
る場合があり、この影響をなくすためＸ線管装置の速度
を変化させたり、管電流を制御したり（特公昭５８−２
０１１７）ｌ、ている。ところが、前者は構造上困難な
点が多く、また後者は、Ｘ線管のフィラメント加熱回路
に３端子双方向性スイツチング素子を挿入し、位相制御
により管電流を制御するものであるため、特に管電流が
小さいとき管電流のリップルが大きくなり、フィルムに
むらが生じるという問題がある。
に読影することであると言える。それゆえ、正確な読影
の障害となる障害陰影をできる限り目立たなくするか、
障害陰影を見わけ易くする必要がある。従来、多軌道断
層撮影装置を用いた撮影では、撮影部位や撮影軌道の種
類により載断面以外の像が截断面の像の読影の障害とな
る場合があり、この影響をなくすためＸ線管装置の速度
を変化させたり、管電流を制御したり（特公昭５８−２
０１１７）ｌ、ている。ところが、前者は構造上困難な
点が多く、また後者は、Ｘ線管のフィラメント加熱回路
に３端子双方向性スイツチング素子を挿入し、位相制御
により管電流を制御するものであるため、特に管電流が
小さいとき管電流のリップルが大きくなり、フィルムに
むらが生じるという問題がある。
すなわち、断層撮影においては、Ｘ線管の移動に伴ない
、軌道上の任意の位置におけるフィルム面到達線量Ｉは
、ＦＦＤ（Ｘ線管焦点−フィルム間圧＃）による減弱ｆ
（θ）、被写体による減弱ｇ（θ）、Ｘ線管移動量によ
るＸ線量の変化ｈ（０）、Ｘ線管電流Ａ（θ）により、 Ｉ ＝ Ｋ−Ａ （θ）・ｆ（０）・ｇ（θ）・ｈ（０
）となる。但しθは第１図に示すようにＸ線管領斜角度
、Ｋは定数である。ところがｆ（θ）は構造」二制御不
可であり、ｇ（θ）は被写体に依存するため制御不可で
ある。上記の前者ではｈ（θ）を制御しようというので
あるが、上記のように機構およびその制御が複雑となる
。そこでＡ（θ）を制御して工を制御することが最善と
考えられ、これを実現するものが上記の後者であるが、
上記のように問題がある。
、軌道上の任意の位置におけるフィルム面到達線量Ｉは
、ＦＦＤ（Ｘ線管焦点−フィルム間圧＃）による減弱ｆ
（θ）、被写体による減弱ｇ（θ）、Ｘ線管移動量によ
るＸ線量の変化ｈ（０）、Ｘ線管電流Ａ（θ）により、 Ｉ ＝ Ｋ−Ａ （θ）・ｆ（０）・ｇ（θ）・ｈ（０
）となる。但しθは第１図に示すようにＸ線管領斜角度
、Ｋは定数である。ところがｆ（θ）は構造」二制御不
可であり、ｇ（θ）は被写体に依存するため制御不可で
ある。上記の前者ではｈ（θ）を制御しようというので
あるが、上記のように機構およびその制御が複雑となる
。そこでＡ（θ）を制御して工を制御することが最善と
考えられ、これを実現するものが上記の後者であるが、
上記のように問題がある。
（ハ）目的
この発明は、Ｘ線管電流を制御することにより照射Ｘ線
量を変化させ、しかも管電流のリップルが少なくてむら
のない画像を得ることができ、且つ簡単な構成のＸ線制
御装置を備える断層撮影装置を提供することを目的とす
る。
量を変化させ、しかも管電流のリップルが少なくてむら
のない画像を得ることができ、且つ簡単な構成のＸ線制
御装置を備える断層撮影装置を提供することを目的とす
る。
（ニ）構成
この発明の断層撮影装置では、Ｘ線管のフィラメント加
熱回路にトランジスタを挿入し、設定された軌道に応じ
て初期値より時間的に変化していく制御信号を発生する
信号発生回路を設け、この制御信号に応じてトランジス
タを駆動することによりＸ線管電流を変化させて到達Ｘ
線量を一定にするようにしている。
熱回路にトランジスタを挿入し、設定された軌道に応じ
て初期値より時間的に変化していく制御信号を発生する
信号発生回路を設け、この制御信号に応じてトランジス
タを駆動することによりＸ線管電流を変化させて到達Ｘ
線量を一定にするようにしている。
（ホ）実施例
以下に示す実施例は、この発明を種々の軌道をとること
ができる多軌道Ｘ線断層撮影装置に適用したものである
。種々の軌道をとることができるようにするためには回
転運動と直線運動とを組合せなければならないので、模
式的に表現すると、第２図に示すようにＸ線管１は直線
運動４！１構９とこの直線運動機構９を回転させる回転
運動機構８とによって保持されていることになる。この
第２図には示していないが、フィルム２は中心点０（第
１図参照）を支点として回動可能に支持された連結レバ
ーを介してＸ線管ｌと連結され、Ｘ線管ｌがうす巻き軌
道などの種々の軌道上を運動したときこのＸ線管ｌの運
動に対して点０を中心としてフィルム２が対称的に運動
するように之れている。このような相対運動を実現する
機構はＸ線断層撮影装置において従来より一般に用いら
れているので説明は省略する。
ができる多軌道Ｘ線断層撮影装置に適用したものである
。種々の軌道をとることができるようにするためには回
転運動と直線運動とを組合せなければならないので、模
式的に表現すると、第２図に示すようにＸ線管１は直線
運動４！１構９とこの直線運動機構９を回転させる回転
運動機構８とによって保持されていることになる。この
第２図には示していないが、フィルム２は中心点０（第
１図参照）を支点として回動可能に支持された連結レバ
ーを介してＸ線管ｌと連結され、Ｘ線管ｌがうす巻き軌
道などの種々の軌道上を運動したときこのＸ線管ｌの運
動に対して点０を中心としてフィルム２が対称的に運動
するように之れている。このような相対運動を実現する
機構はＸ線断層撮影装置において従来より一般に用いら
れているので説明は省略する。
Ｘ線制御装置は第３図のように構成される。第３図にお
いて、Ｘ線管ｌのフィラメントには電源ｌｌよりトラン
ス１２を介してフィラメント加熱電圧が加えられている
。このフィラメント加熱回路のトランス１２の１次側に
トランジスタ１３が挿入され、加熱電力を制御している
。このトランジスタ１３は駆動回路１４で駆動され、電
圧検出回路１６によって検出されたフィラメント電圧と
制御電圧とが比較回路１７て比較され、その比較結果に
基づき駆動回路１４が制御されることにより、フィラメ
ント電圧の制御が行なわれる。通常のＸ線制御装置では
管電流設定用スイッチ１８から比較回路１７に、選択さ
れた軌道に応じた一定の制御電圧が与えられるが、この
実施例では管電流設定用スイッチ１８と比較回路１７と
の間に１点鎖線で囲まれた回路が挿入されている。
いて、Ｘ線管ｌのフィラメントには電源ｌｌよりトラン
ス１２を介してフィラメント加熱電圧が加えられている
。このフィラメント加熱回路のトランス１２の１次側に
トランジスタ１３が挿入され、加熱電力を制御している
。このトランジスタ１３は駆動回路１４で駆動され、電
圧検出回路１６によって検出されたフィラメント電圧と
制御電圧とが比較回路１７て比較され、その比較結果に
基づき駆動回路１４が制御されることにより、フィラメ
ント電圧の制御が行なわれる。通常のＸ線制御装置では
管電流設定用スイッチ１８から比較回路１７に、選択さ
れた軌道に応じた一定の制御電圧が与えられるが、この
実施例では管電流設定用スイッチ１８と比較回路１７と
の間に１点鎖線で囲まれた回路が挿入されている。
スイッチ１８で選択された管電流の値はＯＦアンプ２１
で構成されるバッファを通ってＯＰアンプ２２よりなる
加算回路に送られ、ＯＰアンプ２４とコンデンサ２５等
からなる積分回路の出力と加算される。スイッチ２３は
管電流の初期値を設定するためのものである。またスイ
ッチ２６は、選択された軌道に応じて積分定数を設定す
るためのスイッチであり、軌道別に管電流変化を設定で
きるようになっている。スイッチ２７．２８はコンデン
サ２５を短絡するためのスイッチであり、スイッチ２７
は管電流を変化させたくないときにオンにする。スイッ
チ２８がＸ線曝射に応じてオフになり、積分動作を開始
させる。ツェナダイオード２９は積分動作を制限するも
ので、管電流変化に制限を加えるために接続されている
。
で構成されるバッファを通ってＯＰアンプ２２よりなる
加算回路に送られ、ＯＰアンプ２４とコンデンサ２５等
からなる積分回路の出力と加算される。スイッチ２３は
管電流の初期値を設定するためのものである。またスイ
ッチ２６は、選択された軌道に応じて積分定数を設定す
るためのスイッチであり、軌道別に管電流変化を設定で
きるようになっている。スイッチ２７．２８はコンデン
サ２５を短絡するためのスイッチであり、スイッチ２７
は管電流を変化させたくないときにオンにする。スイッ
チ２８がＸ線曝射に応じてオフになり、積分動作を開始
させる。ツェナダイオード２９は積分動作を制限するも
ので、管電流変化に制限を加えるために接続されている
。
任意の軌道を選択し、これに応じてＸ線管電流を時間的
に変化させる場合について説明する。まずスイッチ１８
でＶ電流値が選択され、次にスイッチ２３で管電流値の
初期値が設定される。これらは選択された軌道に応じて
設定される。さらにスイッチ２６により、選択された軌
道に応じた管電流変化をもたらす積分定数の設定が行な
われる。そしてスイッチ２７はオフにされる。軌道運転
が開始し、Ｘ線の曝射が始まると、曝射スイッチ２８が
オフになる。するとこの積分回路の積分動作が開始して
、積分電圧が徐々に高まってい〈。この積分電圧は加算
回路でバッファからの出力電圧と加算され、加算回路か
らは初期値より時間的に徐々に高くなる電圧が出力され
、これが制御信号として比較回路１７に送られる。一方
フィラメント電圧は電圧検出回路１６で検出されていて
、この検出電圧と上記の制御信号との比較が行なわれ、
その差が比較回路１７から駆動回路１４に送られる。し
たがってトランジスタ１３が、上記の差がなくなるよう
制御されることになり、管電流が制御信号に応じて変化
させられることになる。この実施例では積分回路が用い
られているので、管電流は時間とともに直線的に増加し
、ツェナダイオード２９により′その増加が停止させら
れる。
に変化させる場合について説明する。まずスイッチ１８
でＶ電流値が選択され、次にスイッチ２３で管電流値の
初期値が設定される。これらは選択された軌道に応じて
設定される。さらにスイッチ２６により、選択された軌
道に応じた管電流変化をもたらす積分定数の設定が行な
われる。そしてスイッチ２７はオフにされる。軌道運転
が開始し、Ｘ線の曝射が始まると、曝射スイッチ２８が
オフになる。するとこの積分回路の積分動作が開始して
、積分電圧が徐々に高まってい〈。この積分電圧は加算
回路でバッファからの出力電圧と加算され、加算回路か
らは初期値より時間的に徐々に高くなる電圧が出力され
、これが制御信号として比較回路１７に送られる。一方
フィラメント電圧は電圧検出回路１６で検出されていて
、この検出電圧と上記の制御信号との比較が行なわれ、
その差が比較回路１７から駆動回路１４に送られる。し
たがってトランジスタ１３が、上記の差がなくなるよう
制御されることになり、管電流が制御信号に応じて変化
させられることになる。この実施例では積分回路が用い
られているので、管電流は時間とともに直線的に増加し
、ツェナダイオード２９により′その増加が停止させら
れる。
管電流を一定にしたい場合は次のようにする。
スイ・ンチ１８で管電流を設定するとともに、スイッチ
２３で初期値を設定し、加算回路の出力がスイッチ１８
から出力される電圧と等しくなるようにする。そしてス
イッチ２７をオフとしておけば、積分動作は行なわれな
いので、比較回路１７に加えられる制御信号は初期値の
まま一定のちのとなる。
２３で初期値を設定し、加算回路の出力がスイッチ１８
から出力される電圧と等しくなるようにする。そしてス
イッチ２７をオフとしておけば、積分動作は行なわれな
いので、比較回路１７に加えられる制御信号は初期値の
まま一定のちのとなる。
なお、積分回路の代りに関数発生回路を用いれば、任意
の関数に応じて変化する制御信号を得ることができ、単
に管電流を直線的に増加させるだけでなく、種々の変化
態様で管電流を変化させることができる。
の関数に応じて変化する制御信号を得ることができ、単
に管電流を直線的に増加させるだけでなく、種々の変化
態様で管電流を変化させることができる。
ここで、あらかじめ定めた変化態様にしたがって管電流
を時間的に変化させているが、これは軌道の選択が行な
われれば、角度θ（第１図参照）の時間的な変化がおの
ずから決まってしまうことが基礎になっている。すなわ
ち、角度θは時間ｔの関数であり、上記の式で言えばＡ
（０）が時間ｔで制御されることになり、これによりＡ
（θ）を制御してフィルム面到達線１％Ｉを一定にする
ことが実現されている。そしてフィラメント加熱回路に
挿入されたトランジスタ１３により管電流の制御を行な
っているため、管電流のリップルが少なくなる。
を時間的に変化させているが、これは軌道の選択が行な
われれば、角度θ（第１図参照）の時間的な変化がおの
ずから決まってしまうことが基礎になっている。すなわ
ち、角度θは時間ｔの関数であり、上記の式で言えばＡ
（０）が時間ｔで制御されることになり、これによりＡ
（θ）を制御してフィルム面到達線１％Ｉを一定にする
ことが実現されている。そしてフィラメント加熱回路に
挿入されたトランジスタ１３により管電流の制御を行な
っているため、管電流のリップルが少なくなる。
（へ）効果
この発明によれば、Ｘ線管電流を制御することにより到
達線量を一定に保つことができるとともに、管電流変化
の全般にわたって管電流のリップルを小さくでき１画面
の全体にむらのない画像が得られる。しかも付加する回
路は簡単な構成となっており、簡便に実現できる。
達線量を一定に保つことができるとともに、管電流変化
の全般にわたって管電流のリップルを小さくでき１画面
の全体にむらのない画像が得られる。しかも付加する回
路は簡単な構成となっており、簡便に実現できる。
第１図は断層撮影装置の動作を説明するための模式図、
第２図はこの発明の一実施例にかかる断層撮影装置の運
動機構を模式的に示す斜視図、第３図は同実施例のＸ線
制御装置を示すブロック図である。 ｌ・・・Ｘｉ管 ２・・・フィルム ３・・・テーブル ４・・・被検者 ５・・・断層面 ８・・・回転運動機構９・・・直線運
動機構 １１・・・電源１２・・・トランス １３・・
・トランジスタ１４・・・駆動回路 １６・・・電圧検
出回路１７・・・比較回路 １８・・・管電流設定用スイッチ ２１・・・バッファ用ＯＦアンプ ２２・・・加算用ＯＰアンプ ２３・・・初期値設定用スイッチ ２４・・・積分用ＯＦアンプ ２５・・・積分用コンデンサ ２６・・・軌道選択用スイッチ ２９・・・ツェナダイオード 出願人 株式会社島津製作所 第１頁の続き ０発 明 者 土 井 泰 敬 京都市中京区西条工場
内 ０発 明 者 嶋 川 猛 京都市中京区西条工場内
第２図はこの発明の一実施例にかかる断層撮影装置の運
動機構を模式的に示す斜視図、第３図は同実施例のＸ線
制御装置を示すブロック図である。 ｌ・・・Ｘｉ管 ２・・・フィルム ３・・・テーブル ４・・・被検者 ５・・・断層面 ８・・・回転運動機構９・・・直線運
動機構 １１・・・電源１２・・・トランス １３・・
・トランジスタ１４・・・駆動回路 １６・・・電圧検
出回路１７・・・比較回路 １８・・・管電流設定用スイッチ ２１・・・バッファ用ＯＦアンプ ２２・・・加算用ＯＰアンプ ２３・・・初期値設定用スイッチ ２４・・・積分用ＯＦアンプ ２５・・・積分用コンデンサ ２６・・・軌道選択用スイッチ ２９・・・ツェナダイオード 出願人 株式会社島津製作所 第１頁の続き ０発 明 者 土 井 泰 敬 京都市中京区西条工場
内 ０発 明 者 嶋 川 猛 京都市中京区西条工場内
Claims (1)
- （１）Ｘ線管装置と、被写体を透過したＸ線が入射する
よう被写体を挟んで上記Ｘ線管装置に対して対向配置さ
れる受像手段と、上記Ｘ線管装置と受像手段とを被写体
中に設定された断層面上の中心点を中心として対称的に
移動させる移動手段と、設定された軌道に応じて初期値
より時間的に変化していく制御信号を発生する信号発生
回路と、上記Ｘ線管装置のフィラメント加熱回路に挿入
されており、上記制御信号に応じて駆動されることによ
りＸ線管電流を変化させるトランジスタとからなる断層
撮影装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59015807A JPS60160597A (ja) | 1984-01-31 | 1984-01-31 | 断層撮影装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59015807A JPS60160597A (ja) | 1984-01-31 | 1984-01-31 | 断層撮影装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60160597A true JPS60160597A (ja) | 1985-08-22 |
Family
ID=11899114
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59015807A Pending JPS60160597A (ja) | 1984-01-31 | 1984-01-31 | 断層撮影装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60160597A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59160826U (ja) * | 1983-04-13 | 1984-10-27 | 川崎重工業株式会社 | 過給空気のユニツト式冷却装置 |
-
1984
- 1984-01-31 JP JP59015807A patent/JPS60160597A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59160826U (ja) * | 1983-04-13 | 1984-10-27 | 川崎重工業株式会社 | 過給空気のユニツト式冷却装置 |
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