JPS60158167A - β−ラクタム化合物の製造法 - Google Patents
β−ラクタム化合物の製造法Info
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- JPS60158167A JPS60158167A JP59013923A JP1392384A JPS60158167A JP S60158167 A JPS60158167 A JP S60158167A JP 59013923 A JP59013923 A JP 59013923A JP 1392384 A JP1392384 A JP 1392384A JP S60158167 A JPS60158167 A JP S60158167A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はβ−ラクタム化合物の新規な製造法に関する。
さらに詳しくは、
５−Ｘ−８−オキソ−２−アザビシクロ（２，２，０）
ヘキサン類または５−ｘ２−８−オキソ−２−アザビシ
クロ（２，２，０）ヘキサ−５−エン類（Ｘ”はアシル
オキシまたはオキソを ｘ２はアシルオキシを意味する
。）を、５位に二重結合を有する場合にはこれを還元し
飽和せしめた後、塩基性加溶媒反応条件下で還元剤と処
理することにより４−（２−ヒドロキシエチル）アゼチ
ジン−２−オン類を製造する方法に関する。
ヘキサン類または５−ｘ２−８−オキソ−２−アザビシ
クロ（２，２，０）ヘキサ−５−エン類（Ｘ”はアシル
オキシまたはオキソを ｘ２はアシルオキシを意味する
。）を、５位に二重結合を有する場合にはこれを還元し
飽和せしめた後、塩基性加溶媒反応条件下で還元剤と処
理することにより４−（２−ヒドロキシエチル）アゼチ
ジン−２−オン類を製造する方法に関する。
５−Ｘ”−８−オキソ−２−アザビシクロ（２，２，０
）ヘキサン類または５−Ｘ２−８−オキソ−２−アザビ
シクロ（２，２，０，）ヘキサ−５−エン類としては、
例えは一般式〔式中、Ｒ１およびＲ２は同一であるかも
しくは異なって、水素原子または低級アルキル基を示し
Ｒ３は水素原子、低級アルキル基または低級アルケニ
ル基を示す。Ａはアシルオキシ基を、Ａ２およびＡ３は
水素原子を示すか、またはＡ１はアシルオキシ基を示し
、Ａ２およびＡ３ で結合を形成するか、またはＡ１お
よびＡ２はいっしょになってオキソ基を Ａ３は水素原
子を示す。〕 であられされる化合物を用いることができ、該化合物を
原料として本発明方法を実施すれば一般式［１１］ 〔式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は前記に同じである。〕 であられされる４−（２−ヒドロキシエチル）アゼチジ
ン−２−オン類を製造することができる。
）ヘキサン類または５−Ｘ２−８−オキソ−２−アザビ
シクロ（２，２，０，）ヘキサ−５−エン類としては、
例えは一般式〔式中、Ｒ１およびＲ２は同一であるかも
しくは異なって、水素原子または低級アルキル基を示し
Ｒ３は水素原子、低級アルキル基または低級アルケニ
ル基を示す。Ａはアシルオキシ基を、Ａ２およびＡ３は
水素原子を示すか、またはＡ１はアシルオキシ基を示し
、Ａ２およびＡ３ で結合を形成するか、またはＡ１お
よびＡ２はいっしょになってオキソ基を Ａ３は水素原
子を示す。〕 であられされる化合物を用いることができ、該化合物を
原料として本発明方法を実施すれば一般式［１１］ 〔式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は前記に同じである。〕 であられされる４−（２−ヒドロキシエチル）アゼチジ
ン−２−オン類を製造することができる。
ここで、低級アルキル基としては、例えば、メチル、エ
チル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル等の炭
素数１〜４のアルキル基をあげることができる。低級ア
ルケニル基としては、例えばプロペン−８−イル、２−
テ メチルプ口ペン−３−イル、１−ブチン−８チ ーイル、２−ブギンー４−イルなどの炭素数１〜４のア
ルケニル基をあげることができる。
チル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル等の炭
素数１〜４のアルキル基をあげることができる。低級ア
ルケニル基としては、例えばプロペン−８−イル、２−
テ メチルプ口ペン−３−イル、１−ブチン−８チ ーイル、２−ブギンー４−イルなどの炭素数１〜４のア
ルケニル基をあげることができる。
またアシルオキシ基としては、例えば低級アルカノイル
オキシ基、アロイルオキシ基をあげろことができる。さ
らに、低級アルカノイルオキシ基のアルキル部分として
は上述の低級アルキル基と同様の例を、アロイルオキシ
基におけるアリール基としては、例えばフェニル基など
をあげることができる。
オキシ基、アロイルオキシ基をあげろことができる。さ
らに、低級アルカノイルオキシ基のアルキル部分として
は上述の低級アルキル基と同様の例を、アロイルオキシ
基におけるアリール基としては、例えばフェニル基など
をあげることができる。
チェナマイシンを始めとするカルバペネム系抗生物質は
、その構造上の特異性と強い抗菌作用から、多くの研究
者の合成目標となっできた。本発明方法によって得られ
る４−（２−ヒドロキシエチル）アゼチジン−２−オン
類は、そのようなカルバペネム系化合物およびその類縁
体の製造中間体として重要な化合物である。
、その構造上の特異性と強い抗菌作用から、多くの研究
者の合成目標となっできた。本発明方法によって得られ
る４−（２−ヒドロキシエチル）アゼチジン−２−オン
類は、そのようなカルバペネム系化合物およびその類縁
体の製造中間体として重要な化合物である。
４−（２−ヒドロキシエチル）アゼチジン−２−オン類
の製造法としては、例えば１−アセトキシブタジェンと
クロロスルホニルイソシアネートを付加重合させた後、
還元的にクロロスルホニル基を除去してアセトキシビニ
ルアゼチジノンを得、しかる後に水素添加、脱アセチル
化して４−（２−ヒドロキシエチル）アゼチジン−２−
オンを製造する方法が公知である。（Ｄ 、 Ｂ 、
Ｒ、Ｊｏｈｎｓｔｏｎ ｅｔ ａｌ、、 Ｊ。
の製造法としては、例えば１−アセトキシブタジェンと
クロロスルホニルイソシアネートを付加重合させた後、
還元的にクロロスルホニル基を除去してアセトキシビニ
ルアゼチジノンを得、しかる後に水素添加、脱アセチル
化して４−（２−ヒドロキシエチル）アゼチジン−２−
オンを製造する方法が公知である。（Ｄ 、 Ｂ 、
Ｒ、Ｊｏｈｎｓｔｏｎ ｅｔ ａｌ、、 Ｊ。
Ａｍ、Ｃｈｅｍ、 Ｓｏｃ、、 １００．８１８（１９
７８） ； Ｆ。
７８） ； Ｆ。
Ａ、 Ｂｏｕｆｆａｒｄ ｅｔ ａｌ、、 Ｊ、 Ｏｒ
ｇ、 Ｃｈｅｍ、、 ４５１１８０（１９８０）） かかる状況下に、本発明者らは、前述の本発明方法によ
り４−（２−ヒドロキシエチル）アゼチジン−２−オン
類が簡便かつ高収率で得られることを見出し本発明を完
成した。
ｇ、 Ｃｈｅｍ、、 ４５１１８０（１９８０）） かかる状況下に、本発明者らは、前述の本発明方法によ
り４−（２−ヒドロキシエチル）アゼチジン−２−オン
類が簡便かつ高収率で得られることを見出し本発明を完
成した。
以下に本発明方法をさらに詳細に、前記一般式［１３で
示される化合物から、前記一般式ｌ１１）で示される化
合物を製造する場合を例にとって説明する。
示される化合物から、前記一般式ｌ１１）で示される化
合物を製造する場合を例にとって説明する。
前記一般式［Ｉ］であられされる化合物を、塩基性加溶
媒分解の条件下、還元剤と処理することによって前記一
般式［１１］で示される化合物に導かれる、 この反応に用いられる還元剤としては水素化ホウ素ナト
リウム、水素化ホウ素リチウム、水素化ポウ素カルシウ
ム等があげられるが、水素化ホウ素ナトリウムを用いる
のが簡便である。塩基としては炭酸ナトリウム、炭酸カ
リウム、水酸化ナトリウム、等の無機アルカリ、トリエ
チルアミン、Ｎ−メチルモルホリン等の有機アミンが用
いられる。
媒分解の条件下、還元剤と処理することによって前記一
般式［１１］で示される化合物に導かれる、 この反応に用いられる還元剤としては水素化ホウ素ナト
リウム、水素化ホウ素リチウム、水素化ポウ素カルシウ
ム等があげられるが、水素化ホウ素ナトリウムを用いる
のが簡便である。塩基としては炭酸ナトリウム、炭酸カ
リウム、水酸化ナトリウム、等の無機アルカリ、トリエ
チルアミン、Ｎ−メチルモルホリン等の有機アミンが用
いられる。
本反応は一般に溶媒中で行オ〕れ、溶媒としては例えば
メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等の
アルコール溶媒が適当である。反応は、通常、水冷下乃
至室温の範囲で充分進行し、数時間程度で終了する。
メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等の
アルコール溶媒が適当である。反応は、通常、水冷下乃
至室温の範囲で充分進行し、数時間程度で終了する。
一般式ｆＩｌで示される原料化合物において、Ａ２およ
びＡ３で示される基が結合を意味する場合には、上述の
反応に先立ってまずこの化合物、すなわち一般式ＣＩａ
） ｌｌ １ 〔式中、Ｒ”、 Ｒ２およびＲ３は前記と同じである。
びＡ３で示される基が結合を意味する場合には、上述の
反応に先立ってまずこの化合物、すなわち一般式ＣＩａ
） ｌｌ １ 〔式中、Ｒ”、 Ｒ２およびＲ３は前記と同じである。
−）Ａ はアシルオキシ基を示す。〕であられされる化
合物を接触水素添加による還元反応に付することにより
一般式（Ｉｂ）１ 〔式中、Ｒ１，Ｒ２およびＲｉｔ は前記と同じである
。Ｒ３１は水素原子または低級アルキル基を示す。〕 であられされる化合物とし、次いで前述の塩基性加溶媒
条件下での還元剤による処理を行う方法を実施すること
もできる。
合物を接触水素添加による還元反応に付することにより
一般式（Ｉｂ）１ 〔式中、Ｒ１，Ｒ２およびＲｉｔ は前記と同じである
。Ｒ３１は水素原子または低級アルキル基を示す。〕 であられされる化合物とし、次いで前述の塩基性加溶媒
条件下での還元剤による処理を行う方法を実施すること
もできる。
接触水素添加反応は一般に溶媒中の存在下に行われるが
、この様な触媒としては酸化白金、白金付活性炭、パラ
ジウム付活性炭、ラネーニッケル等があげられるが、パ
ラジウム付活性炭が簡便である。反応に用いられる溶媒
は特に限定されるものではないが、メタツル、エタノー
ル等のアルコール系溶媒が用いられ、反応は常温常圧に
て進行する。
、この様な触媒としては酸化白金、白金付活性炭、パラ
ジウム付活性炭、ラネーニッケル等があげられるが、パ
ラジウム付活性炭が簡便である。反応に用いられる溶媒
は特に限定されるものではないが、メタツル、エタノー
ル等のアルコール系溶媒が用いられ、反応は常温常圧に
て進行する。
なお、接触水素添加反応では Ｒ３で示される基が低級
アルケニル基である場合には、この低級アルケニル基の
二重結合も同時に飽和される。
アルケニル基である場合には、この低級アルケニル基の
二重結合も同時に飽和される。
以上のようにして本発明方法を実施することができるが
、上述の方法において、前記一般式［Ｉａ）であられさ
れる化合物を、接触水素添加することなく直接塩基性条
件下での還元剤による処理に付する場合には、まず加溶
媒分解反応を行い、次いで還元剤による処理を実施して
もよい。この場合には、加溶媒分解反応での生成物であ
る一般式（Ｉｃ１１ 〔式中、Ｒ１，Ｒ２およびＲ３は前記と同じである。〕 であられされる化合物を単離し、この化合物を還元剤で
処理してもよい。
、上述の方法において、前記一般式［Ｉａ）であられさ
れる化合物を、接触水素添加することなく直接塩基性条
件下での還元剤による処理に付する場合には、まず加溶
媒分解反応を行い、次いで還元剤による処理を実施して
もよい。この場合には、加溶媒分解反応での生成物であ
る一般式（Ｉｃ１１ 〔式中、Ｒ１，Ｒ２およびＲ３は前記と同じである。〕 であられされる化合物を単離し、この化合物を還元剤で
処理してもよい。
加溶媒分解反応に使用される塩基、還元剤による処理に
用いられる還元剤、およびこれらの反応における反応溶
媒、反応条件は、再反応を同時に実施する場合と同様で
ある。
用いられる還元剤、およびこれらの反応における反応溶
媒、反応条件は、再反応を同時に実施する場合と同様で
ある。
このようにして得られる本発明目的化合物は、公知の方
法（例えば前述のＪｏｈｎｓｔｏｎらの方法あるいはＢ
ｏｕｆｆａｒｄらの方法）またはそれに準じた方法に従
ってカルバペネム系抗生物質またはその類縁体へ導くこ
とができる。
法（例えば前述のＪｏｈｎｓｔｏｎらの方法あるいはＢ
ｏｕｆｆａｒｄらの方法）またはそれに準じた方法に従
ってカルバペネム系抗生物質またはその類縁体へ導くこ
とができる。
本発明方法の原料化合物である５−Ｘ”−８−オキソ−
２−アザビシクロＬ２，２，０．）ヘキサン類および５
−Ｘ２−８−オキソ−２−アザビシクロ［２，２，０）
へキサ−５−エン類は、公知であるかまたは公知の方法
に準じて容易に製造することができる。（Ｃｈｉｋａｒ
ａＫａｎｅｋｏ ｅｔ ａｌ、、 Ｃｈｅｍ、 Ｃｏｒ
ｒａｎ、 、 １９８０ 、１１７７）以下に実施例を
示し、本発明方法をさらに具体的に説明する。
２−アザビシクロＬ２，２，０．）ヘキサン類および５
−Ｘ２−８−オキソ−２−アザビシクロ［２，２，０）
へキサ−５−エン類は、公知であるかまたは公知の方法
に準じて容易に製造することができる。（Ｃｈｉｋａｒ
ａＫａｎｅｋｏ ｅｔ ａｌ、、 Ｃｈｅｍ、 Ｃｏｒ
ｒａｎ、 、 １９８０ 、１１７７）以下に実施例を
示し、本発明方法をさらに具体的に説明する。
〔参考例１〕
５−アセトキシ−８−オキソ−２−アザビシクロ［２，
２，０）ヘキサ−５−エン４−アセトキシ−２−ピリド
ン（１５８，５〜）をアセトニトリル（８７，５−ｇ）
とエーテル（１Ｂ２．５．０ の混合溶媒に溶解し、ア
ルゴン気流下、４５０Ｗ高圧水銀燈パイレツクス容器中
１時間光照射した。溶媒を留去し掲題化合物（１４７，
５岬、収率９８．１％）を得た。
２，０）ヘキサ−５−エン４−アセトキシ−２−ピリド
ン（１５８，５〜）をアセトニトリル（８７，５−ｇ）
とエーテル（１Ｂ２．５．０ の混合溶媒に溶解し、ア
ルゴン気流下、４５０Ｗ高圧水銀燈パイレツクス容器中
１時間光照射した。溶媒を留去し掲題化合物（１４７，
５岬、収率９８．１％）を得た。
融点 １０３−１０５℃（ジクロロメタン−エーテル）
無色プリズム晶。
無色プリズム晶。
Ｎ Ｍ Ｒ（ＣＤＣ１３）δ（Ｐ、Ｐ、ｍ、） ： ２
．１５（８，３Ｈ）、４．３１（ｇ、２Ｈ）、５．６９
（８，ＩＨ）。
．１５（８，３Ｈ）、４．３１（ｇ、２Ｈ）、５．６９
（８，ＩＨ）。
６．４７（ｂｌ、ＩＨ）
〔参考例２〕
５−アセトキシ−１，２−ジメチル−３−オキソ−２−
アザビシクロ（２，２，０）ヘキサ−５−エン ４−アセトキシ−１，６−ジメテルー２−ピリドン（３
１３，８’Ｆ）をエーテル（３４０ｒｎｌ）に溶解し、
アルゴン気流下、４５０Ｗ高圧水銀燈パイレツクス容器
中１５時間照射した。
アザビシクロ（２，２，０）ヘキサ−５−エン ４−アセトキシ−１，６−ジメテルー２−ピリドン（３
１３，８’Ｆ）をエーテル（３４０ｒｎｌ）に溶解し、
アルゴン気流下、４５０Ｗ高圧水銀燈パイレツクス容器
中１５時間照射した。
溶媒を留去し残渣をジクロロメタン−メタノール（９９
／１ ）を溶出液とするシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーにより精製して掲題化合物（２５６，４岬、収率
８１．７チ）を得た。
／１ ）を溶出液とするシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーにより精製して掲題化合物（２５６，４岬、収率
８１．７チ）を得た。
融点 ６５．５−６６．５℃（ヘキサン−エーテル）無
色プリズム晶。
色プリズム晶。
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２）δ（Ｐ、Ｐ、ｍ、） ： １．６
０（１，３Ｈ）。
０（１，３Ｈ）。
２．１３（ｓ、３Ｈ）＃２．７０（８，３Ｈ）、４．０
０（１）８．ＩＨ）、５．７４（ｄ、Ｊ＝１．０Ｈｚ、
ＩＨ）〔参考例３〕 ５−アセトキシ−３−オキソ−６−（２’−プロペニル
シン−２−アザビシクロ［２，２゜０］ヘキサ−５−エ
ン ４−アセトキシー３− （２’−プロペニル）−２−ピ
リドン（２００，５１９）をアセトニトリル（３７，５
ｍ／）とエーテル（１３２，５ｍ／）の混合溶媒に溶解
し、アルゴン気流下、４５０Ｗ高圧水銀燈パイレツクス
容器中１．５時間照射した。溶媒を留去し掲題化合物（
１７６”ｆ） を得た。
０（１）８．ＩＨ）、５．７４（ｄ、Ｊ＝１．０Ｈｚ、
ＩＨ）〔参考例３〕 ５−アセトキシ−３−オキソ−６−（２’−プロペニル
シン−２−アザビシクロ［２，２゜０］ヘキサ−５−エ
ン ４−アセトキシー３− （２’−プロペニル）−２−ピ
リドン（２００，５１９）をアセトニトリル（３７，５
ｍ／）とエーテル（１３２，５ｍ／）の混合溶媒に溶解
し、アルゴン気流下、４５０Ｗ高圧水銀燈パイレツクス
容器中１．５時間照射した。溶媒を留去し掲題化合物（
１７６”ｆ） を得た。
融点 ９２．５〜９３．５℃
〔実施例１〕
（１）５−アセトキシ−３−オキソ−２−アザビシクロ
（２，２，０）ヘキサン 参考例１で得られた５−アセトキシ−３−オキソ−２−
７ザビシクロ（２，２，０）ヘキサ−５−エン（４９，
６ａＦ）をメタノール（３−）に溶解し、１０チパラジ
ウム付活性炭（８〜）を添加後、水素雰囲気下、攪拌し
ながら常温常圧にて１時間反応した。
（２，２，０）ヘキサン 参考例１で得られた５−アセトキシ−３−オキソ−２−
７ザビシクロ（２，２，０）ヘキサ−５−エン（４９，
６ａＦ）をメタノール（３−）に溶解し、１０チパラジ
ウム付活性炭（８〜）を添加後、水素雰囲気下、攪拌し
ながら常温常圧にて１時間反応した。
反応液を沖過後溶媒を留去し、残渣をジクロロメタン−
メタノール（９８／２）ｌ！出液とするシリカゲルクロ
マトグラフィーにより精製して掲題化合物（５０，３”
Ｗ）を得た。
メタノール（９８／２）ｌ！出液とするシリカゲルクロ
マトグラフィーにより精製して掲題化合物（５０，３”
Ｗ）を得た。
融点 ６１−３℃（ヘキサン−エーテル）、無色プリズ
ム晶。
ム晶。
ＮＭＲ（ｃＤｃｌ 、 ）δ（Ｐ、Ｐ、ｍ、） ： ２
．０３（Ｓ。
．０３（Ｓ。
３Ｈ）、２．１６（ｄｄｄ、Ｊ−４，８，１，０゜１３
．５Ｈｚ 、 ＩＨ） 、 ２．７９ （ｄｄｄ 、Ｊ
−８，８。
．５Ｈｚ 、 ＩＨ） 、 ２．７９ （ｄｄｄ 、Ｊ
−８，８。
４．５，１３．５Ｈｚ、ＩＨ）、３．７８（ｄｄｄ。
Ｊ−２，５，４，５，１，ＯＨ！、ＩＨ）、４．０１（
ｄｌ、Ｊ”−”７９５，２．５Ｈ２，ＩＨ）、５．１３
（ｄｄｄ、Ｊ−７，５，８，８，４，８Ｈ１，ＩＨ）。
ｄｌ、Ｊ”−”７９５，２．５Ｈ２，ＩＨ）、５．１３
（ｄｄｄ、Ｊ−７，５，８，８，４，８Ｈ１，ＩＨ）。
８．８１（ｂｌ、ＩＨ）
元素分析
計算値（Ｃ，Ｈ，ＮＯ３）
ＣＨＮ（チ）
５４．１９ ５，８５ ９．０３
実測値
５４．３１ ５．８３ ８．９６
〔実施例２〕
５−アセトキシ−１，２−ジメチル−３−オキソ−２−
アザビシクロ［２，２，０）ヘキサン 参考例２で得られた５−アセトキシ−１゜２−ジメチル
−３−オキソ−２−アザビシクロ（２，２，０）ヘキサ
−５−エン（１７７，２１１Ｐ）をメタノール（１０，
５ｄ）に溶解し、１０％パラジウム付活性炭（２８”Ｗ
）を添加後、実施例１と同様に処理し掲題化合物（１５
５，８■、収率８７．０チ）を得た。融点７０．５−７
１．５℃（ヘキサン−エーテル）、無色プリズム晶。
アザビシクロ［２，２，０）ヘキサン 参考例２で得られた５−アセトキシ−１゜２−ジメチル
−３−オキソ−２−アザビシクロ（２，２，０）ヘキサ
−５−エン（１７７，２１１Ｐ）をメタノール（１０，
５ｄ）に溶解し、１０％パラジウム付活性炭（２８”Ｗ
）を添加後、実施例１と同様に処理し掲題化合物（１５
５，８■、収率８７．０チ）を得た。融点７０．５−７
１．５℃（ヘキサン−エーテル）、無色プリズム晶。
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２）δ（Ｐ、Ｐ、ｍ、） ： １．４
７（１，３８）。
７（１，３８）。
２．００（Ｓ、３Ｈ）、２．１０（ｄｄ、Ｊ−５，２゜
１３．５Ｈ２，ＩＨ）、２．４３（ｄｄ、Ｊ−８，０゜
１３．５Ｈ２、ＩＨ） 、２．７３（１，３Ｈ） 、３
．６８（ｄ、Ｊ−８，ＯＨ２＃ＩＨ）、５．１５（ｔｄ
ｔＪ”−’８．０，５．２Ｈｚ、ＩＨ） 〔実施例３〕 ４−（２−ヒドロキシエチル）アゼチジン−２−オン 実施例１で得られた５−アセトキシ−３−オキソ−２−
アザビシクロ（２，２，０）ヘキサン（２８，６■）を
メタノール（５−）に溶解し、水素化ホウ素ナトリウム
（６９，８”り炭酸カリウム（５０Ｗ９）を加えて室温
にて１時間攪拌した。反応液にアセトン（０，５ｍ１）
を加え、次に１０％酢酸メタノールを加えて中和した
後、濃縮し掲題化合物を得た。このものを無水酢酸（２
ｄ）、ピリジン（１−）に溶解し、室温にて４６時間攪
拌した。反応液を減圧濃縮し、水を加え、ジクロロメチ
レンにて抽出し、４−（’２−アセトキシエチル）アゼ
チジン−２−オン（２１，７”９、収率７４．９％）と
して単離した。
１３．５Ｈ２，ＩＨ）、２．４３（ｄｄ、Ｊ−８，０゜
１３．５Ｈ２、ＩＨ） 、２．７３（１，３Ｈ） 、３
．６８（ｄ、Ｊ−８，ＯＨ２＃ＩＨ）、５．１５（ｔｄ
ｔＪ”−’８．０，５．２Ｈｚ、ＩＨ） 〔実施例３〕 ４−（２−ヒドロキシエチル）アゼチジン−２−オン 実施例１で得られた５−アセトキシ−３−オキソ−２−
アザビシクロ（２，２，０）ヘキサン（２８，６■）を
メタノール（５−）に溶解し、水素化ホウ素ナトリウム
（６９，８”り炭酸カリウム（５０Ｗ９）を加えて室温
にて１時間攪拌した。反応液にアセトン（０，５ｍ１）
を加え、次に１０％酢酸メタノールを加えて中和した
後、濃縮し掲題化合物を得た。このものを無水酢酸（２
ｄ）、ピリジン（１−）に溶解し、室温にて４６時間攪
拌した。反応液を減圧濃縮し、水を加え、ジクロロメチ
レンにて抽出し、４−（’２−アセトキシエチル）アゼ
チジン−２−オン（２１，７”９、収率７４．９％）と
して単離した。
融点 ４４−４７℃（エーテル）
ＮＭＲ（ＣＤＣ１３）δ（Ｐ−Ｐ−ｍ−）： １．９８
（ｍ。
（ｍ。
２Ｈ）、２．ｏ：（ｓ、３）Ｉ）、２．６ｊ（ｄｄｄ、
Ｊ−１３，２，３，１，０Ｈｚ、ＩＨ）、３．１３（ｄ
ｄｄ。
Ｊ−１３，２，３，１，０Ｈｚ、ＩＨ）、３．１３（ｄ
ｄｄ。
Ｊ−１３，４，５，１，９Ｈｚ、ＩＨ）、３．７１（ｍ
。
。
ＩＨ）、４．１８（ｍ、２Ｈ）、６．５ａ（ｂｓ、ＩＨ
）ＩＲ（ＣＨＣ１３）ａｍ ” ： １７６７ ．１７
４２本品は融点、スペクトルデータが文献記載のそれと
完全に一致した。
）ＩＲ（ＣＨＣ１３）ａｍ ” ： １７６７ ．１７
４２本品は融点、スペクトルデータが文献記載のそれと
完全に一致した。
〔実施例４〕
１．４−ジメチル−４−（２−ヒドロキシエチル）アゼ
チジン−２−オン 実施例２で得られた５−アセトキシ−１゜２−ジメチル
−３−オキソ−２−アザビシクロ（２，２，０）ヘキサ
ン（４９，８”Ｐ）をメタノール（７ｍｊ）に溶解し、
水素化ホウ素ナトリウム（１０２，９■）、炭酸カリウ
ム（７０■）を加えて室温にて１時間攪拌した。反応液
を実施例３と同様に処理し掲題化合物を得た。
チジン−２−オン 実施例２で得られた５−アセトキシ−１゜２−ジメチル
−３−オキソ−２−アザビシクロ（２，２，０）ヘキサ
ン（４９，８”Ｐ）をメタノール（７ｍｊ）に溶解し、
水素化ホウ素ナトリウム（１０２，９■）、炭酸カリウ
ム（７０■）を加えて室温にて１時間攪拌した。反応液
を実施例３と同様に処理し掲題化合物を得た。
このものを無水酢酸（２−）、ピリジン（１−）に溶解
し、２４時間攪拌した後、実施例３と同様に処理し、１
，４−ジメチル−４−（２−アセトキシエテル）アゼチ
ジン−２−オン（４８”９、収率９５．３チ）として単
離した。油状物 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２）δ（Ｐ、Ｐ、ｍ、） ： １．３
７（８，３Ｈ）。
し、２４時間攪拌した後、実施例３と同様に処理し、１
，４−ジメチル−４−（２−アセトキシエテル）アゼチ
ジン−２−オン（４８”９、収率９５．３チ）として単
離した。油状物 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２）δ（Ｐ、Ｐ、ｍ、） ： １．３
７（８，３Ｈ）。
１．９６（ｔ、Ｊｍ６．５Ｈｚ、２Ｈ）、２．００（Ｓ
。
。
３Ｈ） 、２．６０（ｄ、Ｊ−１４，５Ｈ２，３Ｈ）
。
。
２．６８（８，３Ｈ） 、２．９０（ｄ、Ｊ−１４，５
ＨＸ 。
ＨＸ 。
ＩＨ）、４．０９（ｔ、Ｊ−（１，５Ｈｚ、２Ｈ）高分
解能質量分析における分子イオン（ｍ／り計算値 １８５、１０５０ 実測値 １８５．１０４９ 〔実施例５〕 ５−アセトキシ−３−オキソ−６−ブロビルー２−アザ
ビシクロ（２，２，０）へキサン 参考例３で得られた５−アセトキシ−３−オキソ−６−
（２’−プロペニル）−２−アザビシクロ（２，２，０
）ヘキサ−５−エン（１３４，６キ）をメタノール（８
−）に溶解し、１０チパラジウム付活性炭（２０”Ｐ）
を添加後、実施例１と同様に処理した。生成物をジクロ
ロメタン−メタノール（９８／２）Ｆ溶出液とするシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーにより精製して掲題化
合物（１２０，８１１９、収率８７．７ ％ ）を得た
。油状物 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２）δ（Ｐ、Ｐ、ｍ、） ： ０．７
５〜１．１（ｍ、３Ｈ） 、１．１〜２．０（ｍ、４Ｂ
） 、２．０２（ｄｄｄ、Ｊ−１４，５，４，０，１、
ＱＨｚ 、ＩＨ） 。
解能質量分析における分子イオン（ｍ／り計算値 １８５、１０５０ 実測値 １８５．１０４９ 〔実施例５〕 ５−アセトキシ−３−オキソ−６−ブロビルー２−アザ
ビシクロ（２，２，０）へキサン 参考例３で得られた５−アセトキシ−３−オキソ−６−
（２’−プロペニル）−２−アザビシクロ（２，２，０
）ヘキサ−５−エン（１３４，６キ）をメタノール（８
−）に溶解し、１０チパラジウム付活性炭（２０”Ｐ）
を添加後、実施例１と同様に処理した。生成物をジクロ
ロメタン−メタノール（９８／２）Ｆ溶出液とするシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーにより精製して掲題化
合物（１２０，８１１９、収率８７．７ ％ ）を得た
。油状物 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２）δ（Ｐ、Ｐ、ｍ、） ： ０．７
５〜１．１（ｍ、３Ｈ） 、１．１〜２．０（ｍ、４Ｂ
） 、２．０２（ｄｄｄ、Ｊ−１４，５，４，０，１、
ＱＨｚ 、ＩＨ） 。
２．０３（ｇ 、３Ｈ） 、２．７０（ｄｄｄ、Ｊ−１
４，５。
４，５。
８．５，４．２Ｈ１，ＩＨ）、３．６４（ｄ、Ｊ−４，
２Ｈ２，ＩＨ）、４．９５（ｄｄ、Ｊ−８，５，４，Ｏ
Ｈ２゜ＩＨ）、６．８２（ｂｓ、ＩＨ） 〔実施例６〕 ４−（２−ヒドロキシエチル）−３−プロピル−アゼチ
アン−２−オン 実施例５で得られた５−アセトキシ−３−オキソー６−
プロビル−２−アザビシクロ〔２，２，０〕ヘキサン（
２３，６”Ｐ）をメタノール（４ｍ７）ｊζ溶解し、水
素化ホウ素ナトリウム（４５１１Ｐ）、炭酸カリウム（
４０１１９）を加えて攪拌した。反応液は実施例３と同
様に処理し掲題化合物を得た。このものを無水酢酸（２
−）、ピリジン（１−）に溶解し、４−（２−ア士トキ
シエチル）−３−プロピルーアゼテヂンー２−オン（２
７，６”Ｐ）を得た。
２Ｈ２，ＩＨ）、４．９５（ｄｄ、Ｊ−８，５，４，Ｏ
Ｈ２゜ＩＨ）、６．８２（ｂｓ、ＩＨ） 〔実施例６〕 ４−（２−ヒドロキシエチル）−３−プロピル−アゼチ
アン−２−オン 実施例５で得られた５−アセトキシ−３−オキソー６−
プロビル−２−アザビシクロ〔２，２，０〕ヘキサン（
２３，６”Ｐ）をメタノール（４ｍ７）ｊζ溶解し、水
素化ホウ素ナトリウム（４５１１Ｐ）、炭酸カリウム（
４０１１９）を加えて攪拌した。反応液は実施例３と同
様に処理し掲題化合物を得た。このものを無水酢酸（２
−）、ピリジン（１−）に溶解し、４−（２−ア士トキ
シエチル）−３−プロピルーアゼテヂンー２−オン（２
７，６”Ｐ）を得た。
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２）δ（Ｐ、Ｐ、ｍ、） ： ０．９
５（ｔ、Ｊｍ６．７Ｈ１，３Ｈ）、１．２５〜２．１０
（ｍ、６Ｈ）。
５（ｔ、Ｊｍ６．７Ｈ１，３Ｈ）、１．２５〜２．１０
（ｍ、６Ｈ）。
２．０７（ｍ 、３Ｈ） 、２．０７〜２．９５（ｍ、
ＩＨ）。
ＩＨ）。
３．３８（ｄｄｄ、Ｊ−２，５，６，０，６，８Ｈ２゜
ＩＨ）、３．９５〜４．４（ｍ、２Ｈ）、６．４１（ｂ
ｓ。
ＩＨ）、３．９５〜４．４（ｍ、２Ｈ）、６．４１（ｂ
ｓ。
ＩＨ）
手続補正書（自発）
昭和５９年５ 月２２日
１、事件の表示
昭和５９年 特許願第 １８９２８ 号２、発明の名称
β−ラクタム化合物の製造法
３、補正をする者
事件との関係 特許出願人
５、補正の対象
明細書の１発明の詳細な説明」の欄
６、補正の内容
（１）明細書第１８頁第１４行と第１５行の間に次のと
おり加入する。
おり加入する。
［〔参考例４〕
５−アセトキシ−３−オキソ−６−メチル−２−アザビ
シクロ（２，２，０’）ヘキサ−５−エン ４−アセトキシ−５−メチル−２−ピリドン（１１４，
９〜）を１７０ Ｍｅのアヤトニトリルーエーテル（４
：ｌ）混合溶媒に溶解し、アルゴン気流下、４５０Ｗ高
圧水銀燈パイレックス容器中２時間４５分照射した。溶
媒を留去ｔ、残ｉをジクロロメタン−メタノール（９８
／２）を溶出液とするシリカケルクロマトクラフィーに
より精製して掲題化合物（６９，６〜）を無色プリズム
晶として得た。
シクロ（２，２，０’）ヘキサ−５−エン ４−アセトキシ−５−メチル−２−ピリドン（１１４，
９〜）を１７０ Ｍｅのアヤトニトリルーエーテル（４
：ｌ）混合溶媒に溶解し、アルゴン気流下、４５０Ｗ高
圧水銀燈パイレックス容器中２時間４５分照射した。溶
媒を留去ｔ、残ｉをジクロロメタン−メタノール（９８
／２）を溶出液とするシリカケルクロマトクラフィーに
より精製して掲題化合物（６９，６〜）を無色プリズム
晶として得た。
融点 ９０．５〜９１．５℃（エーチルンＮ Ｍ Ｒ（
Ｃ１）Ｃｄａ ）δ（ｐ、ｐ、ｍ、 ） ： １．７８
（ｄ、Ｊ＝１．７Ｈｚ、８Ｈ）、２．１５（ｓ 、８
Ｈ）、４．１０（ｄ、Ｊ＝２．５Ｈｚ、ＩＨ）、４．８
８（ｍ、ＩＨ）。
Ｃ１）Ｃｄａ ）δ（ｐ、ｐ、ｍ、 ） ： １．７８
（ｄ、Ｊ＝１．７Ｈｚ、８Ｈ）、２．１５（ｓ 、８
Ｈ）、４．１０（ｄ、Ｊ＝２．５Ｈｚ、ＩＨ）、４．８
８（ｍ、ＩＨ）。
６．４０（ｂｓ、ｌＨ）
高分解［１紅分析における分子イオン（ｍ ／ Ｚ ）
計算値 １６７．０５８１ 実測値 入する。
計算値 １６７．０５８１ 実測値 入する。
［〔実施例７〕
５−ア七トキシー３−オキソ−６−メチル−２−アサビ
シクロ（２，２，０）ヘキサン参考例４で得られたら一
アセトキシー８−オキソー６−メチル−２−アサビシク
ロ〔２゜２．０〕ヘキサ−５−エン（５８，８〜）をメ
タノール（８−）に溶解し、１０％パラジウム付活性炭
（８Ｉｌｖ、、）を添加後、水素気流下で （ｌ気圧〕室温に蕃４時間攪拌した。反応液を濾過後溶
媒を角去し、掲題化合物（５９，０■）を得た。これを
ジクロロメタン−エーテルにて再結晶し無色プリズム晶
（８８，０〜）を得た。
シクロ（２，２，０）ヘキサン参考例４で得られたら一
アセトキシー８−オキソー６−メチル−２−アサビシク
ロ〔２゜２．０〕ヘキサ−５−エン（５８，８〜）をメ
タノール（８−）に溶解し、１０％パラジウム付活性炭
（８Ｉｌｖ、、）を添加後、水素気流下で （ｌ気圧〕室温に蕃４時間攪拌した。反応液を濾過後溶
媒を角去し、掲題化合物（５９，０■）を得た。これを
ジクロロメタン−エーテルにて再結晶し無色プリズム晶
（８８，０〜）を得た。
融点 １２０．５〜１２２℃
ＮＭＲ（ＣＤＣＡ’５）Ｊ（ｐ−ｐ、ｍ、）：１．０７
（ｄ 、Ｊ＝７．０Ｈｚ 、８Ｈ）、２．０５（ｓ。
（ｄ 、Ｊ＝７．０Ｈｚ 、８Ｈ）、２．０５（ｓ。
８Ｈ）、２．６５−８．１６（ｍ、ＩＨ）、８．８２（
ｄｄｄ、Ｊ＝４．７，２．７．１．５Ｈｚ、ＩＨ）。
ｄｄｄ、Ｊ＝４．７，２．７．１．５Ｈｚ、ＩＨ）。
８．９８（ｔｄ、Ｊ−８，８，２，７Ｈｚ、ＩＨ）。
５．２２（ｄｄｄ、Ｊ＝８．８，７．５，１．５Ｈｚ。
ＩＨ）、６．５０（ｂｓ 、ＩＨ）
〔実施例８〕
ｌ−メチル！換カルバペネム系抗生物質の製造中間体と
なる４−（ｌ−メチル−２−ヒドロキシエチル）アゼチ
ジン−２−オンを以下のようにして合成した。
なる４−（ｌ−メチル−２−ヒドロキシエチル）アゼチ
ジン−２−オンを以下のようにして合成した。
実施例７で得られｔこ５−アセトキン−８−オキソ−６
−メチル−２−アザ上シクロＣ２，２，０〕ヘキサン（
８０，０岬）をメタノール（６ＴＲｅ ）に溶解し、水
素化ホウ素ナトリウム（ｅ７ｊｗ）、炭酸カリウム（７
０■）を加えて室温にて２．５時間攪拌した。
−メチル−２−アザ上シクロＣ２，２，０〕ヘキサン（
８０，０岬）をメタノール（６ＴＲｅ ）に溶解し、水
素化ホウ素ナトリウム（ｅ７ｊｗ）、炭酸カリウム（７
０■）を加えて室温にて２．５時間攪拌した。
反応液を実施例８と同様に処理し掲題化合物を得た。こ
のものを無水酢酸（２ｄ）、ピリジン（１ｍ）に溶解し
、２４時間放１した後、実施例８と同様に処理し、４−
（ｌ−メチル−２−アセトキシエチル）アゼチジン−２
−オン（８０，４ｑ、）として単離した。
のものを無水酢酸（２ｄ）、ピリジン（１ｍ）に溶解し
、２４時間放１した後、実施例８と同様に処理し、４−
（ｌ−メチル−２−アセトキシエチル）アゼチジン−２
−オン（８０，４ｑ、）として単離した。
無色プリズム晶（エーテル）
融点 ６８〜７０℃
Ｎ Ｍ Ｒ（ＣＤＣ（Ｉｓ ）δ（ｐ、ｐ、ｍ、） ：
０．９５（ｄ、Ｊ＝６．７ＨｚＪＨ）、１．６−２．１
５（ｍ、ＩＨ）、２．０８（ｓ、３Ｈ）、２゜６０（ｄ
ｄｄ、Ｊ＝１４．５，２．８，１．２Ｈｚ。
０．９５（ｄ、Ｊ＝６．７ＨｚＪＨ）、１．６−２．１
５（ｍ、ＩＨ）、２．０８（ｓ、３Ｈ）、２゜６０（ｄ
ｄｄ、Ｊ＝１４．５，２．８，１．２Ｈｚ。
ＩＨ）、８．０５（ａｄｄ、Ｊ＝１４．５，５．０ 。
２．５Ｈｚ、ＩＨ）、８．４０（ｄｄｄ、Ｊ−８，５゜
５．０，２．８Ｈｚ、ＬＨ）、８．８８（ｄｄ、Ｊ＝１
０．８，５．７Ｈｚ、ｌＨ）、４．２０（ｄｄ、Ｊ＝１
０．８．４．８Ｈｚ 、 ＬＨ） 、 ６．２８（ｂｓ
。
５．０，２．８Ｈｚ、ＬＨ）、８．８８（ｄｄ、Ｊ＝１
０．８，５．７Ｈｚ、ｌＨ）、４．２０（ｄｄ、Ｊ＝１
０．８．４．８Ｈｚ 、 ＬＨ） 、 ６．２８（ｂｓ
。
ｌ旧」
以 上
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ＋１１ ５−Ｘｌ−８−オキソ−２−アザビシクロ（２
，２，０１ヘキサン類または５−Ｘ２−８−オキソ−２
−アザビシクロ（２，２゜０〕ヘキサ−５−エン類＜
ｘｉはアシルオキシまたはオキソを Ｘ２はアシルオキ
シを意味する。）を、５−６位に二重結合を有す剤と処
理することを特徴とする４−（２−ヒドロキシエチル）
アゼチジン−２−オン類の製造法。 （２１５−Ｘ’−８−オキソ−２−アザビシクロ〔２，
２，０）ヘキサン類または５−Ｘ２−８−オキソ−２−
アザビシクロＣ２，２゜０〕ヘキサ−５−エン類が一般
式 〔式中、Ｒ１およびＲ２は同一であるかもしくは異なっ
て、水素原子または低級アルキル基を示し Ｒ３は水素
原子、低級アルキル基または低級アルケニル基を示す。 Ａはアシルオキシ基を、ＡおよびＡは 水素原子を示すか、またはＡ１はアシルオキシ基を示し
Ａ２およびＡ３で結合を形成するか、またはＡ１およ
びＡ２はいっしょになってオキソ基を、Ａは水素原子を
示す。〕 で示される化合物である特許請求の範囲第゛１項記載の
製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59013923A JPS60158167A (ja) | 1984-01-27 | 1984-01-27 | β−ラクタム化合物の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59013923A JPS60158167A (ja) | 1984-01-27 | 1984-01-27 | β−ラクタム化合物の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60158167A true JPS60158167A (ja) | 1985-08-19 |
Family
ID=11846698
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59013923A Pending JPS60158167A (ja) | 1984-01-27 | 1984-01-27 | β−ラクタム化合物の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60158167A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0336143A1 (en) | 1988-03-23 | 1989-10-11 | Shionogi Seiyaku Kabushiki Kaisha | A new process for carbapenem intermediates |
-
1984
- 1984-01-27 JP JP59013923A patent/JPS60158167A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0336143A1 (en) | 1988-03-23 | 1989-10-11 | Shionogi Seiyaku Kabushiki Kaisha | A new process for carbapenem intermediates |
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