JPS60158176A - 置換イミダゾール及びその製造方法並びに該化合物を含む医薬製剤 - Google Patents
置換イミダゾール及びその製造方法並びに該化合物を含む医薬製剤Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、一般式(I):
〔式中Phは非置換フェニル基又は低級アルキル基若し
くは低級アルコキシ基で置換されたフェニル基を表し、
R1及びR2はそれぞれ低級アルキル基を表す〕の置換
イミダゾール及びその塩、それらの用途、製造方法及び
一般式(1)の化合物又はその医薬に許容しうる塩を含
む医薬製剤に関する。
くは低級アルコキシ基で置換されたフェニル基を表し、
R1及びR2はそれぞれ低級アルキル基を表す〕の置換
イミダゾール及びその塩、それらの用途、製造方法及び
一般式(1)の化合物又はその医薬に許容しうる塩を含
む医薬製剤に関する。
低級アルキル基又は低級アルコキシ基で置換されたフェ
ニル基は、特に1個以上、例えば2個或いは3個の低級
アルキル基又は低級アルコキシ基を特にオルト位及び/
又はメタ位に結合して有する。
ニル基は、特に1個以上、例えば2個或いは3個の低級
アルキル基又は低級アルコキシ基を特にオルト位及び/
又はメタ位に結合して有する。
以上及び以下において、「低級」と示す基又は化合物は
、炭素原子数7以下、特に4以下のものを表すものとす
る。
、炭素原子数7以下、特に4以下のものを表すものとす
る。
使用する一般的用語は下記の意味を有する。
低級アルキル基は、例えばメチル基、エチル基、n−プ
ロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル
基、5ec−ブチル基又はter t−ブチル基であり
、更に相応するペンチル基、ヘキシル基又はヘプチル基
を含む。
ロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル
基、5ec−ブチル基又はter t−ブチル基であり
、更に相応するペンチル基、ヘキシル基又はヘプチル基
を含む。
低級アルコ士シ基は、例えばメトキシ基、エトキシ基、
n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ペンチルオキシ
基、イソブトキシ基又はtert−ブトキシ基である。
n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ペンチルオキシ
基、イソブトキシ基又はtert−ブトキシ基である。
一般式(1)の化合物の塩は、酸付加塩、好ましくは医
薬に許容しうる酸付加塩である。これらは、例えば強無
機酸、例えば鉱酸、例えば硫酸、燐酸又はハロゲン水素
酸、強有機カルボン酸、例えば低級アルカンカルボン酸
、例えば酢酸、場合により不飽和のジカルボン酸、例え
ばマロン酸、マレイン酸若しくはフマル酸、オキシカル
ボン酸、例えば酒石酸若しくはクエン酸、スルボン酸、
例えば低級アルカンスルホン酸若しくは場合により置換
されたベンゼンスルホン酸、例えばメタンスルホン酸若
しくはp−1−ルエンスルボン酸を用いて形成される。
薬に許容しうる酸付加塩である。これらは、例えば強無
機酸、例えば鉱酸、例えば硫酸、燐酸又はハロゲン水素
酸、強有機カルボン酸、例えば低級アルカンカルボン酸
、例えば酢酸、場合により不飽和のジカルボン酸、例え
ばマロン酸、マレイン酸若しくはフマル酸、オキシカル
ボン酸、例えば酒石酸若しくはクエン酸、スルボン酸、
例えば低級アルカンスルホン酸若しくは場合により置換
されたベンゼンスルホン酸、例えばメタンスルホン酸若
しくはp−1−ルエンスルボン酸を用いて形成される。
医薬用には不適当な塩は、例えば本発明による遊離化合
物及びその医薬に許容しうる塩の単離及び精製のため使
用することができるので、これらも含まれる。
物及びその医薬に許容しうる塩の単離及び精製のため使
用することができるので、これらも含まれる。
本発明による化合物は、例えば有用な薬理作用を有する
。詳述すれば、本発明による化合物は、A型のモノアミ
ノオキシダーゼ(MAO)を選択的に、かつ可逆的に抑
制することができる。これらの性質は、ラットの肝臓及
びラットの脳で証明することができ、それぞれの場合に
、セロトニンの破壊が選択的に抑制される。ラットの肝
臓又は脳におけるMAO活性の測定を、ヴルツマン(1
1゜J、 Wurtman) ら著、Biochem、
Pharmacol、12.1439 (1963)
の方法と同様に実施し、約1 mg / kg以上の投
与量でMAOの抑制を活性成分の経口投与後に確認した
。
。詳述すれば、本発明による化合物は、A型のモノアミ
ノオキシダーゼ(MAO)を選択的に、かつ可逆的に抑
制することができる。これらの性質は、ラットの肝臓及
びラットの脳で証明することができ、それぞれの場合に
、セロトニンの破壊が選択的に抑制される。ラットの肝
臓又は脳におけるMAO活性の測定を、ヴルツマン(1
1゜J、 Wurtman) ら著、Biochem、
Pharmacol、12.1439 (1963)
の方法と同様に実施し、約1 mg / kg以上の投
与量でMAOの抑制を活性成分の経口投与後に確認した
。
従って、本発明による化合物は、抑うつ状態の予防及び
治療処置に使用することができる。
治療処置に使用することができる。
従って、本発明は、ヒト及び動物の身体の予防及び治療
処置並びに本発明による化合物の抑うつ症状の治療への
用途に関する。
処置並びに本発明による化合物の抑うつ症状の治療への
用途に関する。
本発明は、例えば、phが非置換フェニル基、又は低級
アルキル基、特に炭素原子数4以下の低級アルキル基で
1個以上、例えば2個置換されたフェニル基を表し、R
1及びR2がそれぞれ低級アルキル基、特に炭素原子数
4以下の低級アルキル基を表す一般式(1)の化合物及
びその塩に関する。
アルキル基、特に炭素原子数4以下の低級アルキル基で
1個以上、例えば2個置換されたフェニル基を表し、R
1及びR2がそれぞれ低級アルキル基、特に炭素原子数
4以下の低級アルキル基を表す一般式(1)の化合物及
びその塩に関する。
本発明は、例えば、phが低級アルコキシ基、特に炭素
原子数4以下の低級アルコキシ基、例えばメトキシ基で
1個以上、例えば2個置換されたフェニル基を表し、R
1及びR2がそれぞれ低級アルキル基、特に炭素原子数
4以下の低級アルキル基、例えばメチル基を表す一般式
(1)の化合物又はその塩に関する。
原子数4以下の低級アルコキシ基、例えばメトキシ基で
1個以上、例えば2個置換されたフェニル基を表し、R
1及びR2がそれぞれ低級アルキル基、特に炭素原子数
4以下の低級アルキル基、例えばメチル基を表す一般式
(1)の化合物又はその塩に関する。
本発明は、特に、phが非置換フェニル基又は2−位若
しくは3−位でそれぞれ炭素原子数4以下の低級アルキ
ル基若しくは低級アルコキシ基、例えばメチル基若しく
はメトキシ基で1個置換されたフェニル基又は2−位及
び6−位で炭素原子数4以下の低級アルキル基、例えば
メチル基で2個置換されたフェニル基を表し、R4及び
R2がそれぞれ炭素原子数4以下の低級アルキル基、例
えばメチル基を表す一般式(1)の化合物又はその塩に
関する。
しくは3−位でそれぞれ炭素原子数4以下の低級アルキ
ル基若しくは低級アルコキシ基、例えばメチル基若しく
はメトキシ基で1個置換されたフェニル基又は2−位及
び6−位で炭素原子数4以下の低級アルキル基、例えば
メチル基で2個置換されたフェニル基を表し、R4及び
R2がそれぞれ炭素原子数4以下の低級アルキル基、例
えばメチル基を表す一般式(1)の化合物又はその塩に
関する。
本発明は、特に、phが非置換フェニル基を表し、R1
及びR2がそれぞれ炭素原子数4個以下の低級アルキル
基、例えばメチル基を表す一般式(1)の化合物又はそ
の塩に関する。
及びR2がそれぞれ炭素原子数4個以下の低級アルキル
基、例えばメチル基を表す一般式(1)の化合物又はそ
の塩に関する。
本発明は、特に、実施例に挙げた新規化合物及びその塩
に関する。
に関する。
本発明は更に、
a)一般式(Ila):
l
Ph−乙I X+ (Ila)
c式中x1は反応性エステル化ヒドロキシ基を表す〕の
化合物を一般式(Ilb): 〔式中X2は水素又は金属基を表す〕の化合物と反応さ
せるか、又は b)一般式(■): I Ph −8H−Het ([1) 〔式中11stは2−R2−イミダゾール−1−イル基
に変換しうる基を表す〕の化合物中のHetを2R2−
イミダゾール−1−イル基に変えるか、又は C)一般式(■) : 〔式中Aは−CH(R+ )−に変換しうる基を表し、
基R21はR2に変換しうる基又はR2を表すか、又は
Aは基−CH(R+)−を表し、R2′はR2に変換し
うる基を表す〕の化合物中のAを−CH(R1)−に変
え、及び/又はR21をR2に変えるか、又は d)一般式(■): 〔式中AC)はプロトン酸の陰イオンを表す〕の化合物
を還元して一般式(1)の対応する化合物にするか、又
は e)一般式(■): 1 ph−^HX3(VI) 〔式中X3は閉環により2−R2−イミダゾール−1−
イル基に変換しうる基を表す〕の化合物を閉環させるか
、又は f)一般式(■a): の化合物を一般式(■b): R’ X@ (■b) 〔式中基X4及びX6の一方は反応性エステル化ヒドロ
キシ基を表し、゛他方は金属基を表し、X5は基R2を
表し、Roは基R+を表すか、又は基X5及びX6の一
方は反応性エステル化ヒドロキシ基を表し、他方は金属
基を表し、x4は基R1を表し、Roは基R2を表す〕
と反応させるか、又は g)Phが低級アルコキシ基で置換されたフェニルを表
す一般式(1)の化合物又はその塩を製造するため、一
般式(■): C式中ph“はphに変換しうる基を表す〕の化合物中
のph’をPhに変え、 a)〜g)に挙げた出発原料は場合により塩の形であっ
てもよく、本発明方法により得られる一般式(1)の化
合物を必要に応じて、一般式(1)の異なる化合物に変
え、及び/又は生じた塩を必要に応じて一般式(1)の
遊離化合物又は異なる塩に変え、及び/又は本発明方法
により得られる一般式(1)の遊離化合物を必要に応じ
て塩に変え、及び/又は生じた異性体混合物を必要に応
じて個々の成分に分離することを特徴とする一般式(1
)の化合物及びその塩の製造方法に関する。
化合物を一般式(Ilb): 〔式中X2は水素又は金属基を表す〕の化合物と反応さ
せるか、又は b)一般式(■): I Ph −8H−Het ([1) 〔式中11stは2−R2−イミダゾール−1−イル基
に変換しうる基を表す〕の化合物中のHetを2R2−
イミダゾール−1−イル基に変えるか、又は C)一般式(■) : 〔式中Aは−CH(R+ )−に変換しうる基を表し、
基R21はR2に変換しうる基又はR2を表すか、又は
Aは基−CH(R+)−を表し、R2′はR2に変換し
うる基を表す〕の化合物中のAを−CH(R1)−に変
え、及び/又はR21をR2に変えるか、又は d)一般式(■): 〔式中AC)はプロトン酸の陰イオンを表す〕の化合物
を還元して一般式(1)の対応する化合物にするか、又
は e)一般式(■): 1 ph−^HX3(VI) 〔式中X3は閉環により2−R2−イミダゾール−1−
イル基に変換しうる基を表す〕の化合物を閉環させるか
、又は f)一般式(■a): の化合物を一般式(■b): R’ X@ (■b) 〔式中基X4及びX6の一方は反応性エステル化ヒドロ
キシ基を表し、゛他方は金属基を表し、X5は基R2を
表し、Roは基R+を表すか、又は基X5及びX6の一
方は反応性エステル化ヒドロキシ基を表し、他方は金属
基を表し、x4は基R1を表し、Roは基R2を表す〕
と反応させるか、又は g)Phが低級アルコキシ基で置換されたフェニルを表
す一般式(1)の化合物又はその塩を製造するため、一
般式(■): C式中ph“はphに変換しうる基を表す〕の化合物中
のph’をPhに変え、 a)〜g)に挙げた出発原料は場合により塩の形であっ
てもよく、本発明方法により得られる一般式(1)の化
合物を必要に応じて、一般式(1)の異なる化合物に変
え、及び/又は生じた塩を必要に応じて一般式(1)の
遊離化合物又は異なる塩に変え、及び/又は本発明方法
により得られる一般式(1)の遊離化合物を必要に応じ
て塩に変え、及び/又は生じた異性体混合物を必要に応
じて個々の成分に分離することを特徴とする一般式(1
)の化合物及びその塩の製造方法に関する。
−方法a)〜g)における前記及び後記の反応は自体公
知の方法で、例えば適当な溶剤又は希釈剤又はそれらの
混合物の不存在又は、通常、存在で実施し、その反応を
必要に応じ、冷却しながら、室温で又は加熱しながら、
例えば約−10℃〜約+250°C1好ましくは約り0
℃〜約150℃の温度範囲で、必要に応じて密閉容器中
で、加圧下に、不活性雰囲気中で及び/又は無水の条件
下に実施する。
知の方法で、例えば適当な溶剤又は希釈剤又はそれらの
混合物の不存在又は、通常、存在で実施し、その反応を
必要に応じ、冷却しながら、室温で又は加熱しながら、
例えば約−10℃〜約+250°C1好ましくは約り0
℃〜約150℃の温度範囲で、必要に応じて密閉容器中
で、加圧下に、不活性雰囲気中で及び/又は無水の条件
下に実施する。
前記及び後記の一般式(na)及び(II b)、(D
I)、(IV)、(V)、(Vl)、(■a)及び(■
b)並びに(■)の出発原料のうち若干のもの(一般式
(1)の化合物の製造のために開発した)は公知である
か、又は自体公知の方法、例えば前記及び後記の方法と
同様にして製造することができる。
I)、(IV)、(V)、(Vl)、(■a)及び(■
b)並びに(■)の出発原料のうち若干のもの(一般式
(1)の化合物の製造のために開発した)は公知である
か、又は自体公知の方法、例えば前記及び後記の方法と
同様にして製造することができる。
iL!L:
反応性エステル化ヒドロキシ基は、特に、強い無機酸又
は有機スルホン酸、例えばハロゲン、例えば塩素、臭素
若しくは沃素でエステル化されたヒドロキシ基、スルホ
ニルオキシ基、例えばヒドロキシスルホニルオキシ基、
ハロスルホニルオキシ基、例えばフルオロスルホニルオ
キシ基、場合により置換、例えばハロゲンで置換された
低級アルカンスルホニルオキシ基、例えばメタンスルホ
ニルオキシ基若しくはトリフルオロメタンスルボニルオ
キシ基、シクロアルカンスルホニルオキシ基、例えばシ
クロヘキサンスルホニルオキシ基、又は、場合により置
換、例えば低級アルキル基若しくはハロゲンで置換され
たヘンゼンスルホニルオキシ基、例えばp−ブロモフェ
ニルスルホニルオキシ基若しくはp−トルエンスルホニ
ルオキシ基を表す。
は有機スルホン酸、例えばハロゲン、例えば塩素、臭素
若しくは沃素でエステル化されたヒドロキシ基、スルホ
ニルオキシ基、例えばヒドロキシスルホニルオキシ基、
ハロスルホニルオキシ基、例えばフルオロスルホニルオ
キシ基、場合により置換、例えばハロゲンで置換された
低級アルカンスルホニルオキシ基、例えばメタンスルホ
ニルオキシ基若しくはトリフルオロメタンスルボニルオ
キシ基、シクロアルカンスルホニルオキシ基、例えばシ
クロヘキサンスルホニルオキシ基、又は、場合により置
換、例えば低級アルキル基若しくはハロゲンで置換され
たヘンゼンスルホニルオキシ基、例えばp−ブロモフェ
ニルスルホニルオキシ基若しくはp−トルエンスルホニ
ルオキシ基を表す。
金属基は、例えばアルカリ金属基、特にリチウム基、及
び更に銅(1)基、又は銅酸リチウムから誘導されたリ
チウム銅(1)基である。
び更に銅(1)基、又は銅酸リチウムから誘導されたリ
チウム銅(1)基である。
反応は、特に縮合剤、例えば適当な塩基の存在で実施す
る。
る。
塩基としては、例えばアルカリ金属水酸化物、水素化物
、アミド、アルコキシド、炭酸塩、トリフェニルメチリ
ド、ジー低級アルキルアミド、アミノアルキルアミド若
しくは低級アルキルシリルアミド、ナフタリンアミン、
低級アルキルアミン、塩基性へテロ環、水酸化アンモニ
ウム及び炭素同素環式アミンが該当する。例えば、ナト
リウムの水酸化物、水素化物若しくはアミド、カリウム
のtert−ブトキシド若しくは炭酸塩、リチウムトリ
フェニルメチリド若しくはジイソプロピルアミド、カリ
ウム3−(アミノプロピル)〜アミド若しくはビス−(
トリメチルシリル)−アミド、ジメチルアミノナフタレ
ン、ジー若しくはトリーエチルアミン、ピリジン、ベン
ジルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、1.5−ジ
アザビシクロ(4゜3.0〕ノン−5−エン(DBN>
及び1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデク〜
7−エン(DBU)が挙げられる。
、アミド、アルコキシド、炭酸塩、トリフェニルメチリ
ド、ジー低級アルキルアミド、アミノアルキルアミド若
しくは低級アルキルシリルアミド、ナフタリンアミン、
低級アルキルアミン、塩基性へテロ環、水酸化アンモニ
ウム及び炭素同素環式アミンが該当する。例えば、ナト
リウムの水酸化物、水素化物若しくはアミド、カリウム
のtert−ブトキシド若しくは炭酸塩、リチウムトリ
フェニルメチリド若しくはジイソプロピルアミド、カリ
ウム3−(アミノプロピル)〜アミド若しくはビス−(
トリメチルシリル)−アミド、ジメチルアミノナフタレ
ン、ジー若しくはトリーエチルアミン、ピリジン、ベン
ジルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、1.5−ジ
アザビシクロ(4゜3.0〕ノン−5−エン(DBN>
及び1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデク〜
7−エン(DBU)が挙げられる。
X2が水素を表す場合には、塩基として作用する一般式
(n b)の化合物を過剰に使用すれば、更に塩基を添
加する必要はない。X2が金属基を表す場合には、一般
式(■b)の化合物との反応を、塩基を添加せずに実施
するのが有利である。
(n b)の化合物を過剰に使用すれば、更に塩基を添
加する必要はない。X2が金属基を表す場合には、一般
式(■b)の化合物との反応を、塩基を添加せずに実施
するのが有利である。
X2が水素を表す一般式(II b)の化合物を用いて
反応を実施するのが好ましい。
反応を実施するのが好ましい。
1扶1]ヨー
2−R2−イミダゾール−1−イル基に変換しうる基H
etは、例えば3−R2−ピラゾール−1−イル基であ
ってよい。
etは、例えば3−R2−ピラゾール−1−イル基であ
ってよい。
2−R2−イミダゾール−■−イル基への変換は、例え
ば光異性化、例えば高圧水銀ランプを用いて行われるよ
うな照射によって実施することができる。
ば光異性化、例えば高圧水銀ランプを用いて行われるよ
うな照射によって実施することができる。
2−R2−イミダゾール−1−イル基に変換しうる基H
etは、2−R2−イミダシリン−1−イル基、特に2
−R2−イミダゾール−2−イン−1−イル基(例えば
脱水素によって2−R2−イミダゾール−1−イル基に
変換しうる)であってもよい。
etは、2−R2−イミダシリン−1−イル基、特に2
−R2−イミダゾール−2−イン−1−イル基(例えば
脱水素によって2−R2−イミダゾール−1−イル基に
変換しうる)であってもよい。
脱水素には、適当な脱水素試薬、例えば周期律表の亜族
、好ましくは■亜族の元素、例えばパラジウム、ラネー
・ニッケル若しくは白金、又は対応する貴金属誘導体、
例えば酸化白金若しくはルテニウムトリフェニルホスフ
ィトクロリドを使用し、脱水素試薬を適当な担体、例え
ば炭素上に担持することができる。好ましい脱水素試薬
は、更に、例えばキノン類、例えばp−ベンゾキノン、
例えばテトラクロロ−p−ベンゾキノン又は2゜3−ジ
クロロ−5,6−ジシアノ−p−ベンゾキノン、及びフ
ェナントレン−9,10−キノンである。また、N−ハ
ロスクシンイミド、例えばN−クロロスクシンイミド、
マンガン化合物、例えばマンガン酸バリウム又は二酸化
マンガン、並びに硫黄及びセレン誘導体、例えば硫黄、
セレン、二酸化セレン又はジフェニルセレンビス−トリ
フルオロアセテートを使用することもできる。
、好ましくは■亜族の元素、例えばパラジウム、ラネー
・ニッケル若しくは白金、又は対応する貴金属誘導体、
例えば酸化白金若しくはルテニウムトリフェニルホスフ
ィトクロリドを使用し、脱水素試薬を適当な担体、例え
ば炭素上に担持することができる。好ましい脱水素試薬
は、更に、例えばキノン類、例えばp−ベンゾキノン、
例えばテトラクロロ−p−ベンゾキノン又は2゜3−ジ
クロロ−5,6−ジシアノ−p−ベンゾキノン、及びフ
ェナントレン−9,10−キノンである。また、N−ハ
ロスクシンイミド、例えばN−クロロスクシンイミド、
マンガン化合物、例えばマンガン酸バリウム又は二酸化
マンガン、並びに硫黄及びセレン誘導体、例えば硫黄、
セレン、二酸化セレン又はジフェニルセレンビス−トリ
フルオロアセテートを使用することもできる。
方1bΩ−:
基−CH(R+)−に変換しうる構造要素Aは、例えば
基−C(Ri’) (Zo ) C式中R,lは水素に
変換しうる基Zlを有する基R+を表し、Zoは水素を
表すか、又はRtlはR+を表し、Zoは水素に変換し
うる基R1を表すか、又はR,l及びZ。は−緒に低級
アルケニリデン基又はその互変異性体形を形成する〕を
表す。同様に、R2に変換しうる基R,lは、水素に変
換しうる基Z、で置換された低級アルキル基である。
基−C(Ri’) (Zo ) C式中R,lは水素に
変換しうる基Zlを有する基R+を表し、Zoは水素を
表すか、又はRtlはR+を表し、Zoは水素に変換し
うる基R1を表すか、又はR,l及びZ。は−緒に低級
アルケニリデン基又はその互変異性体形を形成する〕を
表す。同様に、R2に変換しうる基R,lは、水素に変
換しうる基Z、で置換された低級アルキル基である。
2、は、例えば還元によって水素に変換することができ
、従って、例えばヒドロキシ基、エーテル化ヒドロキシ
基、例えば低級アルコキシ基、ハロゲン、スルボニルオ
キシ基、例えば場合により置換、例えばハロゲンで置換
された低級アルカンスルホニルオキシ基、シクロ−低級
アルカンスルホニルオキシ基又は場合により置換、例え
ば低級アルキル基若しくはハロゲンで置換されたヘンゼ
ンスルホニルオキシ基、メルカプト基又はエーテル化メ
ルカプト基、例えば低級アルキルチオ基を表す。
、従って、例えばヒドロキシ基、エーテル化ヒドロキシ
基、例えば低級アルコキシ基、ハロゲン、スルボニルオ
キシ基、例えば場合により置換、例えばハロゲンで置換
された低級アルカンスルホニルオキシ基、シクロ−低級
アルカンスルホニルオキシ基又は場合により置換、例え
ば低級アルキル基若しくはハロゲンで置換されたヘンゼ
ンスルホニルオキシ基、メルカプト基又はエーテル化メ
ルカプト基、例えば低級アルキルチオ基を表す。
基−CH(R+ )−へのAの還元性変換及び/又はR
2へのR2Fの還元性変換は、自体公知の方法で、例え
ば還元剤を用いて、例えば水素添加触媒の存在での水素
添加、水素化物移動試薬での還元又は金属及びプロトン
除去剤を含む金属還元系での還元によって行う。
2へのR2Fの還元性変換は、自体公知の方法で、例え
ば還元剤を用いて、例えば水素添加触媒の存在での水素
添加、水素化物移動試薬での還元又は金属及びプロトン
除去剤を含む金属還元系での還元によって行う。
水素添加触媒としては、例えば元素の周期律表の■亜族
の元素又はその誘導体、例えばパラジウム、白金、酸化
白金、ルテニウム、ロジウム、トリス−(トリフェニル
ホスフィン)−ロジウム(1)ハライド、例えばクロリ
ド、又はラネー・ニッケルが該当し、これらを場合によ
り担体、例えば活性炭、アルカリ金属炭酸塩若しくは硫
酸塩又はシリカゲル上に担持する。水素化物移動試薬と
しては、例えば適当な軽金属水素化物、特にアルカリ金
属アルミニウムヒドリド若しくは硼水素化物、例えばリ
チウムアルミニウムヒドリド、硼水素化リチウムトリエ
チル、硼水素化ナトリウム、シアノ硼水素化ナトリウム
、又は水素化鋼、例えばトリエチル−若しくはトリブチ
ル−錫ヒドリド又はジボランが該当する。金属性還元系
の金属成分は、例えば塩基性金属、例えばアルカリ金属
又はアルカリ土類金属、例えばリチウム、ナトリウム、
カリウム、マグネシウム若しくはカルシウム、又は遷移
金属、例えば亜鉛、錫、鉄若しくはチタンであり、プロ
トン除去剤としては、例えばプロトン酸、例えば塩酸若
しくは酢酸、低級アルカノール、例えばエタノール、及
び/又はアミン又はアンモニアが該当する。このような
系は、例えばナトリウム/アンモニア、亜鉛/塩酸若し
くは酢酸、又は亜鉛/エタノールである。
の元素又はその誘導体、例えばパラジウム、白金、酸化
白金、ルテニウム、ロジウム、トリス−(トリフェニル
ホスフィン)−ロジウム(1)ハライド、例えばクロリ
ド、又はラネー・ニッケルが該当し、これらを場合によ
り担体、例えば活性炭、アルカリ金属炭酸塩若しくは硫
酸塩又はシリカゲル上に担持する。水素化物移動試薬と
しては、例えば適当な軽金属水素化物、特にアルカリ金
属アルミニウムヒドリド若しくは硼水素化物、例えばリ
チウムアルミニウムヒドリド、硼水素化リチウムトリエ
チル、硼水素化ナトリウム、シアノ硼水素化ナトリウム
、又は水素化鋼、例えばトリエチル−若しくはトリブチ
ル−錫ヒドリド又はジボランが該当する。金属性還元系
の金属成分は、例えば塩基性金属、例えばアルカリ金属
又はアルカリ土類金属、例えばリチウム、ナトリウム、
カリウム、マグネシウム若しくはカルシウム、又は遷移
金属、例えば亜鉛、錫、鉄若しくはチタンであり、プロ
トン除去剤としては、例えばプロトン酸、例えば塩酸若
しくは酢酸、低級アルカノール、例えばエタノール、及
び/又はアミン又はアンモニアが該当する。このような
系は、例えばナトリウム/アンモニア、亜鉛/塩酸若し
くは酢酸、又は亜鉛/エタノールである。
この方法の好ましい実施態様では、例えばヒドロキシ基
又は場合によりエーテル化メルカプト基を接触水素添加
、例えばラネー・ニッケルの存在での接触水素添加によ
って還元し、ハロゲン又はスルホニルオキシ基を例えば
水素化物移動試薬、トリブチル錫ヒドリド、リチウムア
ルミニウムヒドリド又はシアノ硼水素化ナトリウム又は
ナトリウム/アンモニアによって還元スル。
又は場合によりエーテル化メルカプト基を接触水素添加
、例えばラネー・ニッケルの存在での接触水素添加によ
って還元し、ハロゲン又はスルホニルオキシ基を例えば
水素化物移動試薬、トリブチル錫ヒドリド、リチウムア
ルミニウムヒドリド又はシアノ硼水素化ナトリウム又は
ナトリウム/アンモニアによって還元スル。
更に、燐(赤)及び沃化水素又は沃素で処理することに
よってヒドロキシ基を水素で置換することができる。
よってヒドロキシ基を水素で置換することができる。
ベンジルの位置に存在する水素で置換されうる基Z1は
、水素で置換されるのが好ましい。
、水素で置換されるのが好ましい。
Zl はカルボキシ基を表すこともできる。一般式(I
V)の対応する化合物の脱カルボキシル反応は、通常、
温度を高めて、例えば50℃以上の温度、特に約り00
℃〜約300℃の温度範囲で実施することができる。脱
カルボキシル反応は、例えば塩基、例えば高沸点窒素塩
基、例えばコリジンの存在、及び/又は貴金属、例えば
銅又は銅ブロンズの存在で助成することができる。
V)の対応する化合物の脱カルボキシル反応は、通常、
温度を高めて、例えば50℃以上の温度、特に約り00
℃〜約300℃の温度範囲で実施することができる。脱
カルボキシル反応は、例えば塩基、例えば高沸点窒素塩
基、例えばコリジンの存在、及び/又は貴金属、例えば
銅又は銅ブロンズの存在で助成することができる。
特に、出発原料として、水素に変換されうる基Z1を1
個だけ有する一般式(IV)の化合物を使用する。
個だけ有する一般式(IV)の化合物を使用する。
1ivLLニ
一般式(V)のイミニウム塩を還元して一般式(1)の
第三級アミンを形成する反応は、例えば還元剤、例えば
方法C)に挙げた型の還元剤を用いて実施する。可能な
適当な還元方法は、例えば接触水素添加、水素化物移動
試薬、例えば硼水素化ナトリウムでの処理、又は金属性
還元系である亜鉛/塩酸の使用である。還元剤としてギ
酸を使用することもできる。
第三級アミンを形成する反応は、例えば還元剤、例えば
方法C)に挙げた型の還元剤を用いて実施する。可能な
適当な還元方法は、例えば接触水素添加、水素化物移動
試薬、例えば硼水素化ナトリウムでの処理、又は金属性
還元系である亜鉛/塩酸の使用である。還元剤としてギ
酸を使用することもできる。
1羞」]ヨー
閉環によって2−R2−イミダゾール−1−イル基に変
換しうる基X3は、例えば一般式(Vla)−N=CH
−CH2NH−Co−R2(Via)の基を表す。一般
式(Vl a )の基の閉環は、例えば一般式(■)の
対応する化合物を書法で酸性試薬、特に鉱酸無水物、例
えばオキシハロゲン化燐(例えばオキシ塩化燐)又は五
ハロゲン化燐、例えば五塩化燐で処理することによって
行う。系トリフェニルホスフィン/ヘキサクロロエタン
/トリエチルアミンが特に適当である。特に、ステグリ
ソヒ(W、 Steglich )らによってLieb
igs Ann。
換しうる基X3は、例えば一般式(Vla)−N=CH
−CH2NH−Co−R2(Via)の基を表す。一般
式(Vl a )の基の閉環は、例えば一般式(■)の
対応する化合物を書法で酸性試薬、特に鉱酸無水物、例
えばオキシハロゲン化燐(例えばオキシ塩化燐)又は五
ハロゲン化燐、例えば五塩化燐で処理することによって
行う。系トリフェニルホスフィン/ヘキサクロロエタン
/トリエチルアミンが特に適当である。特に、ステグリ
ソヒ(W、 Steglich )らによってLieb
igs Ann。
Chem、1.978年、1916〜1927に記載さ
れている方法と同様にして操作を実施する。
れている方法と同様にして操作を実施する。
X3は一般式(Vlb)、:
2
^
〔式中ホルミル基はアセクール化された形、例えばアル
コール、例えば低級アルカノール又は低級アルカンジオ
ールでアセタール化されたホルミル基の形で存在しても
よい〕の基を表すこともできる。
コール、例えば低級アルカノール又は低級アルカンジオ
ールでアセタール化されたホルミル基の形で存在しても
よい〕の基を表すこともできる。
閉環は、例えば酸性試薬、例えばプロトン酸、−例えば
鉱酸、例えばハロゲン水素酸、硫酸若しくはポリ燐酸、
スルホン酸、例えばトリフルオロメタンスルボン酸若し
くはp−トルエンスルホン酸、又は強カル、!εン酸、
例えば場合により置換された低級アルカンカルボン酸、
例えば氷酢酸若しくはトリフルオロ酢酸の存在で実施す
ることができる。
鉱酸、例えばハロゲン水素酸、硫酸若しくはポリ燐酸、
スルホン酸、例えばトリフルオロメタンスルボン酸若し
くはp−トルエンスルホン酸、又は強カル、!εン酸、
例えば場合により置換された低級アルカンカルボン酸、
例えば氷酢酸若しくはトリフルオロ酢酸の存在で実施す
ることができる。
例えば、前記の鉱酸無水物も適当である。
方法1と:
反応性エステル化ヒドロキシ基X4又はX5又はX6は
、例えば方法a)においてXlについて与えた定義を有
し、金属基X4又はX5又はX6ば、例えばアルカリ金
属基、例えばリチウム、ナトリウム若しくはカリウム基
、ハロゲン化マグネシウム基、例えば臭化マグネシウム
基、銅基、又は銅酸リチウムから誘導されたリチウム銅
基を表す。
、例えば方法a)においてXlについて与えた定義を有
し、金属基X4又はX5又はX6ば、例えばアルカリ金
属基、例えばリチウム、ナトリウム若しくはカリウム基
、ハロゲン化マグネシウム基、例えば臭化マグネシウム
基、銅基、又は銅酸リチウムから誘導されたリチウム銅
基を表す。
この方法の変法で、例えば×4及びX、がそれぞれ水素
を表す一般式(■a)の化合物から出発し、この化合物
を強塩基、例えばブチルリチウムで処理し、X4及びX
5がそれぞれ金属基、例えばリチウムを表す一般式(■
a)の得られた化合物を少なくとも2モルの一般式(■
b)の化合物と反応させることができる。この操作では
、まず、その場で基X4及びx5の一方が金属基を表し
、他方がそれぞれR1又はR2を表す一般式(■a)の
化合物が得られ、その化合物は更に反応条件下に反応し
て直接一般式(1)の対応する化合物を形成する。
を表す一般式(■a)の化合物から出発し、この化合物
を強塩基、例えばブチルリチウムで処理し、X4及びX
5がそれぞれ金属基、例えばリチウムを表す一般式(■
a)の得られた化合物を少なくとも2モルの一般式(■
b)の化合物と反応させることができる。この操作では
、まず、その場で基X4及びx5の一方が金属基を表し
、他方がそれぞれR1又はR2を表す一般式(■a)の
化合物が得られ、その化合物は更に反応条件下に反応し
て直接一般式(1)の対応する化合物を形成する。
この反応は、はじめは低温、例えば−78℃〜室温の温
度範囲で実施するのが有利である。
度範囲で実施するのが有利である。
1基」ユ罎
Ph1は、例えばヒドロキシ基で置換されたフェニル基
を表す。
を表す。
一般式(■)のこのような化合物を、低級アルキル化剤
でのエーテル化によって一般式(1)の化合物に変える
ことができる。低級アルキル化剤は、例えば低級アルカ
ノール又はその反応性エステル、例えば対応するハロー
誘導体、例えば塩素、臭素又は沃素誘導体、スルホニル
オキシ誘導体、例えばヒドロキシスルホニルオキシ誘導
体、ハロスルホニルオキシ誘導体、例えばフルオロスル
ホニルオキシ誘導体、場合により置換、例えばハロゲン
で置換された低級アルカンスルホニルオキシ誘導体、例
えばメタン−若しくはトリフルオロメタン−スルホニル
オキシ誘導体、シクロアルカンスルホニルオキシ誘導体
、例えばシクロヘキ号ンスルホニルオキシ誘導体、又は
場合により置換、例えばハロゲン若しくは低級アルキル
基で置換されたベンゼンスルホニルオキシ誘導体、例え
ばp−プロモフエニルー若しくはp−トルエンスルホニ
ルオキシ誘導体である。低級アルキル化剤としては、更
に、例えばジー低級アルキル硫酸、ジアゾ−低級アルカ
ン、トリー低級アルキルスルホニウムヒドロキシド、ト
リー低級アルキルセレンヒドロキシド、トリー低級アル
キルオキッスルホニウムヒドロキシド又はトリー低級ア
ルキルアニリニウムヒドロキシド、及び更にベンター低
級アルコキシホスフィンが該当する。
でのエーテル化によって一般式(1)の化合物に変える
ことができる。低級アルキル化剤は、例えば低級アルカ
ノール又はその反応性エステル、例えば対応するハロー
誘導体、例えば塩素、臭素又は沃素誘導体、スルホニル
オキシ誘導体、例えばヒドロキシスルホニルオキシ誘導
体、ハロスルホニルオキシ誘導体、例えばフルオロスル
ホニルオキシ誘導体、場合により置換、例えばハロゲン
で置換された低級アルカンスルホニルオキシ誘導体、例
えばメタン−若しくはトリフルオロメタン−スルホニル
オキシ誘導体、シクロアルカンスルホニルオキシ誘導体
、例えばシクロヘキ号ンスルホニルオキシ誘導体、又は
場合により置換、例えばハロゲン若しくは低級アルキル
基で置換されたベンゼンスルホニルオキシ誘導体、例え
ばp−プロモフエニルー若しくはp−トルエンスルホニ
ルオキシ誘導体である。低級アルキル化剤としては、更
に、例えばジー低級アルキル硫酸、ジアゾ−低級アルカ
ン、トリー低級アルキルスルホニウムヒドロキシド、ト
リー低級アルキルセレンヒドロキシド、トリー低級アル
キルオキッスルホニウムヒドロキシド又はトリー低級ア
ルキルアニリニウムヒドロキシド、及び更にベンター低
級アルコキシホスフィンが該当する。
低級アルキル化剤として低級アルカノールの反応性エス
テル又はジー低級アルキル硫酸を使用する場合、エーテ
ル化を特に前記の塩基1種の存在で実施し、ジアザ−低
級アルカンとの反応を場合によりルイス酸の存在で実施
する。ルイス酸は、例えば硼素、アルミニウム、錫(■
)、アンチモン(■)、砒素(■)、銀(■)、亜鉛(
II)及び鉄(I[[)のハロゲン化物である。
テル又はジー低級アルキル硫酸を使用する場合、エーテ
ル化を特に前記の塩基1種の存在で実施し、ジアザ−低
級アルカンとの反応を場合によりルイス酸の存在で実施
する。ルイス酸は、例えば硼素、アルミニウム、錫(■
)、アンチモン(■)、砒素(■)、銀(■)、亜鉛(
II)及び鉄(I[[)のハロゲン化物である。
低級アルカノールを用いるエーテル化は、例えば強酸の
存在で、又は無水条件下に脱水剤の存在で実施する。
存在で、又は無水条件下に脱水剤の存在で実施する。
強酸としては、特に、強プロトン酸、例えば鉱酸、例え
ばハロゲン水素酸、硫酸又は燐酸、強カルボン酸、例え
ば場合により置換、例えばハ゛ロゲンで置換された低級
アルカンカルボン酸又は安息香酸、例えば氷酢酸又はト
リフルオロ酢酸、又はスルホン酸、例えば場合により置
換、例えばハロゲンで置換された低級アルカンスルホン
酸、又は場合により置換、例えばハロゲン若しくは低級
アルキル基で置換されたヘンゼンスルホン酸、例えばp
−トルエンスルホン酸が挙げられる。
ばハロゲン水素酸、硫酸又は燐酸、強カルボン酸、例え
ば場合により置換、例えばハ゛ロゲンで置換された低級
アルカンカルボン酸又は安息香酸、例えば氷酢酸又はト
リフルオロ酢酸、又はスルホン酸、例えば場合により置
換、例えばハロゲンで置換された低級アルカンスルホン
酸、又は場合により置換、例えばハロゲン若しくは低級
アルキル基で置換されたヘンゼンスルホン酸、例えばp
−トルエンスルホン酸が挙げられる。
適当な脱水剤は、例えばカルボジイミド、例えばN、N
’−ジー低級アルキル若しくはN、N’−ジシクロアル
キルカルボジイミド、例えばN。
’−ジー低級アルキル若しくはN、N’−ジシクロアル
キルカルボジイミド、例えばN。
N′−ジエチルカルボジイミド、N、N’−ジイソプロ
ピルカルボジイミド若しくはN、N“−ジシクロへキシ
ルカルボジイミド(N−ヒドロキシスクシンイミド又は
場合により置換、例えば)\ロゲン、低級アルキル基若
しくは低級アルコキシ基で置換された1−ヒドロキシベ
ンゾトリアゾール或いはN−ヒドロキシ−5−ノルボル
ネン−2゜3−ジカルボキシアミドを添加するのが有利
)、N、N’−ジイミダゾールカルボニル基、適当なホ
スホリル又はホスフィン化合物、例えばジエチルホスホ
ニルシアニド、ジフェニルホスホニルアジド若しくはト
リフェニルホスフィンジスルフィ)’、1−低級アルキ
ルー2−ハロピリジニウムハライド、例えば1−メチル
−2−クロロピリジニウムコージド、適当な1,2−ジ
ヒドロキノリン、例えばN−エトキシカルボニル−2−
エトキシ−1,2−ジヒドロキノリン、又は1.1’−
(カルボニルジオキシ)−ジベンゾトリアゾールである
。
ピルカルボジイミド若しくはN、N“−ジシクロへキシ
ルカルボジイミド(N−ヒドロキシスクシンイミド又は
場合により置換、例えば)\ロゲン、低級アルキル基若
しくは低級アルコキシ基で置換された1−ヒドロキシベ
ンゾトリアゾール或いはN−ヒドロキシ−5−ノルボル
ネン−2゜3−ジカルボキシアミドを添加するのが有利
)、N、N’−ジイミダゾールカルボニル基、適当なホ
スホリル又はホスフィン化合物、例えばジエチルホスホ
ニルシアニド、ジフェニルホスホニルアジド若しくはト
リフェニルホスフィンジスルフィ)’、1−低級アルキ
ルー2−ハロピリジニウムハライド、例えば1−メチル
−2−クロロピリジニウムコージド、適当な1,2−ジ
ヒドロキノリン、例えばN−エトキシカルボニル−2−
エトキシ−1,2−ジヒドロキノリン、又は1.1’−
(カルボニルジオキシ)−ジベンゾトリアゾールである
。
ph“は、更に例えばジアゾニウム基−NψAe〔式中
AQは強プロトン酸の陰イオンを表す〕を含むフェニル
基を表す。
AQは強プロトン酸の陰イオンを表す〕を含むフェニル
基を表す。
一般式(■)のこのような化合物を一般式(1)の対応
する化合物に変換するには、ジアゾニウム基−NPAC
)を、特に低級アルカノールで処理することによって低
級アルコキシ基で置換する。
する化合物に変換するには、ジアゾニウム基−NPAC
)を、特に低級アルカノールで処理することによって低
級アルコキシ基で置換する。
この方法の有利な変法では、一般式(■)の化合物をそ
の場で形成させ、反応条件下に、単離することなく更に
反応させて一般式(+)の化合物を形成させる。この変
法では、まず、ph゛がアミノ基を含むフェニル基を表
す一般式(■)の化合物を出発原料として使用し、この
化合物を亜硝酸塩、例えばアルカリ金属亜硝酸塩、又は
プロトン酸、例えば前記の型のものの存在でニトロ低級
アルカンでジアゾ化し、ph“がジアゾニウム基NPA
Oを含むツーニル基を表す一般式(劃の化合物(この化
合物はその場で形成する)を単離することなく低級アル
カノールと反応させる。
の場で形成させ、反応条件下に、単離することなく更に
反応させて一般式(+)の化合物を形成させる。この変
法では、まず、ph゛がアミノ基を含むフェニル基を表
す一般式(■)の化合物を出発原料として使用し、この
化合物を亜硝酸塩、例えばアルカリ金属亜硝酸塩、又は
プロトン酸、例えば前記の型のものの存在でニトロ低級
アルカンでジアゾ化し、ph“がジアゾニウム基NPA
Oを含むツーニル基を表す一般式(劃の化合物(この化
合物はその場で形成する)を単離することなく低級アル
カノールと反応させる。
この反応には、約−10℃〜約+40℃の反応温度を選
択するのが有利である。
択するのが有利である。
本発明は、特に実施例に記載した製造方法に関する。
本発明による化合物を自体公知の方法により、本発明に
よる異なる化合物に変換することができる。
よる異なる化合物に変換することができる。
例えば、アルキル化、例えばルイス酸の存在で低級アル
カノールの反応性エステルでアルキル化(フリーデルタ
ラフトのアルキル化)することによりフェニル環phに
低級アルキル基を導入することができる。
カノールの反応性エステルでアルキル化(フリーデルタ
ラフトのアルキル化)することによりフェニル環phに
低級アルキル基を導入することができる。
方法a〉〜g)に記載した出発原料の製造は、自体公知
の方法を使用して行う。
の方法を使用して行う。
例えば、一般式(Ila)の化合物を方法a)に記載し
た操作と同様にして一般式(Ina):X2 )let
(Ia) の化合物と反応させることにより一般式(I)の出発原
料を製造することができる。
た操作と同様にして一般式(Ina):X2 )let
(Ia) の化合物と反応させることにより一般式(I)の出発原
料を製造することができる。
同様の方法で、例えば一般式(IVa)Ph−A−XI
(IVa) の化合物及び(Il b)の化合物を反応させる〔一般
式(IV)の化合物を生成する〕か、又は一般式(■C
)二 Ph CH(X4 ) XI (VIIC)の化合物及
び一般式(■d): の化合物を反応させる〔一般式(■a)の化合物を生成
する〕か、又は一般式(I[Ia):Ph’ −CH(
R+ ) XI (Illa)の化合物及び一般式(n
b)の化合物を反応させる〔一般式(■)の化合物を生
成する〕ことによって、一般式(■)、(■a)及び(
■)の出発原料を得ることができる。
(IVa) の化合物及び(Il b)の化合物を反応させる〔一般
式(IV)の化合物を生成する〕か、又は一般式(■C
)二 Ph CH(X4 ) XI (VIIC)の化合物及
び一般式(■d): の化合物を反応させる〔一般式(■a)の化合物を生成
する〕か、又は一般式(I[Ia):Ph’ −CH(
R+ ) XI (Illa)の化合物及び一般式(n
b)の化合物を反応させる〔一般式(■)の化合物を生
成する〕ことによって、一般式(■)、(■a)及び(
■)の出発原料を得ることができる。
X3が一般式(Via)の基を表す一般式(Vl)の化
合物は、例えば一般式(VIC):ノ 1 の化合物を一般式(VTd): p 。
合物は、例えば一般式(VIC):ノ 1 の化合物を一般式(VTd): p 。
の化合物と酸を触媒として反応させることによって得ら
れる。
れる。
X3が一般式(Vlb)又は(Vlb′)の基を表ず一
般式(Vl)の化合物は、例えば一般式(VIe)\ 8 〔式中X8は離脱基、例えば低級アルコキシ基を表す〕
の化合物及び一般式(Vlf):の化合物又はそのアセ
タールを縮合させることによって得られ、その第二級ア
ミノ基は更にアシル基、例えば低級アルカノイル基、例
えばアセチル基を含んでいてよい。
般式(Vl)の化合物は、例えば一般式(VIe)\ 8 〔式中X8は離脱基、例えば低級アルコキシ基を表す〕
の化合物及び一般式(Vlf):の化合物又はそのアセ
タールを縮合させることによって得られ、その第二級ア
ミノ基は更にアシル基、例えば低級アルカノイル基、例
えばアセチル基を含んでいてよい。
x3が一般式(Vlb)又は(Vlb’)(7)基を表
す一般式(VI)の化合物を製造する変法は、更に、そ
れぞれ一般式(Vld)の化合物と一般式(Vie)の
化合物を反応させ、その後、得られる一般式(1) %式%) の化合物をモノハロゲノ−アセトアルデヒド又は好まし
くは、そのアセタールと縮合させることにある。同様に
、式(Vlh): Ph CH(R+ ) N=C(R2) X8(Vlh
) の化合物をアミノアセトアルデヒドのアセタールと反応
させることもできる。
す一般式(VI)の化合物を製造する変法は、更に、そ
れぞれ一般式(Vld)の化合物と一般式(Vie)の
化合物を反応させ、その後、得られる一般式(1) %式%) の化合物をモノハロゲノ−アセトアルデヒド又は好まし
くは、そのアセタールと縮合させることにある。同様に
、式(Vlh): Ph CH(R+ ) N=C(R2) X8(Vlh
) の化合物をアミノアセトアルデヒドのアセタールと反応
させることもできる。
X3が一般式(Vlb)又は(Vlb’)の基を表す一
般式(Vl)の化合物は、それぞれ、好ましくはその場
で生成させることができ、反応条件下に直接反応させて
一般式(1)の対応する化合物にする。
般式(Vl)の化合物は、それぞれ、好ましくはその場
で生成させることができ、反応条件下に直接反応させて
一般式(1)の対応する化合物にする。
一般式(1)の化合物の塩は、自体公知の方法で製造す
ることができる。例えば、一般式(1)の化合物の酸付
加塩は、酸又は適当なイオン交換試薬で処理することに
って得られる。塩を常法で遊離化合物に変えることがで
き、酸付加塩を例えば適当な塩基性試薬で処理すること
により変換することかできる。
ることができる。例えば、一般式(1)の化合物の酸付
加塩は、酸又は適当なイオン交換試薬で処理することに
って得られる。塩を常法で遊離化合物に変えることがで
き、酸付加塩を例えば適当な塩基性試薬で処理すること
により変換することかできる。
操作及び使用する反応条件により、塩形成性、特に塩基
性を有する本発明による化合物を遊離の形又は塩の形で
得ることができる。
性を有する本発明による化合物を遊離の形又は塩の形で
得ることができる。
遊離形及び塩の形の新規化合物には密接な関係があるた
め、前記及び後記の遊離化合物又はその塩は、適切であ
れば、それぞれ対応する塩又は遊離化合物を意味するも
のと理解すべきである。
め、前記及び後記の遊離化合物又はその塩は、適切であ
れば、それぞれ対応する塩又は遊離化合物を意味するも
のと理解すべきである。
塩形成性化合物の塩を含めて、新規化合物は、その水和
物の形で得ることもでき、結晶のため使用した他の溶剤
を含んでいてもよい。
物の形で得ることもでき、結晶のため使用した他の溶剤
を含んでいてもよい。
選択する出発原料及び方法に応じて、新規化合物が可能
な異性体の一つの形又はその混合物の形で、例えば不整
炭素原子の数に応じて、純粋な光学異性体、例えば対掌
体の形、又は異性体混合物、例えばラセミ化合物、ジア
ステレオマー混合物又はラセミ混合物の形で得られる。
な異性体の一つの形又はその混合物の形で、例えば不整
炭素原子の数に応じて、純粋な光学異性体、例えば対掌
体の形、又は異性体混合物、例えばラセミ化合物、ジア
ステレオマー混合物又はラセミ混合物の形で得られる。
生じるジアステレオマー混合物及びラセミ混合物を、成
分間の物理化学的相違に基づいて公知方法で、例えば分
別結晶によって純粋な異性体ジアステレオマー又はラセ
ミ化合物に分離することができる。
分間の物理化学的相違に基づいて公知方法で、例えば分
別結晶によって純粋な異性体ジアステレオマー又はラセ
ミ化合物に分離することができる。
生じるラセミ化合物を公知方法、例えば光学活性溶剤か
らの再結晶、キラール吸着剤上でのクロマトグラフィー
、適当な微生物を用いて、特殊な固定化酵素での分解、
包括化合物の形成、例えばキラールクラウンエーテルを
使用して包括化合物の形成(この場合、ただ1種のエナ
ンチオマーが錯体を形成する)によって、又は例えば塩
基性最終生成物であるラセミ化合物を光学活性酸、例え
ばカルボン酸、例えば酒石酸若しくはリンゴ酸又はスル
ホン酸、例えば樟脳スルホン酸と反応させることにより
ジアステレオマー塩に変え、この方法で得られたジアス
テレオマー混合物を、例えば溶解炭の差に基づいてジア
ステレオマーに分離し、これから所望のエナンチオマー
を適当な試薬の作用によって遊離させることによって光
学対掌体に分離することもできる。更に活性なエナンチ
オマーを分離するのが有利である。
らの再結晶、キラール吸着剤上でのクロマトグラフィー
、適当な微生物を用いて、特殊な固定化酵素での分解、
包括化合物の形成、例えばキラールクラウンエーテルを
使用して包括化合物の形成(この場合、ただ1種のエナ
ンチオマーが錯体を形成する)によって、又は例えば塩
基性最終生成物であるラセミ化合物を光学活性酸、例え
ばカルボン酸、例えば酒石酸若しくはリンゴ酸又はスル
ホン酸、例えば樟脳スルホン酸と反応させることにより
ジアステレオマー塩に変え、この方法で得られたジアス
テレオマー混合物を、例えば溶解炭の差に基づいてジア
ステレオマーに分離し、これから所望のエナンチオマー
を適当な試薬の作用によって遊離させることによって光
学対掌体に分離することもできる。更に活性なエナンチ
オマーを分離するのが有利である。
本発明は、更に、方法の任意の工程で中間体として得ら
れる化合物を出発原料として使用し、残りの工程を実施
するか、又は出発原料を誘導体又は塩、及び/又はラセ
ミ化合物又は対掌体の形で使用するか、又は特に反応条
件下に形成する実施態様に関する。
れる化合物を出発原料として使用し、残りの工程を実施
するか、又は出発原料を誘導体又は塩、及び/又はラセ
ミ化合物又は対掌体の形で使用するか、又は特に反応条
件下に形成する実施態様に関する。
本発明方法において、はじめに特に有用であると記載し
た化合物を生じる出発原料を使用するのが好ましい。本
発明は、更に、特に本発明による化合物の製造のため開
発した新規出発原料、その用途及びその製造方法に関し
、基R1、R2及びphは一般式(1)の化合物の好ま
しい群について示した定義を有する。
た化合物を生じる出発原料を使用するのが好ましい。本
発明は、更に、特に本発明による化合物の製造のため開
発した新規出発原料、その用途及びその製造方法に関し
、基R1、R2及びphは一般式(1)の化合物の好ま
しい群について示した定義を有する。
本発明は、更に、一般式で示した化合物又は塩形成性を
有するこのような化合物の医薬に許容しうる塩の、特に
薬理作用、特に抗抑うつ作用を有する活性成分としての
用途に関する。これらは、好ましくは医薬に許容しうる
製剤の形で、動物及びヒトの身体の予防及び/治療方法
に、特に抑うつを治療する抗うつ薬として使用すること
ができる。
有するこのような化合物の医薬に許容しうる塩の、特に
薬理作用、特に抗抑うつ作用を有する活性成分としての
用途に関する。これらは、好ましくは医薬に許容しうる
製剤の形で、動物及びヒトの身体の予防及び/治療方法
に、特に抑うつを治療する抗うつ薬として使用すること
ができる。
本発明は、更に、活性成分として本発明による化合物又
はその医薬に許容しうる塩を含む医薬製剤及びその製造
方法に関する。
はその医薬に許容しうる塩を含む医薬製剤及びその製造
方法に関する。
本発明による化合物又はその医薬に許容しうる塩を含む
医薬製剤は、溢血動物に腸管内、例えば経口及び直腸内
投与、並びに腸管外投与され、薬理活性成分を単独で又
は医薬に許容しうる賦形剤と−緒に含む。活性成分の一
日の投与量は年齢及び個人の状態並びに投与方法に左右
される。
医薬製剤は、溢血動物に腸管内、例えば経口及び直腸内
投与、並びに腸管外投与され、薬理活性成分を単独で又
は医薬に許容しうる賦形剤と−緒に含む。活性成分の一
日の投与量は年齢及び個人の状態並びに投与方法に左右
される。
活性成分を、例えば約2〜5QcJの円形接着性プラス
ターの形で、全身治療のため活性成分を調節して皮膚か
ら供給する経皮治療系(TTS)によって皮膚に適用す
ることもできる。活性成分は例えば約24時間〜1週間
の期間にわたって放出されうる。
ターの形で、全身治療のため活性成分を調節して皮膚か
ら供給する経皮治療系(TTS)によって皮膚に適用す
ることもできる。活性成分は例えば約24時間〜1週間
の期間にわたって放出されうる。
このような経皮系は多層構造を有し、例えば外側から内
側へ、不透過性カバーフィルム、活性成分保有層、接着
剤層又は粘着性層及び適用前にはがされる剥離フィルム
を含む。相応するマトリックス又はモノリシック系の場
合に、活性成分をポリマー層中に分配させ、そこから拡
散によって活性成分を放出する。拡散速度を決定する半
透膜又は微孔性制御膜が活性成分保有層と皮膚との間に
存在する膜制御系を使用することもできる。投与量に関
しては、単位時間当たりに吸収される活性成分の量は、
例えば活性成分保有層と皮膚との間の接触面の大きさに
左右される。
側へ、不透過性カバーフィルム、活性成分保有層、接着
剤層又は粘着性層及び適用前にはがされる剥離フィルム
を含む。相応するマトリックス又はモノリシック系の場
合に、活性成分をポリマー層中に分配させ、そこから拡
散によって活性成分を放出する。拡散速度を決定する半
透膜又は微孔性制御膜が活性成分保有層と皮膚との間に
存在する膜制御系を使用することもできる。投与量に関
しては、単位時間当たりに吸収される活性成分の量は、
例えば活性成分保有層と皮膚との間の接触面の大きさに
左右される。
新規医薬製剤は活性成分を、例えば約20%4約80%
、好ましくは約20%4約60%含む。
、好ましくは約20%4約60%含む。
腸管内及び腸管外投与用の本発明による医薬製剤は、例
えば単位投与形の製剤、例えば糖衣錠、錠剤、カプセル
剤、生理及びアンプル剤の形であってよい。医薬製剤は
、自体公知の方法、例えば當用の混合、造粒、糖衣かけ
、熔解又は凍結乾燥操作によって製造することができる
。経口投与用の医薬製剤は、活性成分を固体賦形剤と混
合し、場合により生じた混合物を造粒し、混合物又は顆
粒を、必要に応じて適当な助剤を添加した後、錠剤又は
糖衣錠コアを形成するため処理することによって得るこ
とができる。
えば単位投与形の製剤、例えば糖衣錠、錠剤、カプセル
剤、生理及びアンプル剤の形であってよい。医薬製剤は
、自体公知の方法、例えば當用の混合、造粒、糖衣かけ
、熔解又は凍結乾燥操作によって製造することができる
。経口投与用の医薬製剤は、活性成分を固体賦形剤と混
合し、場合により生じた混合物を造粒し、混合物又は顆
粒を、必要に応じて適当な助剤を添加した後、錠剤又は
糖衣錠コアを形成するため処理することによって得るこ
とができる。
適当な賦形剤は、特に充填剤、例えば糖類、例えば乳糖
、蔗糖、マンニット若しくはソルビット、セルロース製
剤及び/又は燐酸カルシウム、例えば燐酸三カルシウム
若しくは燐酸水素カルシウム、更に、結合剤、例えばト
ウモロコシ澱粉、小麦澱粉、米澱粉若しくはバレイショ
澱粉を使用した澱粉糊、ゼラチン、トラガント、メチル
セルロース及び/又はポリビニルピロリドン、及び/又
は必要に応じて崩壊剤、例えば前記の澱粉、更にカルボ
キシメチル澱粉、架橋ポリビニルピロリドン、寒天、ア
ルギン酸若しくはその塩、例えばアルギン酸ナトリウム
である。助剤は、特に流動性調節剤及び滑沢剤、例えば
シリカ、タルク、ステアリン酸若しくはその塩、例えば
ステアリン酸マグネシウム又はステアリン酸カルシウム
、及び/又はポリエチレングリコールである。糖衣錠コ
アに適当な耐胃液性皮膜を施すことができ、その際、殊
に、場合によりアラビアゴム、タルク、ポリビニルピロ
リドン、ポリエチレングリコール及び/又は二酸化チタ
ンを含む濃厚糖溶液、又は適当な有機溶剤又は溶剤混合
物に熔かしたラッカー溶液、又は耐胃液性皮膜を製造す
るために、適当なセルロース製剤、例えばアセチルセル
ロースフクレート若しくはヒドロキシプロピルメチルセ
ルロースフタレートの溶液を使用する。例えば、同定の
目的で、又は活性物質の異なる投与量を示すため、錠剤
または糖衣錠の皮膜に色素又は顔料を添加することがで
きる。
、蔗糖、マンニット若しくはソルビット、セルロース製
剤及び/又は燐酸カルシウム、例えば燐酸三カルシウム
若しくは燐酸水素カルシウム、更に、結合剤、例えばト
ウモロコシ澱粉、小麦澱粉、米澱粉若しくはバレイショ
澱粉を使用した澱粉糊、ゼラチン、トラガント、メチル
セルロース及び/又はポリビニルピロリドン、及び/又
は必要に応じて崩壊剤、例えば前記の澱粉、更にカルボ
キシメチル澱粉、架橋ポリビニルピロリドン、寒天、ア
ルギン酸若しくはその塩、例えばアルギン酸ナトリウム
である。助剤は、特に流動性調節剤及び滑沢剤、例えば
シリカ、タルク、ステアリン酸若しくはその塩、例えば
ステアリン酸マグネシウム又はステアリン酸カルシウム
、及び/又はポリエチレングリコールである。糖衣錠コ
アに適当な耐胃液性皮膜を施すことができ、その際、殊
に、場合によりアラビアゴム、タルク、ポリビニルピロ
リドン、ポリエチレングリコール及び/又は二酸化チタ
ンを含む濃厚糖溶液、又は適当な有機溶剤又は溶剤混合
物に熔かしたラッカー溶液、又は耐胃液性皮膜を製造す
るために、適当なセルロース製剤、例えばアセチルセル
ロースフクレート若しくはヒドロキシプロピルメチルセ
ルロースフタレートの溶液を使用する。例えば、同定の
目的で、又は活性物質の異なる投与量を示すため、錠剤
または糖衣錠の皮膜に色素又は顔料を添加することがで
きる。
他の経口投与に使用しうる医薬製剤は、ゼラチンから成
る乾式充填カプセル及びゼラチン及び可塑剤、例えばグ
リセリン若しくはツルピントから成る軟質閉鎖カプセル
である。乾式充填カプセルは活性成分を顆粒の形で、例
えば充填剤、例えば乳糖、結合剤、例えば澱粉、及び/
又は滑沢剤、例えばタルク若しくはステアリン酸マグネ
シウム及び場合により安定剤と混合して含むことができ
る。軟質カプセルにおいては活性成分を適当な液体、例
えば脂肪油、パラフィン油又は液体ポリエチレングリコ
ールに溶解又は懸濁しておくのが好ましく、その際同様
に安定剤を添加してもよい。
る乾式充填カプセル及びゼラチン及び可塑剤、例えばグ
リセリン若しくはツルピントから成る軟質閉鎖カプセル
である。乾式充填カプセルは活性成分を顆粒の形で、例
えば充填剤、例えば乳糖、結合剤、例えば澱粉、及び/
又は滑沢剤、例えばタルク若しくはステアリン酸マグネ
シウム及び場合により安定剤と混合して含むことができ
る。軟質カプセルにおいては活性成分を適当な液体、例
えば脂肪油、パラフィン油又は液体ポリエチレングリコ
ールに溶解又は懸濁しておくのが好ましく、その際同様
に安定剤を添加してもよい。
直腸内に投与しうる医薬製剤としては、例えば活性成分
及び生理基剤の組合せからな、る生理が該当する。生理
基剤としては、例えば天然又は合成トリグリセリド、パ
ラフィン炭化水素、ポリエチレングリコール又はそれよ
り高級のアルカノールが適当である。活性成分と基剤と
の組合上を含むゼラチン直腸カプセルを使用することも
できる。
及び生理基剤の組合せからな、る生理が該当する。生理
基剤としては、例えば天然又は合成トリグリセリド、パ
ラフィン炭化水素、ポリエチレングリコール又はそれよ
り高級のアルカノールが適当である。活性成分と基剤と
の組合上を含むゼラチン直腸カプセルを使用することも
できる。
適当な基剤は、例えば液体トリグリセリド、ポリエチレ
ングリコール又はパラフィン炭化水素である。
ングリコール又はパラフィン炭化水素である。
腸管外投与には、特に水溶性の形、例えば水溶性塩の形
の活性成分の水溶液、活性成分の懸濁液、例えば対応す
る油性注射用懸濁液(その際、適当な親油性溶剤又はビ
ヒクル、例えば脂肪油、例えばゴマ油、又は合成脂肪酸
エステル、例えばオレイン酸エチル又はトリグリセリド
を使用する)、又は水性注射用懸濁液(増粘性物質、例
えばナトリウムカルボキシメチルセルロース、ソルビッ
ト及び/又はデキストラン及び場合により安定剤を含む
)が適当である。
の活性成分の水溶液、活性成分の懸濁液、例えば対応す
る油性注射用懸濁液(その際、適当な親油性溶剤又はビ
ヒクル、例えば脂肪油、例えばゴマ油、又は合成脂肪酸
エステル、例えばオレイン酸エチル又はトリグリセリド
を使用する)、又は水性注射用懸濁液(増粘性物質、例
えばナトリウムカルボキシメチルセルロース、ソルビッ
ト及び/又はデキストラン及び場合により安定剤を含む
)が適当である。
活性成分の投与量は、溢血動物の種、年齢及び個体の状
態、並びに投与方法に左右される。普通の場合には、体
重約75kgの溢血動物に対する概略の一日の投与量は
、経口投与の場合、約100〜約500■、特に200
〜約300■で、これを数回分の等量の投与量とするの
が有利である。
態、並びに投与方法に左右される。普通の場合には、体
重約75kgの溢血動物に対する概略の一日の投与量は
、経口投与の場合、約100〜約500■、特に200
〜約300■で、これを数回分の等量の投与量とするの
が有利である。
次に、実施1夕1ノに基づいて本発明を詳述するが、本
発明はこれに限定されるものではない。温度は摂氏で示
す。
発明はこれに限定されるものではない。温度は摂氏で示
す。
実施例1
1−フェニルエタノール24.4g(0,2モル)及び
メタンスルホン酸クロリド27.6 g (0,24モ
ル)をトルエン250m1に溶解させ、lOoCで攪拌
しながら、トルエン50m1中のトリエチルアミン28
.2g(0,28モル)の溶液を30分かけて流加する
。反応混合物を12時間室温で攪拌し、次いで形成した
トリエチルアミン塩酸塩をiP別する。残渣をトルエン
で洗浄し、合したr液を水流ポンプの真空下に蒸発して
濃縮乾燥する。生じる油を2−メチルイミダゾール50
g(0,6モル)の溶液に95℃で攪拌しながら、15
分かけて流加し、混合物を100℃に6時間保持する。
メタンスルホン酸クロリド27.6 g (0,24モ
ル)をトルエン250m1に溶解させ、lOoCで攪拌
しながら、トルエン50m1中のトリエチルアミン28
.2g(0,28モル)の溶液を30分かけて流加する
。反応混合物を12時間室温で攪拌し、次いで形成した
トリエチルアミン塩酸塩をiP別する。残渣をトルエン
で洗浄し、合したr液を水流ポンプの真空下に蒸発して
濃縮乾燥する。生じる油を2−メチルイミダゾール50
g(0,6モル)の溶液に95℃で攪拌しながら、15
分かけて流加し、混合物を100℃に6時間保持する。
反応混合物にエーテル200m1及び水200m1を添
加し、有機相を分離し、水で3回洗浄する。有機相を毎
回2N塩酸100m1を使用して振盪によって3回抽出
し、酸性水相を濃水酸化す) IJウム熔液でアルカリ
性にし、再びエーテルと振盪して抽出する。有機相を硫
酸マグネシウム上で乾燥し、溶剤を水流ポンプの真空下
に除去する。粗製生成物として得られる油を高度真空下
に120℃(13,3Pa)で蒸溜し、シクロヘキサン
から再結晶させた後、84〜85℃で融解する純粋な1
−(1−フェニルエチル)−2−メチルイミダゾールが
得られる。生じた塩基22.8g(0,12モル)を酢
酸エチル100m1に熔かし、溶液をアルコール性塩酸
で酸性(pl+約1)にする。エーテル25m1を添加
した後、形成した沈澱をr別し、エーテルで洗浄し、真
空中60℃で乾燥する。生じた純粋な1−(1−フェニ
ルエチル)−2−メチルイミダゾール塩酸塩は229〜
229.5℃で融解する。
加し、有機相を分離し、水で3回洗浄する。有機相を毎
回2N塩酸100m1を使用して振盪によって3回抽出
し、酸性水相を濃水酸化す) IJウム熔液でアルカリ
性にし、再びエーテルと振盪して抽出する。有機相を硫
酸マグネシウム上で乾燥し、溶剤を水流ポンプの真空下
に除去する。粗製生成物として得られる油を高度真空下
に120℃(13,3Pa)で蒸溜し、シクロヘキサン
から再結晶させた後、84〜85℃で融解する純粋な1
−(1−フェニルエチル)−2−メチルイミダゾールが
得られる。生じた塩基22.8g(0,12モル)を酢
酸エチル100m1に熔かし、溶液をアルコール性塩酸
で酸性(pl+約1)にする。エーテル25m1を添加
した後、形成した沈澱をr別し、エーテルで洗浄し、真
空中60℃で乾燥する。生じた純粋な1−(1−フェニ
ルエチル)−2−メチルイミダゾール塩酸塩は229〜
229.5℃で融解する。
実施例2
実施例1に記載したのと同様の方法で、1−(p−メチ
ルフェニル)−エタノール40.86 g(0,3モル
)及び2−メチルイミダゾール73.9g(0,9モル
)から油状の1− (1−(p−メチルフェニル)−エ
チル〕−2−メチルイミダゾールが得られる。これから
製造した塩酸塩は237〜238℃で融解する。
ルフェニル)−エタノール40.86 g(0,3モル
)及び2−メチルイミダゾール73.9g(0,9モル
)から油状の1− (1−(p−メチルフェニル)−エ
チル〕−2−メチルイミダゾールが得られる。これから
製造した塩酸塩は237〜238℃で融解する。
実施例3
実施例1に記載したのと同様の方法で、1−(2,4−
ジメチルフェニル)−エタノール30、1 g (0,
゛2モル)及び2−メチルイミダゾール49.3g(0
,6モル)がら粗製生成物として油状の1− [1−(
2,4−ジメチルフェニル)−エチル〕−2−メチルイ
ミダゾール21.3gが得られる。これから同様の方法
で製造される塩酸塩は238〜239℃で融解する。
ジメチルフェニル)−エタノール30、1 g (0,
゛2モル)及び2−メチルイミダゾール49.3g(0
,6モル)がら粗製生成物として油状の1− [1−(
2,4−ジメチルフェニル)−エチル〕−2−メチルイ
ミダゾール21.3gが得られる。これから同様の方法
で製造される塩酸塩は238〜239℃で融解する。
出発原料として必要なl−(2,4−ジメチルフェニル
)−エタノールは、下記のようにして製造される: 2.4−ジメチルアセトフェノン44.5 g(0,3
モル)をイソプロパツール200m1に熔解させ、これ
に60℃で攪拌しながら水50m1中の硼水素化ナトリ
ウム5.7g(0,15モル)の水冷溶液を徐々に流加
する。反応混合物を還流温度で4時間加熱し、次いで冷
却し、1M燐酸二水素ナトリウム溶液200m1を添加
する。イソプロパノ−ルを水流ポンプの真空下に充分に
除去し、残渣をエーテルと振盪することによって抽出す
る。有機相を塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥
し、溶剤を水流ポンプの真空下に除去する。生じた残渣
を水流ポンプの真空下に蒸溜し、120℃の沸点(18
66,5Pa)を有する1−(2,4−ジメチルフェニ
ル)−エタノールを得る〔石板、Chem、 Ber、
47.2461、沸点124〜125℃/14mml
1g)。
)−エタノールは、下記のようにして製造される: 2.4−ジメチルアセトフェノン44.5 g(0,3
モル)をイソプロパツール200m1に熔解させ、これ
に60℃で攪拌しながら水50m1中の硼水素化ナトリ
ウム5.7g(0,15モル)の水冷溶液を徐々に流加
する。反応混合物を還流温度で4時間加熱し、次いで冷
却し、1M燐酸二水素ナトリウム溶液200m1を添加
する。イソプロパノ−ルを水流ポンプの真空下に充分に
除去し、残渣をエーテルと振盪することによって抽出す
る。有機相を塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥
し、溶剤を水流ポンプの真空下に除去する。生じた残渣
を水流ポンプの真空下に蒸溜し、120℃の沸点(18
66,5Pa)を有する1−(2,4−ジメチルフェニ
ル)−エタノールを得る〔石板、Chem、 Ber、
47.2461、沸点124〜125℃/14mml
1g)。
実施例4
実施例1に記載したのと同様の方法で、■−〔(2−メ
チルフェニル)−エチル〕−エタノール27.3g(0
,2モル)及び2−メチルイミダゾール49.3g(0
,6モル)から、粗製生成物として油状の1(1−(2
−メチルフェニル)−エチルゴー2−メチルイミダゾー
ルが得られる。塩酸塩は237〜238℃で融解する。
チルフェニル)−エチル〕−エタノール27.3g(0
,2モル)及び2−メチルイミダゾール49.3g(0
,6モル)から、粗製生成物として油状の1(1−(2
−メチルフェニル)−エチルゴー2−メチルイミダゾー
ルが得られる。塩酸塩は237〜238℃で融解する。
出発原料として必要な1−((2−メチルフェニル)エ
チル〕−エタノールは、実施例3と同様にして製造され
る(V、^uwers ら、Chem、 Ber。
チル〕−エタノールは、実施例3と同様にして製造され
る(V、^uwers ら、Chem、 Ber。
58.46、沸点107〜108℃/ 20 mmmm
1(。
1(。
実施例5
飽和炭酸カリウム溶液200m1に1−(l−フェニル
エテニリデンー1−イル)−2−メチルイミダゾール塩
酸塩25g(0,113モル)を添加し、次いで毎回1
00o1のエーテルを使用して振盪することによって3
回抽出する。有機抽出物を硫酸マグネシウム上で乾燥し
、真空中で蒸発させて濃縮乾燥する。生じた残渣をメタ
ノール500m1に溶解し、5%活性炭付きパラジウム
1gを添加して室温、禽圧で水素添加する。触媒をr別
し、メタノールで洗浄し、合したメタノール性溶液を真
空中で蒸発させて濃縮乾燥させる。生じた油性残渣をシ
クロヘキサンから結晶させ、融点84〜85°Cの純粋
な1−(1−フェニルエチル)−2−メチルイミダゾー
ルを得る。
エテニリデンー1−イル)−2−メチルイミダゾール塩
酸塩25g(0,113モル)を添加し、次いで毎回1
00o1のエーテルを使用して振盪することによって3
回抽出する。有機抽出物を硫酸マグネシウム上で乾燥し
、真空中で蒸発させて濃縮乾燥する。生じた残渣をメタ
ノール500m1に溶解し、5%活性炭付きパラジウム
1gを添加して室温、禽圧で水素添加する。触媒をr別
し、メタノールで洗浄し、合したメタノール性溶液を真
空中で蒸発させて濃縮乾燥させる。生じた油性残渣をシ
クロヘキサンから結晶させ、融点84〜85°Cの純粋
な1−(1−フェニルエチル)−2−メチルイミダゾー
ルを得る。
出発原料は、例えば下記のようにして得られる。
a)α−クロロフェニルアセチルクロリド130g (
0,68モル)をエタ/ −ル500mlニ20〜30
℃で滴加し、全体を30〜40℃で3時間攪拌する。溶
剤を真空中で除去し、粗製2−クロロ−2−フェニル酢
酸エチルエステルを得る。生じた生成物(137g)を
24のトルエン中に溶解させ、この溶液に2−メチルイ
ミダゾール170g(2,07モル)を添加する。反応
混合物を攪拌しながら100℃に12時間保持する。生
じた反応混合物を毎回500m1の水を使用して振盪す
ることにより4回抽出し、水相を少量のトルエンで洗浄
し、合した有機相を硫酸マグネシウム上で乾燥する。溶
剤を真空中で除去した後、油状の2−フェニル−2−(
2−メチルイミダゾール−i−イル)−酢酸エチルエス
テルが得られる。この化合物は145℃(26,66P
a)で溜出する。純粋な塩酸塩は157〜159℃で融
解する。
0,68モル)をエタ/ −ル500mlニ20〜30
℃で滴加し、全体を30〜40℃で3時間攪拌する。溶
剤を真空中で除去し、粗製2−クロロ−2−フェニル酢
酸エチルエステルを得る。生じた生成物(137g)を
24のトルエン中に溶解させ、この溶液に2−メチルイ
ミダゾール170g(2,07モル)を添加する。反応
混合物を攪拌しながら100℃に12時間保持する。生
じた反応混合物を毎回500m1の水を使用して振盪す
ることにより4回抽出し、水相を少量のトルエンで洗浄
し、合した有機相を硫酸マグネシウム上で乾燥する。溶
剤を真空中で除去した後、油状の2−フェニル−2−(
2−メチルイミダゾール−i−イル)−酢酸エチルエス
テルが得られる。この化合物は145℃(26,66P
a)で溜出する。純粋な塩酸塩は157〜159℃で融
解する。
b)2−フェニル−2−(2−メチルイミダゾール−1
−イル)−酢酸エチルエステル142.9 g(0,5
85モル)を1.511のイソプロパツール中に熔解さ
せ、5℃で攪拌しながら水150m1中の硼水素化ナト
リウム23g(0,6モル)の溶液を30分かけて滴加
する。混合物を冷却することなく6時間攪拌する。その
際混合物の温度は45〜50℃に達する。冷却したら、
混合物を濃塩酸と水との混合物(1: 1)で酸性(p
l+=1〜2)にし、溶剤を真空中で充分に除去する。
−イル)−酢酸エチルエステル142.9 g(0,5
85モル)を1.511のイソプロパツール中に熔解さ
せ、5℃で攪拌しながら水150m1中の硼水素化ナト
リウム23g(0,6モル)の溶液を30分かけて滴加
する。混合物を冷却することなく6時間攪拌する。その
際混合物の温度は45〜50℃に達する。冷却したら、
混合物を濃塩酸と水との混合物(1: 1)で酸性(p
l+=1〜2)にし、溶剤を真空中で充分に除去する。
飽和炭酸カリウム溶液を残渣に低温で、アルカリ性反応
が得られるまで添加し、次いで全体を毎回300IIl
lのエーテルを使用して振盪して3回抽出する。合した
有機相を硫酸マグネシウム上で乾燥し、溶剤を真空中で
除去する。生じた油状残渣をエーテル/シクロヘキサン
から結晶させ、融点114〜116℃の純粋な2−フェ
ニル−2−(2−メチルイミダゾール−1−イル)−エ
タン−1−オールを得る。
が得られるまで添加し、次いで全体を毎回300IIl
lのエーテルを使用して振盪して3回抽出する。合した
有機相を硫酸マグネシウム上で乾燥し、溶剤を真空中で
除去する。生じた油状残渣をエーテル/シクロヘキサン
から結晶させ、融点114〜116℃の純粋な2−フェ
ニル−2−(2−メチルイミダゾール−1−イル)−エ
タン−1−オールを得る。
得られた塩基105.3gをエタノール300m1に熔
解させ、酸性反応が得られるまで、アルコール性塩酸を
添加する。酢酸エチル200m1及びエーテル約200
m1を添加した後、形成した生成物をr別し、酢酸エチ
ルで洗浄し、真空中で60℃で乾燥する。純粋な2−フ
ェニル−2−(2−メチルイミダゾール−1−イル)−
エタノール塩酸塩は144〜146℃で融解する。
解させ、酸性反応が得られるまで、アルコール性塩酸を
添加する。酢酸エチル200m1及びエーテル約200
m1を添加した後、形成した生成物をr別し、酢酸エチ
ルで洗浄し、真空中で60℃で乾燥する。純粋な2−フ
ェニル−2−(2−メチルイミダゾール−1−イル)−
エタノール塩酸塩は144〜146℃で融解する。
2−フェニル−2−(2−メチルイミダゾール−1−イ
ル)−エタノール塩酸塩115g(0,481モル)を
11のクロロホルム中に熔解させ、塩化チオニル120
g(1モル)と共に還流下に10時間煮沸する。反応混
合物を真空中で蒸発させて濃縮乾燥し、粗製生成物をそ
のまま更に使用する。粗製1− (2−(1−クロロ−
2−フェニルエチル)〕−〕2−メチルイミダゾール塩
酸塩1204gを11のクロロホルム中に熔解させ、1
.8−ジアザビシクロ(5,4,03ウンデク−7−エ
ン152g(1,0モル)と共に室温で12時間攪拌す
る。
ル)−エタノール塩酸塩115g(0,481モル)を
11のクロロホルム中に熔解させ、塩化チオニル120
g(1モル)と共に還流下に10時間煮沸する。反応混
合物を真空中で蒸発させて濃縮乾燥し、粗製生成物をそ
のまま更に使用する。粗製1− (2−(1−クロロ−
2−フェニルエチル)〕−〕2−メチルイミダゾール塩
酸塩1204gを11のクロロホルム中に熔解させ、1
.8−ジアザビシクロ(5,4,03ウンデク−7−エ
ン152g(1,0モル)と共に室温で12時間攪拌す
る。
反応混合物から真空中で溶剤を除去し、シクロヘキサン
500m1及び水500n+1を加える。水相を分離し
、有機相を毎回100m1の水を使用して3回洗浄する
。有機相を硫酸マグネシウム上で乾燥し、溶剤を真空中
で除去する。粗製1−(1−フェニルエテニリデンー1
−イル)−2−メチルイミダゾールが油の形で得られる
。この塩基は、130℃(6,66Pa)の沸点を有す
る。粗製塩基82gを酢酸エチル200耐中に溶解させ
、酸性反応が得られるまで、約7Nのアルコール性塩酸
を添加する。エーテル50m1を添加した後、形成した
生成物をr別し、エーテルで洗浄し、真空中で60℃で
乾燥する。純粋な1−(1−フェニルエテニリデンー1
−イル)−2−メチルイミダゾール塩酸塩は258〜2
60°Cで融解する。
500m1及び水500n+1を加える。水相を分離し
、有機相を毎回100m1の水を使用して3回洗浄する
。有機相を硫酸マグネシウム上で乾燥し、溶剤を真空中
で除去する。粗製1−(1−フェニルエテニリデンー1
−イル)−2−メチルイミダゾールが油の形で得られる
。この塩基は、130℃(6,66Pa)の沸点を有す
る。粗製塩基82gを酢酸エチル200耐中に溶解させ
、酸性反応が得られるまで、約7Nのアルコール性塩酸
を添加する。エーテル50m1を添加した後、形成した
生成物をr別し、エーテルで洗浄し、真空中で60℃で
乾燥する。純粋な1−(1−フェニルエテニリデンー1
−イル)−2−メチルイミダゾール塩酸塩は258〜2
60°Cで融解する。
実施例6
l−(1−フェニルエチル)−イミダゾール8.6g’
(0,05モル)を無水テトラヒドロフラン80m1中
に熔解させ、これに−70°Cでヘキサン中のn−ブチ
ルリチウム溶液30m1(2モル)を滴加する。混合物
を一70℃で30分攪拌し、次いで、テトラヒドロフラ
ン20m1中の沃化メチル7.1g(0,05モル)を
滴加する。冷却手段を取り除き、混合物を徐々に室温に
し、次いで、この温度で2時間放置する。後処理のため
、2N水酸化ナトリウム溶液25n+1を添加し、テト
ラヒドロフランを真空中で充分に除去する。残渣をエー
テルと共に振盪して抽出し、有機相を硫酸マグネシウム
上で乾燥し、溶剤を真空中で除去する。生じた油状残渣
を酢酸エチルに溶かし、エーテル性塩酸を酸性反応が得
られるまで添加し、形成する生成物をt別する。イソプ
ロパツール/エーテルから再結晶した後、純粋な1−(
1−フェニルエチル)−2−メチルイミダゾール塩酸塩
は228〜229℃で融解する。
(0,05モル)を無水テトラヒドロフラン80m1中
に熔解させ、これに−70°Cでヘキサン中のn−ブチ
ルリチウム溶液30m1(2モル)を滴加する。混合物
を一70℃で30分攪拌し、次いで、テトラヒドロフラ
ン20m1中の沃化メチル7.1g(0,05モル)を
滴加する。冷却手段を取り除き、混合物を徐々に室温に
し、次いで、この温度で2時間放置する。後処理のため
、2N水酸化ナトリウム溶液25n+1を添加し、テト
ラヒドロフランを真空中で充分に除去する。残渣をエー
テルと共に振盪して抽出し、有機相を硫酸マグネシウム
上で乾燥し、溶剤を真空中で除去する。生じた油状残渣
を酢酸エチルに溶かし、エーテル性塩酸を酸性反応が得
られるまで添加し、形成する生成物をt別する。イソプ
ロパツール/エーテルから再結晶した後、純粋な1−(
1−フェニルエチル)−2−メチルイミダゾール塩酸塩
は228〜229℃で融解する。
実施例7
実施例1に記載したのと同様の方法で、1−(1−(3
−メチルフェニル)−エチル〕−エタノール13.6g
(0,1モル)及び2−メチルイミダゾール24.6g
(0,3モル)から粗製生成物として油状の1− (1
−(3−メチルフェニル)−エチルクー2−メチルイミ
ダゾールが得られる。
−メチルフェニル)−エチル〕−エタノール13.6g
(0,1モル)及び2−メチルイミダゾール24.6g
(0,3モル)から粗製生成物として油状の1− (1
−(3−メチルフェニル)−エチルクー2−メチルイミ
ダゾールが得られる。
塩酸塩は228〜230℃で融解する。
実施例8
実施例1に記載したのと同様の方法で、l−フェニルプ
ロパン−1−オール13.6g(0,1モル)及び2−
メチルイミダゾール25g(0,3モル)カラ粗製1−
(1−(フェニル)−プロピル〕=2−メチルイミダゾ
ールが油の状態で得られる。
ロパン−1−オール13.6g(0,1モル)及び2−
メチルイミダゾール25g(0,3モル)カラ粗製1−
(1−(フェニル)−プロピル〕=2−メチルイミダゾ
ールが油の状態で得られる。
塩酸塩は177〜179“Cで融解する。
実施例9
\
(0,14ル)及び2−メチルイミダゾール25g(0
,3モル)から、粗製の油状1− (l−(2−エチル
フェニル)−エチルツー2−メチルイミダゾールが得ら
れる。塩酸塩は211〜213℃で融解する。
,3モル)から、粗製の油状1− (l−(2−エチル
フェニル)−エチルツー2−メチルイミダゾールが得ら
れる。塩酸塩は211〜213℃で融解する。
実施例i。
実施例1に記載したのと同様の方法で、1−(2,6−
シメチルフエニル)−エタノール15.0g(0,1モ
ル)及び2−メチルイミダゾール25g(0,3モル)
から、融点100〜103℃の結晶性1− (1−(2
,6−シメチルフエニル)−エチルツー2−メチルイミ
ダゾールが得られる。塩酸塩は265〜267℃で融解
する。
シメチルフエニル)−エタノール15.0g(0,1モ
ル)及び2−メチルイミダゾール25g(0,3モル)
から、融点100〜103℃の結晶性1− (1−(2
,6−シメチルフエニル)−エチルツー2−メチルイミ
ダゾールが得られる。塩酸塩は265〜267℃で融解
する。
実施例11
1(1−(フェニル)−エチル〕−2−メチルー4.5
−ジヒドロイミダゾール18.8 g(0,1モル)を
塩化メチレン4000m1中に熔解させ、攪拌しながら
水分を排除して、マンガン酸バリウム282g(1,1
モル)を添加する。混合物を還流下に24時間攪拌する
。次いで、硫酸マグネシウム20gを添加し、固体分を
r別し、残渣を塩化メチレンで洗浄する。有機を液を真
空中で蒸発させて濃縮乾燥し、生じた油を酢酸エチルに
溶解させる。酸性反応が得られるまで、エーテル性塩酸
を添加した後、形成する塩酸塩をt別し、イソプロパツ
ール/エーテルから再結晶させる。
−ジヒドロイミダゾール18.8 g(0,1モル)を
塩化メチレン4000m1中に熔解させ、攪拌しながら
水分を排除して、マンガン酸バリウム282g(1,1
モル)を添加する。混合物を還流下に24時間攪拌する
。次いで、硫酸マグネシウム20gを添加し、固体分を
r別し、残渣を塩化メチレンで洗浄する。有機を液を真
空中で蒸発させて濃縮乾燥し、生じた油を酢酸エチルに
溶解させる。酸性反応が得られるまで、エーテル性塩酸
を添加した後、形成する塩酸塩をt別し、イソプロパツ
ール/エーテルから再結晶させる。
純粋な1− (1−(フェニル)−エチル〕−2−メチ
ルイミダゾール塩酸塩は228〜229℃で融解する。
ルイミダゾール塩酸塩は228〜229℃で融解する。
出発原料は、下記のようにして得られる。
アセトフェノン30g(0,25モル)をメタノール3
00m1中に熔解させ、エチレンジアミン30g(0,
5モル)及び活性炭付きパラジウム1.0gを添加した
後、20℃、重圧で水素を用いて22時間にわたって水
素添加する。生じた溶液から一過によって触媒を除去し
、溶剤を真空中で除去し、残渣を水流ポンプの真空下に
蒸溜する。
00m1中に熔解させ、エチレンジアミン30g(0,
5モル)及び活性炭付きパラジウム1.0gを添加した
後、20℃、重圧で水素を用いて22時間にわたって水
素添加する。生じた溶液から一過によって触媒を除去し
、溶剤を真空中で除去し、残渣を水流ポンプの真空下に
蒸溜する。
油の形で得られるN−(1−(フェニル)−エチル〕−
アミノエチルアミンは、115〜118°C(1466
,5Pa)で沸騰する。
アミノエチルアミンは、115〜118°C(1466
,5Pa)で沸騰する。
b)N−(1−(フェニル)−エチル〕−アミノエチル
アミン16.4g(0,1モル)をエタノール100m
1中に溶解させ、0℃でアセトアミド酸エチルエステル
塩酸塩16.0g(0,1モル)を導入する。混合物を
0℃で3時間攪拌し、溶剤を真空中で除去する。生じた
油を水及びエーテルと共に振盪して抽出し、エーテル性
抽出物を硫酸マグネシウム上で乾燥し、溶剤を真空中で
除去する。残渣を酢酸エチル中に溶解し、酸性反応が得
られるまで、蓚酸を添加する。少量のエーテルを添加し
た後、形成した生成物をr別し、イソプロパツール/エ
ーテルから再結晶させる。純粋な1−(1−(フェニル
)−エチル〕−2−メチルー4.5−ジヒドロイミダゾ
ール蓚酸塩は80〜84℃で融解する。
アミン16.4g(0,1モル)をエタノール100m
1中に溶解させ、0℃でアセトアミド酸エチルエステル
塩酸塩16.0g(0,1モル)を導入する。混合物を
0℃で3時間攪拌し、溶剤を真空中で除去する。生じた
油を水及びエーテルと共に振盪して抽出し、エーテル性
抽出物を硫酸マグネシウム上で乾燥し、溶剤を真空中で
除去する。残渣を酢酸エチル中に溶解し、酸性反応が得
られるまで、蓚酸を添加する。少量のエーテルを添加し
た後、形成した生成物をr別し、イソプロパツール/エ
ーテルから再結晶させる。純粋な1−(1−(フェニル
)−エチル〕−2−メチルー4.5−ジヒドロイミダゾ
ール蓚酸塩は80〜84℃で融解する。
更に、反応させるため、蓚酸塩29gをlN水酸化カリ
ウム溶液及びエーテルで遊離塩基に変える。130℃(
1,33Pa)で沸騰する遊離塩基が得られる。
ウム溶液及びエーテルで遊離塩基に変える。130℃(
1,33Pa)で沸騰する遊離塩基が得られる。
実施例12
2
R−(+)−1−フェニルエタノール(〔α〕。
= + ’39.5°)5.0g (0,0409モル
)及びメタンスルホン酸クロリド5.2 g (0,0
55モル)をエーテル100+1中に溶解させ、0℃に
冷却し、この温度でエーテル50m1中のトリエチルア
ミン5.1 g (0,060モル)の溶液を滴加する
。混合物を0℃で1時間攪拌し、形成した沈澱をr別し
、r液を水流ポンプの真空下に出来るだけ緩和に蒸発す
ることにより濃縮し、残渣をトルエン20m1中に熔解
させ、90℃で2−メチルイミダゾール8.2g(0,
1モル)の溶液に滴加する。混合物を90℃で1時間加
熱する。後処理のため、混合物をエーテル及び水で希釈
し、次いで2N塩酸50m1と共に振盪して3回抽出す
る。塩酸抽出液を濃水酸化ナトリウム溶液でアルカリ性
にし、エーテルで抽出する。生じたエーテル性溶液を硫
酸マグネシウム上で乾燥し、濃縮乾燥する。残留する残
渣をシクロヘキサンから2回結晶させ、113〜115
℃の融点を有する純粋な左旋性1−(1−フェニルエチ
ル)−2−メチルイミダゾールを得る。〔α)D=−1
5°±1’ (エナンチオマー純度、NMRにより約9
5%)。塩酸塩は243〜244℃で融解する。
)及びメタンスルホン酸クロリド5.2 g (0,0
55モル)をエーテル100+1中に溶解させ、0℃に
冷却し、この温度でエーテル50m1中のトリエチルア
ミン5.1 g (0,060モル)の溶液を滴加する
。混合物を0℃で1時間攪拌し、形成した沈澱をr別し
、r液を水流ポンプの真空下に出来るだけ緩和に蒸発す
ることにより濃縮し、残渣をトルエン20m1中に熔解
させ、90℃で2−メチルイミダゾール8.2g(0,
1モル)の溶液に滴加する。混合物を90℃で1時間加
熱する。後処理のため、混合物をエーテル及び水で希釈
し、次いで2N塩酸50m1と共に振盪して3回抽出す
る。塩酸抽出液を濃水酸化ナトリウム溶液でアルカリ性
にし、エーテルで抽出する。生じたエーテル性溶液を硫
酸マグネシウム上で乾燥し、濃縮乾燥する。残留する残
渣をシクロヘキサンから2回結晶させ、113〜115
℃の融点を有する純粋な左旋性1−(1−フェニルエチ
ル)−2−メチルイミダゾールを得る。〔α)D=−1
5°±1’ (エナンチオマー純度、NMRにより約9
5%)。塩酸塩は243〜244℃で融解する。
実施例13
実施例11において示したのと同様の方法で、5(−)
−1−フェニルエタノール(〔α〕6°=−41,3°
)5.0gから融点113〜115℃、〔α]”=+1
5° (±1°)の右旋性1−〔l−(フェニル)−エ
チル〕−2−メチルイミタソールが得られる。塩酸塩は
243〜244℃で融解する。
−1−フェニルエタノール(〔α〕6°=−41,3°
)5.0gから融点113〜115℃、〔α]”=+1
5° (±1°)の右旋性1−〔l−(フェニル)−エ
チル〕−2−メチルイミタソールが得られる。塩酸塩は
243〜244℃で融解する。
実施例14
実施例1に記載したのと同様の方法で、1−(3−メト
キシフェニル)−エタノール20.2 g(0,1モル
)及び2−メチルイミダゾール25g(0,3モル)か
ら、1− [1−(3−メトキシフェニル)−エチルツ
ー2−メチルイミダゾールが油の状態で得られる。塩酸
塩は197〜199℃で融解する。
キシフェニル)−エタノール20.2 g(0,1モル
)及び2−メチルイミダゾール25g(0,3モル)か
ら、1− [1−(3−メトキシフェニル)−エチルツ
ー2−メチルイミダゾールが油の状態で得られる。塩酸
塩は197〜199℃で融解する。
実施例15
1− (1−(2−ヒドロキシフェニル)−エチルツー
2−メチルイミダゾール6、0 g (0,0297モ
ル)及びヘキサメタボール25m1をテトラヒドロフラ
ン25+1中に懸濁し、20℃で攪拌しながら水素化ナ
トリウム懸濁液(55%)1.3g(0,030モル)
を少量ずつ添加する。混合物を20℃で2時間攪拌する
。これにヘキサメタポール25+al中の沃化メチル4
.25 g (0,030モル)の溶液を滴加し、混合
物を45℃に1時間保持する。
2−メチルイミダゾール6、0 g (0,0297モ
ル)及びヘキサメタボール25m1をテトラヒドロフラ
ン25+1中に懸濁し、20℃で攪拌しながら水素化ナ
トリウム懸濁液(55%)1.3g(0,030モル)
を少量ずつ添加する。混合物を20℃で2時間攪拌する
。これにヘキサメタポール25+al中の沃化メチル4
.25 g (0,030モル)の溶液を滴加し、混合
物を45℃に1時間保持する。
反応混合物を氷水200m1上に注ぎ、塩化メチレンと
共に振盪して抽出する。有機相を分離し、水で洗浄し、
硫酸マグネシウム上で乾燥する。溶剤を除去した後、粗
製1− (1−(2−メトキシフェニル)−エチル〕−
2−メチルイミタソール゛が油の状態で得られる。塩酸
塩は201〜203℃で融解する。
共に振盪して抽出する。有機相を分離し、水で洗浄し、
硫酸マグネシウム上で乾燥する。溶剤を除去した後、粗
製1− (1−(2−メトキシフェニル)−エチル〕−
2−メチルイミタソール゛が油の状態で得られる。塩酸
塩は201〜203℃で融解する。
出発原料として必要な1− [1−(2−ヒドロキシフ
ェニル)−エチルツー2−メチルイミダゾールは、下記
のようにして得られる。
ェニル)−エチルツー2−メチルイミダゾールは、下記
のようにして得られる。
α−メチレン−1−(2−ヒドロキシベンジル)=2−
メチルイミダゾール20.0g(0,1モル)をエタノ
ール500m1中に熔解させ、活性炭付きパラジウム1
gを添加した後、室温、重圧で水素添加する。次いで、
触媒を?去し、溶剤を真空中で充分に除去し、弱酸性反
応が得られるまで、フマール酸を残渣に添加する。酢酸
エチルを添加した後、形成した生成物をr別し、アルコ
ール/酢酸エチルから再結晶させ、乾燥する。純粋な1
−(1−(2−ヒドロキシフェニル)−エチルツー2−
メチルイミダゾールは148〜150℃で融解する。
メチルイミダゾール20.0g(0,1モル)をエタノ
ール500m1中に熔解させ、活性炭付きパラジウム1
gを添加した後、室温、重圧で水素添加する。次いで、
触媒を?去し、溶剤を真空中で充分に除去し、弱酸性反
応が得られるまで、フマール酸を残渣に添加する。酢酸
エチルを添加した後、形成した生成物をr別し、アルコ
ール/酢酸エチルから再結晶させ、乾燥する。純粋な1
−(1−(2−ヒドロキシフェニル)−エチルツー2−
メチルイミダゾールは148〜150℃で融解する。
更に、反応させるため、フマール酸塩を2N水酸化ナト
リウム溶液及びエーテルで分解して遊離塩基を形成する
。得られる遊離塩基を記載したように反応させる。
リウム溶液及びエーテルで分解して遊離塩基を形成する
。得られる遊離塩基を記載したように反応させる。
実施例16
実施例1に記載したのと同様の方法で、1−(2,3−
ジメトキシフェニル)−エタノール18.2g(0,1
モル)及び2−メチルイミダゾール25g(0,3モル
)から、粗製生成物が得られる。遊離塩基を塩化メチレ
ン/1〜5%メタノールを用いてシリカゲル上でクロマ
トグラフィーし、融点122〜124℃の純粋な1−
(1−(2゜3−ジメトキシフェニル)−エチルツー2
−メチルイミダゾールを得る。塩酸塩は175〜178
℃で融解する。
ジメトキシフェニル)−エタノール18.2g(0,1
モル)及び2−メチルイミダゾール25g(0,3モル
)から、粗製生成物が得られる。遊離塩基を塩化メチレ
ン/1〜5%メタノールを用いてシリカゲル上でクロマ
トグラフィーし、融点122〜124℃の純粋な1−
(1−(2゜3−ジメトキシフェニル)−エチルツー2
−メチルイミダゾールを得る。塩酸塩は175〜178
℃で融解する。
実施例17
実施例1に記載したのと同様の方法で、■−(2,4,
6−)リメチルフェニル)−エタノール16.4g(0
,1モル)及び2−メチルイミダゾール25g(0,3
モル)から融点129〜131℃の純粋な1− (1−
(2,4,6−)リメチルフェニル)−エチルツー2−
メチルイミダゾール7.9gが得られる。塩酸塩は26
7℃(分解)で融解する。
6−)リメチルフェニル)−エタノール16.4g(0
,1モル)及び2−メチルイミダゾール25g(0,3
モル)から融点129〜131℃の純粋な1− (1−
(2,4,6−)リメチルフェニル)−エチルツー2−
メチルイミダゾール7.9gが得られる。塩酸塩は26
7℃(分解)で融解する。
実施例18
実施例1に記載したのと同様の方法で、1−(2,6−
ジメトキシフェニル)−エタノール9.1g(0,05
モル)及び2−メチルイミダゾール12.5 g (0
,15モル)から、粗製1(1−(2,6−ジメトキシ
フェニル)−エチル〕−2=メチルイミダゾール3.7
gが得られ、これは融点214〜216℃の純粋な塩酸
塩を生じる。
ジメトキシフェニル)−エタノール9.1g(0,05
モル)及び2−メチルイミダゾール12.5 g (0
,15モル)から、粗製1(1−(2,6−ジメトキシ
フェニル)−エチル〕−2=メチルイミダゾール3.7
gが得られ、これは融点214〜216℃の純粋な塩酸
塩を生じる。
出発原料は、下記のようにして製造することができる:
2.6−シメトキシベンズアルデヒド16.6g(0,
1モル)を無水テトラヒドロフラン200m1に溶解さ
せ、これに10℃でテトラヒドロフラン中の2.58M
メチルマグネシウムヨーシト溶液60m1を滴加する。
1モル)を無水テトラヒドロフラン200m1に溶解さ
せ、これに10℃でテトラヒドロフラン中の2.58M
メチルマグネシウムヨーシト溶液60m1を滴加する。
反応混合物を2時間室温に保持し、次いで、水200m
1中の塩化アンモニウム30gの溶液を添加する。生じ
た混合物をエーテルと共に振盪して抽出し、有機相を塩
水で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥する。溶剤を除
去した後。残渣をイソプロピルエーテル/石油エーテル
から結晶させる。生じた1−(2,6−シメトキシフエ
ニル)−エタノールは56〜58℃でM[する。
1中の塩化アンモニウム30gの溶液を添加する。生じ
た混合物をエーテルと共に振盪して抽出し、有機相を塩
水で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥する。溶剤を除
去した後。残渣をイソプロピルエーテル/石油エーテル
から結晶させる。生じた1−(2,6−シメトキシフエ
ニル)−エタノールは56〜58℃でM[する。
実施例19
実施例1に記載したのと同様の方法で、1−(2,3−
ジメチルフェニル)−エタノール3g(0,02モル)
及び2−メチルイミダゾール4.92 g (0,06
モル)から、油状の1(i(2,3−ジメチルフェニル
)−エチル〕−2−メチルイミダゾール1.95 gが
得られる。純粋な1− (i (2,3−ジメチルフェ
ニル)−エチルツー2−メチルイミダゾール塩酸塩(融
点244〜246℃)は、粗製塩基1.92 gからエ
ーテル性塩酸を用いて製造される。
ジメチルフェニル)−エタノール3g(0,02モル)
及び2−メチルイミダゾール4.92 g (0,06
モル)から、油状の1(i(2,3−ジメチルフェニル
)−エチル〕−2−メチルイミダゾール1.95 gが
得られる。純粋な1− (i (2,3−ジメチルフェ
ニル)−エチルツー2−メチルイミダゾール塩酸塩(融
点244〜246℃)は、粗製塩基1.92 gからエ
ーテル性塩酸を用いて製造される。
実施例20
1−フェニルエチルプロミド9.25 g (0,05
モル)を2−メチルイミダゾール20.5 g (0,
25モル)と共にトル17100ml中に熔解させ、攪
拌しながら100℃で8時間加熱する。反応混合物を冷
却し、酸性反応が得られるまで、2N塩酸を添加し、酸
性水相を分離する。トルエン溶液を毎回50m1のIN
塩酸を使用して振盪により3回抽出し、合した酸性水相
を濃水酸化ナトリウム溶液でアルカリ性にする。生じた
混合物を振盪によりエーテルで抽出し、エーテル性溶液
を硫酸マグネシウム上で乾燥し、溶剤を真空中で除去す
る。
モル)を2−メチルイミダゾール20.5 g (0,
25モル)と共にトル17100ml中に熔解させ、攪
拌しながら100℃で8時間加熱する。反応混合物を冷
却し、酸性反応が得られるまで、2N塩酸を添加し、酸
性水相を分離する。トルエン溶液を毎回50m1のIN
塩酸を使用して振盪により3回抽出し、合した酸性水相
を濃水酸化ナトリウム溶液でアルカリ性にする。生じた
混合物を振盪によりエーテルで抽出し、エーテル性溶液
を硫酸マグネシウム上で乾燥し、溶剤を真空中で除去す
る。
生じた残渣を酢酸エチル中に溶解させ、酸性反応が得ら
れるまで、エーテル性塩酸を添加する。更にエーテルを
添加した後、形成した生成物をr別し、エーテルで洗浄
し、シクロヘキサンから再結晶させる。純粋な1−(1
−フェニルエチル)−2−メチルイミダゾールは84〜
85℃で融解する。
れるまで、エーテル性塩酸を添加する。更にエーテルを
添加した後、形成した生成物をr別し、エーテルで洗浄
し、シクロヘキサンから再結晶させる。純粋な1−(1
−フェニルエチル)−2−メチルイミダゾールは84〜
85℃で融解する。
実施例1に記載したようにして塩基から塩酸塩を製造す
る。純粋な1−(1−フェニルエチル)−2−メチルイ
ミダゾール塩酸塩は229〜229、5℃で融解する。
る。純粋な1−(1−フェニルエチル)−2−メチルイ
ミダゾール塩酸塩は229〜229、5℃で融解する。
実施例21
アセトイミノメチルエーテル塩酸塩10.9 g(0,
1モル)をN−(1−フェニルエチル)−2−アミノア
セトアルデヒドジメチルアセクール23.02g(0,
11モル)に添加し、全体をメタノール200m1中に
溶解させ、室温で4日間放置する。反応混合物から真空
で溶剤を除去し、油状残渣を水250n+1に溶解させ
、濃塩酸500m1に添加する。混合物を100℃で蒸
発により濃縮乾燥し、生じた残渣を飽和炭酸カリウム溶
液でアルカリ性にする。生じた混合物を振盪によりエー
テル500m1で3回抽出し、エーテル相を硫酸マグネ
シウム上で乾燥し、溶剤を真空中で除去する。
1モル)をN−(1−フェニルエチル)−2−アミノア
セトアルデヒドジメチルアセクール23.02g(0,
11モル)に添加し、全体をメタノール200m1中に
溶解させ、室温で4日間放置する。反応混合物から真空
で溶剤を除去し、油状残渣を水250n+1に溶解させ
、濃塩酸500m1に添加する。混合物を100℃で蒸
発により濃縮乾燥し、生じた残渣を飽和炭酸カリウム溶
液でアルカリ性にする。生じた混合物を振盪によりエー
テル500m1で3回抽出し、エーテル相を硫酸マグネ
シウム上で乾燥し、溶剤を真空中で除去する。
油状残渣を高度真空下に(6,66Pa)蒸溜する。
沸点115〜120℃。生じた生成物を酢酸エチル中に
熔解させ、酸性反応が得られるまで、エーテル性塩酸を
添加する。形成する生成物をr別し、イソプロパツール
/エーテルから再結晶させる。
熔解させ、酸性反応が得られるまで、エーテル性塩酸を
添加する。形成する生成物をr別し、イソプロパツール
/エーテルから再結晶させる。
純粋す1− (2−フェニルエチル)−2−メチルイミ
ダゾール塩酸塩は228〜229℃で融解する。
ダゾール塩酸塩は228〜229℃で融解する。
出発原料は、下記のようにして得られる:a)アセトフ
ェノン60.1g(0,5モル)を2−アミノアセトア
ルデヒドジメチルアセクール56.78 g (0,5
4モル)と共にメタノール1000il中に溶解させ、
活性炭付きパラジウム10gを添加した後、室温、常圧
で接触水素添加する。水素の吸収が完了した後、触媒を
r去し、溶剤を真空中で除去する。生じた残渣を高度真
空下に60〜65℃(7,99Pa)で蒸溜し、純粋な
N−(1−フェニルエチル)−2−アミノアセトアルデ
ヒドジメチルアセクールを得る。
ェノン60.1g(0,5モル)を2−アミノアセトア
ルデヒドジメチルアセクール56.78 g (0,5
4モル)と共にメタノール1000il中に溶解させ、
活性炭付きパラジウム10gを添加した後、室温、常圧
で接触水素添加する。水素の吸収が完了した後、触媒を
r去し、溶剤を真空中で除去する。生じた残渣を高度真
空下に60〜65℃(7,99Pa)で蒸溜し、純粋な
N−(1−フェニルエチル)−2−アミノアセトアルデ
ヒドジメチルアセクールを得る。
b)アセトニトリル82g(2モル)をメタノール65
g(2モル)中に溶解させ、4N工−テル性塩酸500
m1に添加する。反応混合物を室温で放置し、形成する
生成物をr別する。生じた生成物をエーテルで洗浄し、
真空中で室温で乾燥する。
g(2モル)中に溶解させ、4N工−テル性塩酸500
m1に添加する。反応混合物を室温で放置し、形成する
生成物をr別する。生じた生成物をエーテルで洗浄し、
真空中で室温で乾燥する。
生じたアセトイミノメチルエーテル塩酸塩は97Cで融
解する。
解する。
実施例22
1−〔2−メトキシベンジルツーイミダゾール9.1g
(0,05モル)をテトラヒドロフラン90m1中に溶
解させ、−78℃でテトラヒドロフラン50m1中のブ
チルリチウム7.1g(0,11モル、2M溶液55.
4mlに相当)を流加する。混合物を一78℃で2時間
攪拌し、テトラヒドロフラン20m1に溶かした沃化メ
チル17.0 g (0,12モル)を流加する。反応
混合物を室温に加熱し、この温度で30時間攪拌する。
(0,05モル)をテトラヒドロフラン90m1中に溶
解させ、−78℃でテトラヒドロフラン50m1中のブ
チルリチウム7.1g(0,11モル、2M溶液55.
4mlに相当)を流加する。混合物を一78℃で2時間
攪拌し、テトラヒドロフラン20m1に溶かした沃化メ
チル17.0 g (0,12モル)を流加する。反応
混合物を室温に加熱し、この温度で30時間攪拌する。
次いで水50m1を徐々に流加し、テトラヒドロフラン
を真空中で充分に除去する。
を真空中で充分に除去する。
強いアルカリ反応が得られるまで、2N水酸化ナトリウ
ム溶液を添加した後、残渣を振盪によりエーテルで抽出
する。有機相を硫酸マグネシウム上で乾燥し、溶剤を真
空中で除去する。生じた油状残渣を酢酸エチル中に熔解
させ、酸性反応が得られるまで、エーテル性塩酸を添加
する。形成する生成物をr別し、インプロパツール/エ
ーテルから再結晶させる。純粋な1−[1−(2−メト
キシフェニル)−エチルゴー2−メチルイミダゾール塩
酸塩は201〜203℃で融解する。
ム溶液を添加した後、残渣を振盪によりエーテルで抽出
する。有機相を硫酸マグネシウム上で乾燥し、溶剤を真
空中で除去する。生じた油状残渣を酢酸エチル中に熔解
させ、酸性反応が得られるまで、エーテル性塩酸を添加
する。形成する生成物をr別し、インプロパツール/エ
ーテルから再結晶させる。純粋な1−[1−(2−メト
キシフェニル)−エチルゴー2−メチルイミダゾール塩
酸塩は201〜203℃で融解する。
出発原料は、下記のようにして得られる:実施例1に記
載したのと同様の方法で、2−メトキシベンジルアルコ
ール13.8g(0,1モル)及びイミダゾール34g
(0,5モル)から純粋な油状2−メトキシベンジルイ
ミダゾール9.78 gが得られる。生じた生成物を高
度真空下に120〜130℃(1,33Pa)で蒸溜す
る。
載したのと同様の方法で、2−メトキシベンジルアルコ
ール13.8g(0,1モル)及びイミダゾール34g
(0,5モル)から純粋な油状2−メトキシベンジルイ
ミダゾール9.78 gが得られる。生じた生成物を高
度真空下に120〜130℃(1,33Pa)で蒸溜す
る。
実施例23
1− (1−(4−アミノフェニル)−エチル〕−2−
メチルイミダゾール4.0g(20ミリモル)をメタノ
ール100m1中に熔解させ、濃塩酸6m1(60ミリ
モル)を添加し、0℃で亜硝酸tert −ブチル2.
68g(26ミリモル)を流加する。混合物を0°Cで
30分間攪拌し、1時間にわたって徐々に加熱還流させ
、この温度に30分間保持する。反応混合物を水流ポン
プの真空下に濃縮し、アルカリ反応が得られるまで、2
N水酸化ナトリウム溶液を添加し、混合物を塩水で希釈
し、振盪によりエーテルで抽出する。エーテル性抽出液
を硫酸マグネシウム上で乾燥し、溶剤を真空中で除去し
、酸性反応が得られるまでアルコール性塩酸を添加する
。酢酸エチルを添加した後、形成した生成物をr別し、
乾燥する。アルコール/酢酸エチルから再結晶した後、
融点200〜202℃の純粋なL−(1−(4−メトキ
シフェニル)−エチル〕−2−メチルイミダゾール塩酸
塩が得られる。
メチルイミダゾール4.0g(20ミリモル)をメタノ
ール100m1中に熔解させ、濃塩酸6m1(60ミリ
モル)を添加し、0℃で亜硝酸tert −ブチル2.
68g(26ミリモル)を流加する。混合物を0°Cで
30分間攪拌し、1時間にわたって徐々に加熱還流させ
、この温度に30分間保持する。反応混合物を水流ポン
プの真空下に濃縮し、アルカリ反応が得られるまで、2
N水酸化ナトリウム溶液を添加し、混合物を塩水で希釈
し、振盪によりエーテルで抽出する。エーテル性抽出液
を硫酸マグネシウム上で乾燥し、溶剤を真空中で除去し
、酸性反応が得られるまでアルコール性塩酸を添加する
。酢酸エチルを添加した後、形成した生成物をr別し、
乾燥する。アルコール/酢酸エチルから再結晶した後、
融点200〜202℃の純粋なL−(1−(4−メトキ
シフェニル)−エチル〕−2−メチルイミダゾール塩酸
塩が得られる。
出発原料は、下記のようにして得られる:p−ニトロア
セトフフシ2フ6.5g(0,1モル)をメタノール1
60m1中に溶解させ、冷却しながら、硼水素化ナトリ
ウム3.7g(0,1モル)を徐々に添加する。添加が
終了した後、混合物を徐々に60℃に加熱し、ガスの発
生が止むまで、この温度に保持する。冷却後、1M燐酸
二水素ナトリウム溶液約150m1を添加し、メタノー
ルを真空中で充分に除去する。残渣を振盪によってエー
テルで抽出し、有機相を硫酸マグネシウム上で乾燥し、
溶剤を真空中で除去する。生じた1−(p−ニトロフェ
ニルツーエタノールを粗製油の状態で更に使用する。
セトフフシ2フ6.5g(0,1モル)をメタノール1
60m1中に溶解させ、冷却しながら、硼水素化ナトリ
ウム3.7g(0,1モル)を徐々に添加する。添加が
終了した後、混合物を徐々に60℃に加熱し、ガスの発
生が止むまで、この温度に保持する。冷却後、1M燐酸
二水素ナトリウム溶液約150m1を添加し、メタノー
ルを真空中で充分に除去する。残渣を振盪によってエー
テルで抽出し、有機相を硫酸マグネシウム上で乾燥し、
溶剤を真空中で除去する。生じた1−(p−ニトロフェ
ニルツーエタノールを粗製油の状態で更に使用する。
1−(p−ニトロフェニル〕−エタ)−ル16g(0,
096モル)及び2−メチルイミダゾール23.6g(
0,29モル)から、実施例1に記載したようにして、
融点78〜79℃(ジイソプロピルエーテル/石油エー
テルから再結晶)の純粋な1− [1−(4−ニトロフ
ェニル)−エチル〕−2−メチルイミダゾールが得られ
る。
096モル)及び2−メチルイミダゾール23.6g(
0,29モル)から、実施例1に記載したようにして、
融点78〜79℃(ジイソプロピルエーテル/石油エー
テルから再結晶)の純粋な1− [1−(4−ニトロフ
ェニル)−エチル〕−2−メチルイミダゾールが得られ
る。
1− (1−(4−ニトロフェニル)−エチル〕−2−
メチルイミダゾール14.0 g (0,06モル)を
エタノール150m1中に熔解させ、ラネー・ニッケル
2gを添加し、常圧、20℃で15時間かけて水素で接
触水素添加する。
メチルイミダゾール14.0 g (0,06モル)を
エタノール150m1中に熔解させ、ラネー・ニッケル
2gを添加し、常圧、20℃で15時間かけて水素で接
触水素添加する。
次いで触媒をr去し、溶剤を真空中で除去し、残渣を酢
酸エチルから結晶させる。純粋な1−(1−(4−アミ
ノフェニル)−エチル〕−2−メチルイミダゾールは1
49〜151 ”cで融解する。ジ塩酸塩(アルコール
/酢酸エチルからアルコール性塩酸を用いて)は165
〜167℃で融解する。
酸エチルから結晶させる。純粋な1−(1−(4−アミ
ノフェニル)−エチル〕−2−メチルイミダゾールは1
49〜151 ”cで融解する。ジ塩酸塩(アルコール
/酢酸エチルからアルコール性塩酸を用いて)は165
〜167℃で融解する。
実施例24
実施例23に記載したのと同様の方法で、■−(1−(
2−アミノフェニル)−エチルツー2−メチルイミダゾ
ール20.1g(0,1モル)から、融点201〜20
3℃の純粋な1−(1−(2−メトキシフェニル)−エ
チル〕−2−メチルイミダゾール塩酸塩を得ることがで
きる。
2−アミノフェニル)−エチルツー2−メチルイミダゾ
ール20.1g(0,1モル)から、融点201〜20
3℃の純粋な1−(1−(2−メトキシフェニル)−エ
チル〕−2−メチルイミダゾール塩酸塩を得ることがで
きる。
ジ塩酸塩(アルコール/酢酸エチルからアルコール性塩
酸を用いて)は165〜167℃で融解する。
酸を用いて)は165〜167℃で融解する。
実施例25
1−(1−フェニルエチル)−2−メチルイミダゾール
0.020 gを含む錠剤は、例えば下記のようにして
製造することができるニ ーー皿城−(10,000錠に対して):活性成分 2
00.00 g 乳糖 290.80 g バレイショ澱粉 274.70 g ステアリン酸 10.00g タルク 200.00 g ステアリン酸マグネシウム 2.50gコロイド状シリ
カ 32.00 g エタノール 適量 活性成分、乳糖及びバレイショ澱粉194.70gの混
合物をステアリン酸のエタノール性溶液で湿潤させ、篩
を通して造粒する。乾燥後、残りのバレイショ澱粉、タ
ルク、ステアリン酸マグネシウム及びコロイド状シリカ
を混入し、混合物を圧縮して、それぞれ重さ0.1gの
錠剤を形成し、必要に応じ、投与量を更に精密に調節す
るための分割溝を設けることができる。
0.020 gを含む錠剤は、例えば下記のようにして
製造することができるニ ーー皿城−(10,000錠に対して):活性成分 2
00.00 g 乳糖 290.80 g バレイショ澱粉 274.70 g ステアリン酸 10.00g タルク 200.00 g ステアリン酸マグネシウム 2.50gコロイド状シリ
カ 32.00 g エタノール 適量 活性成分、乳糖及びバレイショ澱粉194.70gの混
合物をステアリン酸のエタノール性溶液で湿潤させ、篩
を通して造粒する。乾燥後、残りのバレイショ澱粉、タ
ルク、ステアリン酸マグネシウム及びコロイド状シリカ
を混入し、混合物を圧縮して、それぞれ重さ0.1gの
錠剤を形成し、必要に応じ、投与量を更に精密に調節す
るための分割溝を設けることができる。
実施例26
■−(1−フェニルエチル)−2−メチルイミダゾール
0.025gを含むカプセルは、下記のようにして製造
することができるニ ーー皿成−(カプセルi 、 ooo個に対して):活
性成分 25.00g 乳糖 249.00 g ゼラチン 2.00g トウモロコシお粉 10.00 g タルク 15.00 g 水 適量 活性成分を乳糖と混合し、混合物をゼラチン水溶液で均
一に湿らせ、次いで、メツシュ幅1.2〜1.5鶴の篩
に通して造粒する。顆粒を乾燥したトウモロコシ澱粉及
びタルクと混合し、300■ずつを硬質ゼラチンカプセ
ル(サイズ1)中に入れる。
0.025gを含むカプセルは、下記のようにして製造
することができるニ ーー皿成−(カプセルi 、 ooo個に対して):活
性成分 25.00g 乳糖 249.00 g ゼラチン 2.00g トウモロコシお粉 10.00 g タルク 15.00 g 水 適量 活性成分を乳糖と混合し、混合物をゼラチン水溶液で均
一に湿らせ、次いで、メツシュ幅1.2〜1.5鶴の篩
に通して造粒する。顆粒を乾燥したトウモロコシ澱粉及
びタルクと混合し、300■ずつを硬質ゼラチンカプセ
ル(サイズ1)中に入れる。
ラットの肝臓におけるモノアミノオキシダーゼ活性の抑
制率をアール・ジエー・ヴルトマン(R。
制率をアール・ジエー・ヴルトマン(R。
J、 WIIRTM^N)らの方法(Biochem、
Pharmacol、、■、1439 (1963)
)と同様にして測定した。結果は、次のとおりであっ
た。
Pharmacol、、■、1439 (1963)
)と同様にして測定した。結果は、次のとおりであっ
た。
1−(1−フェニルエチル)−2−メチルイミダゾール
: 投与量100■/kg、抑制率85%1− (1−
(2−メチルフェニル)−エチルツー2−メチルイミダ
ゾール:投与量30■/kg抑制率90% 1− (1−(2−メトキシフェニル)−2−エチルツ
ー2−メチルイミダゾール:投与量30mg/kf・
抑制率70% 1− (1−(2−エチルフェニル)−エチルツー2−
メチルイミダゾール:投与量30■/kg抑制率75%
: 投与量100■/kg、抑制率85%1− (1−
(2−メチルフェニル)−エチルツー2−メチルイミダ
ゾール:投与量30■/kg抑制率90% 1− (1−(2−メトキシフェニル)−2−エチルツ
ー2−メチルイミダゾール:投与量30mg/kf・
抑制率70% 1− (1−(2−エチルフェニル)−エチルツー2−
メチルイミダゾール:投与量30■/kg抑制率75%
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 〔式中Phは非置換フェニル基又は低級アルキル基若し
くは低級アルコキシ基で置換されたフェニル基を表し、
R8及びR2はそれぞれ低級アルキル基を表す〕の置換
イミダゾール又はその塩。 (2)Phが非置換フェニル基又は低級アルキル基、特
に炭素原子数4以下の低級アルキル基で1個以上、例え
ば2個置換されたフェニル基を表し、R1及びR2がそ
れぞれ低級アルキル基、特に炭素原子数4以下の低級ア
ルキル基である一般式(1)の化合物又はその塩である
特許請求の範囲第1項記載の化合物。 (3)phが低級アルコキシ基、特に炭素原子数4以下
の低級アルコキシ基、例えばメトキシ基で1個以上、例
えば2個置換されたフェニル基を表し、R1及びR2が
それぞれ低級アルキル基、特に炭素原子数4以下の低級
アルキル基、例えばメチル基である一般式(1)の化合
物又はその塩である特許請求の範囲第1項記載の化合物
。 (4)Phが非置換フェニル基又は2−位若しくは3−
位でそれぞれ炭素原子数4以下の低級アルキル基着しく
は低級アルコキシ基、例えばメチル基若しくはメトキシ
基で1個置換されたフェニル基又は2−位及び6−位で
炭素原子数4以下の低級アルキル基、例えばメチル基で
2個置換されたフェニル基を表し、R1及びR2がそれ
ぞれ炭素原子数4以下の低級アルキル基、例えばメチル
基を表す一般式(1)の化合物又はその塩である特許請
求の範囲第1項記載の化合物。 (5)Phが非置換フェニル基を表し、R1及びR2が
それぞれ炭素原子数4以下の低級アルキル基、例えばメ
チル基を表す一般式(1)の化合物又はその塩である特
許請求の範囲第1項記載の化合物。 (6)1− (1−フェニルエチル)−2−メチルイミ
ダゾール又はその塩である特許請求の範囲第1項記載の
化合物。 (7)l−(1−(2−メチルフェニル)−エチルツー
2−メチルイミダゾール又はその塩である特許請求の範
囲第1項記載の化合物。 (8)1− (1−(2−メトキシフェニル)−エチル
ツー2−メチルイミダゾール又はその塩である特許請求
の範囲第1項記載の化合物。 (9)1− (1−(p−メチルフェニル)−エチルツ
ー2−メチルイミダゾール、1− (1−(3−メチル
フェニル)−エチルツー2−メチルイミダゾール、i−
(1−<フェニル)−プロピル〕=2−メチルイミダゾ
ール、1− (1−(2−エチルフェニル)−エチルツ
ー2−メチルイミダゾール、1− (1−(2,6−シ
メチルフエニル)−エチルツー2−メチルイミダゾール
、1−〔1−(3−メトキシフェニル)−エチルツー2
−メチルイミダゾール、l−(1−(2,3−ジメトキ
シフェニル)−エチルツー2−メチルイミダゾール、1
− (1−(2,4,6−ドリメチルフエニル)−エチ
ルツー2−メチルイミダゾール、l−(1−(2,6−
ジメトキシフェニル)−エチルツー2−メチルイミダゾ
ール、1−(h、(2゜3−ジメチルフェニル)−エチ
ルツー2−メチルイミダゾール、1− (1(4−メト
キシフェニル)−エチルツー2−メチルイミダゾール又
はその塩である特許請求の範囲第1項記載の化合物。 (10)エナンチオマーの形である特許請求の範囲第1
項〜第9項のいずれか1項に記載の化合物。 (11)ヒト又は動物の身体の治療又は予防処置に使用
する特許請求の範囲第1項〜第10項のいずれか1項に
記載の化合物又はその医薬に許容しうる塩。 (12)抑うつ症状の治療に使用する特許請求の範囲第
1項〜第11項のいずれか1項に記載の化合物又はその
医薬に許容しうる塩。 (13)常用の医薬助剤及び賦形剤と一緒に、一般式(
■): 〔式中phは非置換フェニル基又は低級アルキル基若し
くは低級アルコキシ基で置換されたフェニル基を表し、
R+及びR2はそれぞれ低級アルキル基を表す〕の置換
イミダゾール又はその医薬に許容しうる塩を含む医薬製
剤。 (14)医薬製剤を製造するための一般式(I)の特許
請求の範囲第1項〜第12項のいずれか1項に記載の化
合物又はその医薬に許容しうる塩の用途。 (15)一般式(1): 〔式中phは非置換フェニル基又は低級アルキル基若し
くは低級アルコキシ基で置換されたフェニル基を表し、
R8及びR2はそれぞれ低級アルキル基を表す〕の置換
イミダゾール及びその塩を製造するため、 a)一般式(Ila): I Ph 8HX+ (Ila> 〔式中X1は反応性エステル化ヒドロキシ基を表す〕の
化合物を一般式(nb): 〔式中X2は水素又は金属基を表す〕の化合物と反応さ
せるか、又は b)一般式(■): 1 Ph −J H−Het (nl) 〔式中Hetは2−R2−イミダゾール−1−イル基に
変換しうる基を表す〕の化合物中のHetを2−R2−
イミダゾール−1−イル基に変えるか、又は C)一般式(■); 〔式中Aは−CH(R+ )−に変換しうる基を表し、
基R21はR2に変換しうる基又はR2を表すか、又は
Aは基−CH(R+ )−を表し、R21はR2に変換
しうる基を表す〕の化合物中のAを−CH(R+ )−
に変え、及び/又はR21をR2に変えるか、又は d)一般式(■): 〔式中A○はプロトン酸の陰イオンを表す〕の化合物を
還元して一般式(I)の対応する化合物にするか、又は e)一般式(■): )’h−古H−Xs (Vl) 〔式中X3ば閉環により2−R2−イミダゾール−1−
イル基に変換しうる基を表す〕の化合物を閉環させるか
、又は f)一般式(■a): の化合物を一般式(■b): R’ Xs (■b) C式中基x4及びXsの一方は反応性エステル化ヒドロ
キシ基を表し、他方は金属基を表し、Xsは基R2を表
し、Roは基R1を表ずか、又は基X5及びX6の一方
は反応性エステル化ヒドロキシ基を表し、他方は金属基
を表し、X4は基R1を表し、Roは基R2を表す〕と
反応させるか、又は g)Phが低級アルコキシ基で置換されたフェニルを表
す一般式(1)の化合物又はその塩を製造するため、一
般式(■):。 Rつ 〔式中ph“はphに変換しうる基を表す〕の化合物中
のPh’をPhに変え、 a)〜g)に挙げた出発原料は場合により塩の形であっ
てもよく、本発明方法により得られる一般式N)の化合
物を必要に応じて、一般式(1)の異なる化合物に変え
、及び/又は生じた塩を必要に応じて一般式(1)の遊
離化合物又は異なる塩に変え、及び/又は本発明方法に
より得られる一般式(1)の遊離化合物を必要に応じて
塩に変え、及び/又は生じた異性体混合物を必要に応じ
て個々の成分に分離することを特徴とする置換イミダゾ
ールの製造方法。 (16)特許請求の範囲第1項〜第12項のいずれか1
項に記載の化合物又はその医薬に許容しうる塩を、場合
により常用の助剤及び賦形剤と混合して処理して、医薬
製剤を形成することを特徴とする医薬製剤の製造方法。 (17)特許請求の範囲第15項記載の方法により得ら
れる化合物。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CH698883 | 1983-12-30 | ||
CH6988/83-0 | 1983-12-30 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60158176A true JPS60158176A (ja) | 1985-08-19 |
Family
ID=4318179
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59275046A Pending JPS60158176A (ja) | 1983-12-30 | 1984-12-28 | 置換イミダゾール及びその製造方法並びに該化合物を含む医薬製剤 |
Country Status (15)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0149976A3 (ja) |
JP (1) | JPS60158176A (ja) |
AU (1) | AU569135B2 (ja) |
CA (1) | CA1233828A (ja) |
DD (1) | DD228249A5 (ja) |
DK (1) | DK614384A (ja) |
ES (6) | ES8800166A1 (ja) |
FI (1) | FI845140L (ja) |
GR (1) | GR82625B (ja) |
HU (1) | HU193916B (ja) |
IL (1) | IL73955A (ja) |
NO (1) | NO845278L (ja) |
NZ (1) | NZ210722A (ja) |
PT (1) | PT79761B (ja) |
ZA (1) | ZA8410105B (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62103068A (ja) * | 1985-09-23 | 1987-05-13 | ヘキスト・アクチエンゲゼルシヤフト | アリ−ルメチルアゾ−ルおよびそれらの塩ならびにそれらの製法 |
JP2001294568A (ja) * | 2000-04-13 | 2001-10-23 | Central Glass Co Ltd | 光学活性α−メチル−ビス−3、5−(トリフルオロメチル)ベンジルアミンの製造方法 |
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DE3628545A1 (de) * | 1985-09-23 | 1987-04-23 | Hoechst Ag | Arylmethylazole und deren salze, verfahren zu ihrer herstellung, sie enthaltende mittel und ihre verwendung |
US4937250A (en) * | 1988-03-07 | 1990-06-26 | Ciba-Geigy Corporation | Alpha-heterocycle substituted tolunitriles |
US4978672A (en) * | 1986-03-07 | 1990-12-18 | Ciba-Geigy Corporation | Alpha-heterocyclc substituted tolunitriles |
US4749713A (en) * | 1986-03-07 | 1988-06-07 | Ciba-Geigy Corporation | Alpha-heterocycle substituted tolunitriles |
DE3707151A1 (de) * | 1987-03-06 | 1988-09-15 | Hoechst Ag | 1-(1-aryl-2-hydroxy-ethyl)-imidazole und deren salze, verfahren zu ihrer herstellung, diese verbindungen enthaltende arzneimittel und ihre verwendung |
DE3812483A1 (de) * | 1987-06-27 | 1989-01-05 | Bayer Ag | (azolyl-vinyl)-phenol-alkenylether |
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DE3931554A1 (de) * | 1989-09-22 | 1991-04-04 | Hoechst Ag | (+)-(2-hydroxy-2-adamantyl)-1-imidazolyl-3- tolyl-methan und dessen salze, verfahren zu dessen herstellung, diese verbindung enthaltende arzneimittel und dessen verwendung |
DE10032335A1 (de) * | 2000-07-04 | 2002-01-17 | Cognis Deutschland Gmbh | Dimethylbenzol-Derivate |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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