JPS6015640B2 - ５″−アミノ−３′，５″−ジデオキシリボ スタマイシンの製造法 - Google Patents
５″−アミノ−３′，５″−ジデオキシリボ スタマイシンの製造法Info
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- JPS6015640B2 JPS6015640B2 JP50080094A JP8009475A JPS6015640B2 JP S6015640 B2 JPS6015640 B2 JP S6015640B2 JP 50080094 A JP50080094 A JP 50080094A JP 8009475 A JP8009475 A JP 8009475A JP S6015640 B2 JPS6015640 B2 JP S6015640B2
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07H—SUGARS; DERIVATIVES THEREOF; NUCLEOSIDES; NUCLEOTIDES; NUCLEIC ACIDS
- C07H15/00—Compounds containing hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals directly attached to hetero atoms of saccharide radicals
- C07H15/20—Carbocyclic rings
- C07H15/22—Cyclohexane rings, substituted by nitrogen atoms
- C07H15/222—Cyclohexane rings substituted by at least two nitrogen atoms
- C07H15/226—Cyclohexane rings substituted by at least two nitrogen atoms with at least two saccharide radicals directly attached to the cyclohexane rings
- C07H15/228—Cyclohexane rings substituted by at least two nitrogen atoms with at least two saccharide radicals directly attached to the cyclohexane rings attached to adjacent ring-carbon atoms of the cyclohexane rings
- C07H15/23—Cyclohexane rings substituted by at least two nitrogen atoms with at least two saccharide radicals directly attached to the cyclohexane rings attached to adjacent ring-carbon atoms of the cyclohexane rings with only two saccharide radicals in the molecule, e.g. ambutyrosin, butyrosin, xylostatin, ribostamycin
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- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P31/00—Antiinfectives, i.e. antibiotics, antiseptics, chemotherapeutics
- A61P31/04—Antibacterial agents
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は緑膿菌に対して高い抗菌力を有する新規物質で
ある５″−アミノー３・５″ージデオキシリボスタマイ
シンの製造法に関する。
ある５″−アミノー３・５″ージデオキシリボスタマイ
シンの製造法に関する。
公知の保護方法でリボスタマィシンのアミノ基及び水酸
基を保護した次の一般式＜・＞ 又は ＜・′） 〔式中、Ｒはアルキルオキシ基特に炭素数１〜４のアル
キルオキシ基又はアリールオキシ基である公知のアミノ
保護基を示し、Ｘは式（但し、式中Ｐ、Ｐ′はそれぞれ
水素原子、アルキル基又はアリール基を示す）の基又は
シクロヘキシリデン基である公３敗のヒドロキシル保護
基を示す〕で表わされるリボスタマィシン誘導体は公知
である（明治製菓研究年報第１３号１−２０頁（１９７
３）参照）。
基を保護した次の一般式＜・＞ 又は ＜・′） 〔式中、Ｒはアルキルオキシ基特に炭素数１〜４のアル
キルオキシ基又はアリールオキシ基である公知のアミノ
保護基を示し、Ｘは式（但し、式中Ｐ、Ｐ′はそれぞれ
水素原子、アルキル基又はアリール基を示す）の基又は
シクロヘキシリデン基である公３敗のヒドロキシル保護
基を示す〕で表わされるリボスタマィシン誘導体は公知
である（明治製菓研究年報第１３号１−２０頁（１９７
３）参照）。
本発明者はこの誘導体を選択的にスルホニル化し、さら
にアジ化ナトリウム等の如くアジ化剤で処理して５″位
のみをアジド化すると、下記の（ｍ）又は（ｍ′）式（
ｍ） ＜ｍ′） で示される３′ー０−スルホニル−６″−アジド誘導体
が得られることを認めた。
にアジ化ナトリウム等の如くアジ化剤で処理して５″位
のみをアジド化すると、下記の（ｍ）又は（ｍ′）式（
ｍ） ＜ｍ′） で示される３′ー０−スルホニル−６″−アジド誘導体
が得られることを認めた。
このアジド誘導体をジグラィムの如き有機溶剤中で水素
化ホウ素ナトリウムで処理しェポキシ体を経て３′ーデ
オキシ化し（この３′ーデオキシ化の手法については特
関隅５１一６８５４１号公報として公開された特願昭４
９一１４１４９７号及び持開昭５１一６８５４２号公報
として公開された特鹿昭４９一１４１４鰍号明細書参照
）これをパラジウム黒じ文は白金悪の如き水添触媒の存
在下に接触還元して５″位のァジド基をアミ／化して、
その後に、生成物から常法で残余の保護基を脱離するこ
とにより次式（Ｗ） で示される新規物質５″−アミノ−３′・５″ージデオ
キシリボスタマイシンが得られることを知見した。
化ホウ素ナトリウムで処理しェポキシ体を経て３′ーデ
オキシ化し（この３′ーデオキシ化の手法については特
関隅５１一６８５４１号公報として公開された特願昭４
９一１４１４９７号及び持開昭５１一６８５４２号公報
として公開された特鹿昭４９一１４１４鰍号明細書参照
）これをパラジウム黒じ文は白金悪の如き水添触媒の存
在下に接触還元して５″位のァジド基をアミ／化して、
その後に、生成物から常法で残余の保護基を脱離するこ
とにより次式（Ｗ） で示される新規物質５″−アミノ−３′・５″ージデオ
キシリボスタマイシンが得られることを知見した。
本発明の方法においては、前記一般式（１）又は（１′
）のりボスタマイシン保護譲導体を出発物質として用い
て、これを例えば特開昭４９−８００３８号公報に記載
されたスルホン化の手法にてアルキルスルホニル・ハラ
イド、アルアルキルスルホニル．ハライド又はアリール
スルホニル基・ハラィドを作用させて３′一水酸基及び
５″−水酸基を選択的にスルホニル化するか又は５″−
水酸基のみを選択的にスルホン化して一般式（０）又は
（０′）のスルホニル化体を生成し、ついで５″ースル
ホニル基をモノアジド化し、得られる一般式（ｍ）又は
（ｍ′）のアジド化体を特願昭４９一１４１４９８号の
方法に準じてェポキシ化し、このェポキシ体を袴磯昭４
９−１４１４９７号の方法に準じて水素化ホウ素ナトリ
ウムにて還元し更に５″−アジド基を還元してアミ／化
する事により、又は一般式（ｍ）又は（ｍ′）で表わさ
れる、５″−アジド−３′−０−アルキルスルホニル体
、５″ーアジドー３′ー○ーベンジルスルホニル体又は
５″ーアジドー３′ー○−アリールスルホニル体を特願
昭４９一１４１４９７号の方法に準じて直接水素化ホウ
素ナトリウムで還元し、更に５″ーアジドを還元してア
ミノ化する事により、５″−アミノー３・５″−ジデオ
キシ化合物を得る事に特徴がある。
）のりボスタマイシン保護譲導体を出発物質として用い
て、これを例えば特開昭４９−８００３８号公報に記載
されたスルホン化の手法にてアルキルスルホニル・ハラ
イド、アルアルキルスルホニル．ハライド又はアリール
スルホニル基・ハラィドを作用させて３′一水酸基及び
５″−水酸基を選択的にスルホニル化するか又は５″−
水酸基のみを選択的にスルホン化して一般式（０）又は
（０′）のスルホニル化体を生成し、ついで５″ースル
ホニル基をモノアジド化し、得られる一般式（ｍ）又は
（ｍ′）のアジド化体を特願昭４９一１４１４９８号の
方法に準じてェポキシ化し、このェポキシ体を袴磯昭４
９−１４１４９７号の方法に準じて水素化ホウ素ナトリ
ウムにて還元し更に５″−アジド基を還元してアミ／化
する事により、又は一般式（ｍ）又は（ｍ′）で表わさ
れる、５″−アジド−３′−０−アルキルスルホニル体
、５″ーアジドー３′ー○ーベンジルスルホニル体又は
５″ーアジドー３′ー○−アリールスルホニル体を特願
昭４９一１４１４９７号の方法に準じて直接水素化ホウ
素ナトリウムで還元し、更に５″ーアジドを還元してア
ミノ化する事により、５″−アミノー３・５″−ジデオ
キシ化合物を得る事に特徴がある。
特膝昭４９−８７４９ｙ号（侍関昭５１一１６６４２号
公報として公開）、４９−−１４１４９７号、４９−１
４１４鱗号明細書によれば、分子内にネァミン部分を有
する抗生物質（ネアミンそれ自体を包含する）のネアミ
ン部分が３′・４′ーＱ−ェポキシ化され且つ官能基が
保護された又は保護されていない３′・４′ーＱ−ェポ
キシネアミン部を有する化合物をアルカリ性溶媒中、骨
格触媒を用い、接触還元すると、対応する３′−デオキ
シ化合物が得られ、水素化ホウ素ナトリウムで還元する
と、４′ーデオキシ−３′ーヱピ化合物が得られるとさ
れている。
公報として公開）、４９−−１４１４９７号、４９−１
４１４鱗号明細書によれば、分子内にネァミン部分を有
する抗生物質（ネアミンそれ自体を包含する）のネアミ
ン部分が３′・４′ーＱ−ェポキシ化され且つ官能基が
保護された又は保護されていない３′・４′ーＱ−ェポ
キシネアミン部を有する化合物をアルカリ性溶媒中、骨
格触媒を用い、接触還元すると、対応する３′−デオキ
シ化合物が得られ、水素化ホウ素ナトリウムで還元する
と、４′ーデオキシ−３′ーヱピ化合物が得られるとさ
れている。
本発明のデオキシ化において、５″位にアジド基が存在
することに基因して、３′・４′−Ｑーェポキシ誘導体
は、アルカリ性溶媒中で骨格触媒を用いて接触還元され
ると、対応する４′−デオキシ−３−ェピ誘導体が生成
され、また水素化ホウ素ナトリウムで還元されると、対
応する３′ーデオキシ誘導体が得られる。この点に特願
昭４９−８７４９９又は４９−１４１４９７号の方＊法
と大きな相異がある。即ち、リボスタマィシンの場合、
５″位の水酸基をアジド基に贋襖してあった時、３・４
′ーＱーェポキシを還元して、モノアルコ−ルを生成せ
しめる反応の選択性は、５″位が水酸基である時とは全
く逆になる点に特異性がある。リポスタマイシン又はキ
シロスタチン骨格を持つ抗生物質の５″位のアミノ化は
、日．日．Ｈａｓｋｅｌｌらにより、ブチロシンＡ、Ｂ
について（ｉ．仇ｔｉｂｉｏｔｉｃｓ２６巻７９０頁（
１９７３））又、４′‐デオキシブチロシンについて（
椿藤昭５０−３５１３２号の方法）行われているが、今
回合成した５″−アミノー３′・５″−ジデオキシリボ
スタマイシンは、新規物質であり、表１に示す如く、緑
膿菌に対して母体のリボスタマィシンより生育阻止作用
が向上されている。
することに基因して、３′・４′−Ｑーェポキシ誘導体
は、アルカリ性溶媒中で骨格触媒を用いて接触還元され
ると、対応する４′−デオキシ−３−ェピ誘導体が生成
され、また水素化ホウ素ナトリウムで還元されると、対
応する３′ーデオキシ誘導体が得られる。この点に特願
昭４９−８７４９９又は４９−１４１４９７号の方＊法
と大きな相異がある。即ち、リボスタマィシンの場合、
５″位の水酸基をアジド基に贋襖してあった時、３・４
′ーＱーェポキシを還元して、モノアルコ−ルを生成せ
しめる反応の選択性は、５″位が水酸基である時とは全
く逆になる点に特異性がある。リポスタマイシン又はキ
シロスタチン骨格を持つ抗生物質の５″位のアミノ化は
、日．日．Ｈａｓｋｅｌｌらにより、ブチロシンＡ、Ｂ
について（ｉ．仇ｔｉｂｉｏｔｉｃｓ２６巻７９０頁（
１９７３））又、４′‐デオキシブチロシンについて（
椿藤昭５０−３５１３２号の方法）行われているが、今
回合成した５″−アミノー３′・５″−ジデオキシリボ
スタマイシンは、新規物質であり、表１に示す如く、緑
膿菌に対して母体のリボスタマィシンより生育阻止作用
が向上されている。
表 １
実施例 １
５″−アミノ−３′・５″−ジデオキシリボスタマイシ
ンの合成テトラ−Ｎーエトキシカルボニルリボスタマイ
シン（袴願昭４７−１２２４３６号（特関昭４９−８０
０級号）明細書に示された方法で調製される）９夕を無
水ＤＭＦ９０の‘に溶解し、ｐ−トルェンスルホン酸４
６０雌、１・１−ジメトキシシクロヘキサン１７．６の
‘を加え、減圧下、５５ｑｏで蝿拝する。
ンの合成テトラ−Ｎーエトキシカルボニルリボスタマイ
シン（袴願昭４７−１２２４３６号（特関昭４９−８０
０級号）明細書に示された方法で調製される）９夕を無
水ＤＭＦ９０の‘に溶解し、ｐ−トルェンスルホン酸４
６０雌、１・１−ジメトキシシクロヘキサン１７．６の
‘を加え、減圧下、５５ｑｏで蝿拝する。
１時間毎にｐートルェンスルホン酸斑０の夕と１・１ー
ジメトキシシクロヘキサン１０叫を加え、８回加えた所
でＮａＨＣ０３４０夕を加え、濃縮乾固する、クロロホ
ルムで抽出し、水洗後濃縮乾園する。
ジメトキシシクロヘキサン１０叫を加え、８回加えた所
でＮａＨＣ０３４０夕を加え、濃縮乾固する、クロロホ
ルムで抽出し、水洗後濃縮乾園する。
生成物を単離する事なく、４０％酢酸：アセトンｉｌ：
４の混合溶媒１５０叫に溶解し、６０℃で３時間加臆す
る。反応液にＮａＨＣＱをアルカリ性になるまで加え、
アセトンを留去する。クロロホルム抽出し、水洗後濃縮
乾固する。４００夕のアルミナカラム（ＣＨＣ１３：Ｅ
のＨ＝４０：１）にて分離精製し、１・６−Ｎ・０−２
″・３″；３′・４′一〇一トリシクロヘキシリデン−
１・２′一３・３−テトラ一Ｎ−エトキシカルボニルリ
ボスタマィシンを８．４８多得た。
４の混合溶媒１５０叫に溶解し、６０℃で３時間加臆す
る。反応液にＮａＨＣＱをアルカリ性になるまで加え、
アセトンを留去する。クロロホルム抽出し、水洗後濃縮
乾固する。４００夕のアルミナカラム（ＣＨＣ１３：Ｅ
のＨ＝４０：１）にて分離精製し、１・６−Ｎ・０−２
″・３″；３′・４′一〇一トリシクロヘキシリデン−
１・２′一３・３−テトラ一Ｎ−エトキシカルボニルリ
ボスタマィシンを８．４８多得た。
トリシクロヘキシリデン体５００倣を、無水ピリジン中
、ｐートルェンスルホニルクロリド３総秘と室温で反応
せしめ、５″一〇−トシル体を得る。更に、ＤＭＦ中、
アジ化ナトリウム１６５級と１１０ｑｏで２時間反応せ
しめ、５″−アジド体３７０雌を得た。５″−ァジド体
を８０％酢酸：ァセトン＝１：１の混合溶媒１４の‘‘
こ溶解し、５０℃で３び分加溢し反応終了後ＮａＨＣ０
３で中和し、アセトンを留去し、クロロホルム抽出し、
濃縮乾園すると、５″ーアジド−１・６−Ｎ・０一〆・
３″ージシクｏヘキシリデンー１・２・３・６ーテトラ
−Ｎーエトキシカルボニルリボスタマィシンが得られる
。
、ｐートルェンスルホニルクロリド３総秘と室温で反応
せしめ、５″一〇−トシル体を得る。更に、ＤＭＦ中、
アジ化ナトリウム１６５級と１１０ｑｏで２時間反応せ
しめ、５″−アジド体３７０雌を得た。５″−ァジド体
を８０％酢酸：ァセトン＝１：１の混合溶媒１４の‘‘
こ溶解し、５０℃で３び分加溢し反応終了後ＮａＨＣ０
３で中和し、アセトンを留去し、クロロホルム抽出し、
濃縮乾園すると、５″ーアジド−１・６−Ｎ・０一〆・
３″ージシクｏヘキシリデンー１・２・３・６ーテトラ
−Ｎーエトキシカルボニルリボスタマィシンが得られる
。
更に無水ピリジン中、４７０の９のｐートルェンスルホ
ニルクロリドにて３′ートシル化し、３２０雌の５″ー
アジドー３′ー○ートシル譲導体を得た。
ニルクロリドにて３′ートシル化し、３２０雌の５″ー
アジドー３′ー○ートシル譲導体を得た。
５″ーアジドー３′ー０−トシル体をジグライム中水素
化ホウ素ナトリウム７８の９と６ぴ○、３時間反応せし
め、水を加え沈澱とし、更にメタノール中Ｐｄ−黒を触
媒として接触還元し、５″−アミ／化を行い、残存する
シクロヘキシリデン及びェトキシカルボニル基を各々酸
とアルカリで処理して除き、５″ーアミノ−３′・５″
ージデオキシリボスタマイシンを得る。
化ホウ素ナトリウム７８の９と６ぴ○、３時間反応せし
め、水を加え沈澱とし、更にメタノール中Ｐｄ−黒を触
媒として接触還元し、５″−アミ／化を行い、残存する
シクロヘキシリデン及びェトキシカルボニル基を各々酸
とアルカリで処理して除き、５″ーアミノ−３′・５″
ージデオキシリボスタマイシンを得る。
アンバーライトＣＧ−５０（ＮＨ４十ふｐｅ）にて分離
精製し２５．１雌の純品を得た。収率リボスタマイシン
より１１．０％、〔Ｑ〕ｏ十５２．かくｃｌ．０、日２
０）ｍ．ｐ．１１９〜１２１００（分解）、質量スペク
トル分析（Ｎ−Ａｃ、０一ＴＭＳ誘導体）ｍ／ｅ＝９３
５実施例 ２５″ーアミノー３′・５″ージデオキシリ
ボスタマイシンの合成実施例１に示した方法でテトラ一
Ｎーェトキシカルボニルリボスタマイシン７．４夕をシ
クロヘキシリデン化し、生成物を８０％酢酸：アセトン
＝１：１の混合溶媒１２０の‘に溶解し、６０℃で１時
間３０６加熱し、濃縮乾嵐する。
精製し２５．１雌の純品を得た。収率リボスタマイシン
より１１．０％、〔Ｑ〕ｏ十５２．かくｃｌ．０、日２
０）ｍ．ｐ．１１９〜１２１００（分解）、質量スペク
トル分析（Ｎ−Ａｃ、０一ＴＭＳ誘導体）ｍ／ｅ＝９３
５実施例 ２５″ーアミノー３′・５″ージデオキシリ
ボスタマイシンの合成実施例１に示した方法でテトラ一
Ｎーェトキシカルボニルリボスタマイシン７．４夕をシ
クロヘキシリデン化し、生成物を８０％酢酸：アセトン
＝１：１の混合溶媒１２０の‘に溶解し、６０℃で１時
間３０６加熱し、濃縮乾嵐する。
クロロホルムで抽出し飽和ＮａＨＣ０３水で洗浄後、水
洗し、濃縮乾固し、粗１・６−Ｎ・０−２″・３″−○
ージシクロヘキシリデンー１・２・３・６ーテトラーＮ
ーエトキシカルポニルリボスタマィシンを８７２タ得た
。ジシクロヘキシリデン体１．７８夕を無水ピリジン７
２必中ｐートルヱンスルホニルクロリド３．０夕と５０
℃で反応せしめ１・６−Ｎ・０−２″・３″−０−ジシ
クロヘキシリデソ一１・２・３・６−テトラ一Ｎ−ヱト
キシカルボニル−３′・５″−ジー０−トシルリボスタ
マィシン２．１３夕を得る。ジトシル体３１２雌をＤＭ
Ｆ中アジ化ナトリウム１１７の９と１００午○で２時間
反応せしめ、５″−アジド−３′ー○−トシル誘導体を
得る。更にジグラィム中、４９雌の水素化ホウ素ナトリ
ウムと６０℃で３時間反応せしめ、３′−デオキシ誘導
体を得る。実施例１に従って５″−アミノ化脱保護、精
製を順次行い５″ーアミ／−３′・５″−ジデオキシリ
ボスタマイシン１６の９を得た。収率７．８％（リボス
タマィシンについての収率）参考例 １ ５″ーアミノー４・５″ージデオキシー３′一エピリポ
スタマィシンの合成実施例１又は実施例２に示した方法
で得られた５″−アジド−１・６−Ｎ・０−２″・３″
一〇−ジシクロヘキシリデン−１・２′・３・６−テト
ラ−Ｎーエトキシカルボニル−３′一〇ートシルリボス
タマイシン６８０の上を２．８％ナトリウムメトキシド
１３．６の‘に溶解し、ラネーニッケル１０ｃｃを加え
、常温、常圧下接触還元を行う。
洗し、濃縮乾固し、粗１・６−Ｎ・０−２″・３″−○
ージシクロヘキシリデンー１・２・３・６ーテトラーＮ
ーエトキシカルポニルリボスタマィシンを８７２タ得た
。ジシクロヘキシリデン体１．７８夕を無水ピリジン７
２必中ｐートルヱンスルホニルクロリド３．０夕と５０
℃で反応せしめ１・６−Ｎ・０−２″・３″−０−ジシ
クロヘキシリデソ一１・２・３・６−テトラ一Ｎ−ヱト
キシカルボニル−３′・５″−ジー０−トシルリボスタ
マィシン２．１３夕を得る。ジトシル体３１２雌をＤＭ
Ｆ中アジ化ナトリウム１１７の９と１００午○で２時間
反応せしめ、５″−アジド−３′ー○−トシル誘導体を
得る。更にジグラィム中、４９雌の水素化ホウ素ナトリ
ウムと６０℃で３時間反応せしめ、３′−デオキシ誘導
体を得る。実施例１に従って５″−アミノ化脱保護、精
製を順次行い５″ーアミ／−３′・５″−ジデオキシリ
ボスタマイシン１６の９を得た。収率７．８％（リボス
タマィシンについての収率）参考例 １ ５″ーアミノー４・５″ージデオキシー３′一エピリポ
スタマィシンの合成実施例１又は実施例２に示した方法
で得られた５″−アジド−１・６−Ｎ・０−２″・３″
一〇−ジシクロヘキシリデン−１・２′・３・６−テト
ラ−Ｎーエトキシカルボニル−３′一〇ートシルリボス
タマイシン６８０の上を２．８％ナトリウムメトキシド
１３．６の‘に溶解し、ラネーニッケル１０ｃｃを加え
、常温、常圧下接触還元を行う。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 次の一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒはアルキルオキシ基又はアリールオキシ基を
示し、Ｘは式▲数式、化学式、表等があります▼ （但し、式中Ｐ、Ｐ′はそれぞれ水素原子、アルキル基
又はアリール基を示す）の基又はシクロヘキシリデン基
を示す〕で表わされるリボスタマイシン誘導体を選択的
にスルホニル化して次の一般式▲数式、化学式、表等が
あります▼〔式中、Ｒ、Ｘは前記と同意義を有し、Ｙは
アルキルスルホニル基、アルアルキルスルホニル基又ア
リールスルホニル基を示す〕で表わされる３′・５″−
Ｏ−ジスルホニル化体を得、これをアジ化剤でアジド化
して次の一般式▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされる３′−Ｏ−スルホニル−５″−アジド化誘
導体を得、これを有機溶媒中で水素化ホウ素ナトリウム
で処理して３′−デオキシ化し、さらに水素化触媒の存
在下にて水素でアジド基を接触還元し５″−アミノ化を
行ない、次いで残余の保護基を脱離せしめてることを特
徴とする、次式▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされる５″−アミノ−３′・５″−ジデオキシリ
ボスタマイシンを製造する方法。 ２ 次の一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒはアルキルオキシ基又はアリールオキシ基を
示し、Ｘは式▲数式、化学式、表等があります▼ （但し、式中Ｐ、Ｐ′はそれぞれ水素原子、アルキル基
又はアリール基を示す）の基又はシクロヘキシリデン基
を示す〕で表わされるリボスタマイシン誘導体を選択的
にスルホニル化して次の一般式▲数式、化学式、表等が
あります▼〔式中、Ｒ、Ｘは前記と同意義を有し、Ｙは
アルキルスルホニル基、アルアルキルスルホニル基又は
アリールスルホニル基を示す〕で表わされる５″−Ｏ−
スルホニル化体を得、これをアジ化剤でアジド化して次
の一般式▲数式、化学式、表等があります▼ で表われる５″−アジド化体とし、さらに３′・４′位
の保護基を脱離後に３′位を選択的にスルホニル化し、
得られる３′−Ｏ−スルホニル−５″−アジド化誘導体
を有機溶媒中で水素化ホウ素ナトリウムで処理して３′
−デオキシ化し、これをさらに水素化触媒の存在下に水
素でアジド基を接触還元し５″−アミノ化し、最後に残
余の保護基を脱離せしめることを特徴とする、次式▲数
式、化学式、表等があります▼ で表わされる５″−アミノ−３′・５″−ジデオキシリ
ボスタマイシンを製造する方法。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP50080094A JPS6015640B2 (ja) | 1975-06-30 | 1975-06-30 | ５″−アミノ−３′，５″−ジデオキシリボ スタマイシンの製造法 |
| GB24851/76A GB1501350A (en) | 1975-06-30 | 1976-06-16 | Ribostamycin derivatives and a process for preparing them |
| CA255,675A CA1058612A (en) | 1975-06-30 | 1976-06-25 | Antibiotic and a process of preparing thereof |
| DE2629133A DE2629133C2 (de) | 1975-06-30 | 1976-06-29 | 5"-Amino-3',5"-didesoxyribostamycin, Verfahren zu dessen Herstellung sowie antimikrobielle Zubereitungen |
| FR7620018A FR2315940A1 (fr) | 1975-06-30 | 1976-06-30 | Nouveau derive de la ribostamycine, procede de preparation de ce derive et medicaments le renfermant |
| US05/800,857 US4169890A (en) | 1975-06-30 | 1977-05-26 | Pharmaceutical composition containing 5"-amino-3',5"-dideoxy-ribostamycin and intermediate compounds |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP50080094A JPS6015640B2 (ja) | 1975-06-30 | 1975-06-30 | ５″−アミノ−３′，５″−ジデオキシリボ スタマイシンの製造法 |
Publications (2)
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|---|---|
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| JPS6015640B2 true JPS6015640B2 (ja) | 1985-04-20 |
Family
ID=13708596
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP50080094A Expired JPS6015640B2 (ja) | 1975-06-30 | 1975-06-30 | ５″−アミノ−３′，５″−ジデオキシリボ スタマイシンの製造法 |
Country Status (5)
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|---|---|
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| GB (1) | GB1501350A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2555473B2 (ja) * | 1990-10-04 | 1996-11-20 | 武二 中西 | 車両用自動ローリング機構 |
-
1975
- 1975-06-30 JP JP50080094A patent/JPS6015640B2/ja not_active Expired
-
1976
- 1976-06-16 GB GB24851/76A patent/GB1501350A/en not_active Expired
- 1976-06-25 CA CA255,675A patent/CA1058612A/en not_active Expired
- 1976-06-29 DE DE2629133A patent/DE2629133C2/de not_active Expired
- 1976-06-30 FR FR7620018A patent/FR2315940A1/fr active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
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| DE2629133A1 (de) | 1977-01-27 |
| GB1501350A (en) | 1978-02-15 |
| JPS525734A (en) | 1977-01-17 |
| FR2315940B1 (ja) | 1979-07-20 |
| CA1058612A (en) | 1979-07-17 |
| DE2629133C2 (de) | 1982-07-15 |
| FR2315940A1 (fr) | 1977-01-28 |
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