JPS60158629A - マイクロ波プラズマ処理装置 - Google Patents

マイクロ波プラズマ処理装置

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JPS60158629A
JPS60158629A JP59013251A JP1325184A JPS60158629A JP S60158629 A JPS60158629 A JP S60158629A JP 59013251 A JP59013251 A JP 59013251A JP 1325184 A JP1325184 A JP 1325184A JP S60158629 A JPS60158629 A JP S60158629A
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JP
Japan
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plasma
electrode
frequency
frequency bias
electrodes
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JP59013251A
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Japanese (ja)
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Noriaki Yamamoto
山本　則明
Fumio Shibata
柴田　史雄
Norio Kanai
金井　謙雄
Sadayuki Okudaira
奥平　定之
Shigeru Nishimatsu
西松　茂
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Original Assignee
Hitachi Ltd
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0286127A (ja) * 1988-09-22 1990-03-27 Hitachi Ltd プラズマクリーニング方法
JP2000208496A (ja) * 1999-01-19 2000-07-28 Hitachi Ltd ドライエッチング装置および半導体装置の製造方法

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JPH0286127A (ja) * 1988-09-22 1990-03-27 Hitachi Ltd プラズマクリーニング方法
JP2000208496A (ja) * 1999-01-19 2000-07-28 Hitachi Ltd ドライエッチング装置および半導体装置の製造方法

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