JPS60150626A - 荷電粒子線描画装置 - Google Patents

荷電粒子線描画装置

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Publication number
JPS60150626A
JPS60150626A JP59006258A JP625884A JPS60150626A JP S60150626 A JPS60150626 A JP S60150626A JP 59006258 A JP59006258 A JP 59006258A JP 625884 A JP625884 A JP 625884A JP S60150626 A JPS60150626 A JP S60150626A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
blanking
electrode
electron beam
particle beam
charged particle
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Pending
Application number
JP59006258A
Other languages
English (en)
Inventor
Isao Sasaki
勲 佐々木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP59006258A priority Critical patent/JPS60150626A/ja
Publication of JPS60150626A publication Critical patent/JPS60150626A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20Exposure; Apparatus therefor

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Electron Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の腐する技術分野] この発明は%餡高笛度集積回路又はそのためのマスクを
製造する粒子純描画装億に関する。
[従来技術とその問題点] 従来の電子線描画装置の構成図を第1図に示す。
1は市、子線を発生するto7子@+2は加速のための
陽極、3I″i電子線を鏡筒の中心を通すためのアライ
メントコイル、4は第1コンデンサレンズ、5は本96
明に関連した、′山、子線を描画パターンの有無に応じ
てオン、オフするためのブランキング電極、6は3と同
様なアライメントコイル、7は第2コンテンサレンズ、
8に3.6と同様なアライメントコイル、9は描画パタ
ーン形状に応じて電子線を偏向させる偏向コイル、10
は描画面上に電子線ビームの焦点を結ばせるfr−めの
対物レンズ。
11は霜、子線の非点をなくすための非点補正コイル。
11tダイナミツクフオーカスコイルである。13は試
料の入る真空室、14はウェーハー、マスク等試料の載
るX−Yテーブル、 15は振’fJJ v収のための
ショツクアプンーバーである。
本発明に関連するブランキング′[Wk5汀第1図に示
されているよう仁、従来け、鏡筒〕(中旬近に&gかれ
ていた。このような位置にある場合、テーブル14の上
の焦点向までの距離が知プハいので充分電子線をオフす
るためブランキング電極に印加する電圧に高い電圧を必
要とし、そのための増巾器に高性能なものを必要とし%
特に篩速描画を必要とする場合には高周波特性のものが
心安となる。
また、ブランキング電極、極の長さも長いものが必要と
なり、そのためのスペースも広くなけ)′Lばならず鏡
筒の長烙も大きくなる。
[発明の目的] 本発明は、上記の従来技術じおける電子線のブランキン
グな容易ならしめることを目的とする。
[発明の概要] 第2図に1本発明装置の電子銃、陽極部分の拡大図を示
す。1に?h、子を放出するカソード、例えばランタン
ヘキサボーライド(LaB6) 、 21dカソードl
よりも約I KV負電位をかh−%電子線を安定化させ
るウェネルト′電極、3は陽極でカソード1よりも20
〜50 KVの正鵠、位が与えられる。これら電′4へ
は、辿常は陽秘3がアース抽;位なので、負の筒電位と
なっている。したがって、ブランキング電極はできるだ
けカソード1に近い方が良いけれとも、ブランキング電
極やそれに印加する電源等もアースから高電位に浮さな
ければならないので製作上%離しいだけではなく、ブラ
ンキングスピードも遅くなり、高速描画が制限されるこ
とになる。
本発明1、第2図において、ブランキング電極をアース
を位に保持されている陽極3内に組み込んだことが大き
な特長である。
[発明の効果] 本発明によれば、ブランキング電極が電子放射源の近く
にあるので、低いブランキング市、圧でも充分ビームを
大きく偏向させることができるのでそのための電源、ア
ンプ等が小芥おのもので済むため、高速ブランキングが
容易になり、したがって高速描画によるスループット上
昇が達成される。
また、ブランキング電極はアース電位近くにできるので
、ウェネルトに近つけた場仕に比較して、取付が容易で
、aI造も簡単(二なる。
ブランキングが容易にIIることがらブランキングt&
、 41も小さくできる。
[発明の実施例] 第3図に本発明の一笑飾例を示す。4がブランキング電
極で多り、5を弁して真空系外へ、ガイシなどを通して
、取り出されている。5と1匂極3及び鏡筒とは絶縁さ
れていることは阿うまでもない。これは陽極3と一体化
構造を有し”Cいるので、非常にコンパクトである。
[発明の他の笑施例コ 本発明の他の実施例として%第4図にそれを示す。陽極
3とは一体化さfしてぃないけれども、陽惨内にくみ込
ま7しているので同経な効果を有する。
【図面の簡単な説明】
第1図に電子線描画装置の構成図、第2図は従来の電子
銃陽極の断面拡大図S第3図は本発明の一芙施例を示す
断面拡大図、第4図は本発明の他の実施例を示す断面拡
大図である。 l ・・・ ’t 子6すL 2 ・・・ 1λ!;4
4に3・・・アライメントコイル 4・・・第1コンデンサレンズ 5・・・ブランキング′電極 6・・・アライメントコイル 7・・・第2コンデンサレンズ 8・・・アライメントコイル 9・・・偏向コイル10
・・・対物レンズ 11・・・非A M 正コイル12
・・・ダイナミックフォーカスコイル13・・・試料室
 14・・・X−Yテーブル15・・・7ヨツクアプン
ーバー 21・・・カソード22・・・ウェネルト%体
 お・・・陽極24・・・ブランキング電極 2b・・
・外部導入端子第 1 図 第 2 図 第 3 図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 荷電粒子線をブランキングするための電極を。 加速電極円部に設置したことを特徴とする荷電粒子線描
    画装置。
JP59006258A 1984-01-19 1984-01-19 荷電粒子線描画装置 Pending JPS60150626A (ja)

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JP59006258A JPS60150626A (ja) 1984-01-19 1984-01-19 荷電粒子線描画装置

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JP59006258A JPS60150626A (ja) 1984-01-19 1984-01-19 荷電粒子線描画装置

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JPS60150626A true JPS60150626A (ja) 1985-08-08

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61225747A (ja) * 1985-03-28 1986-10-07 フィリップス エレクトロニクス ネムローゼ フェンノートシャップ 電子ビーム装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61225747A (ja) * 1985-03-28 1986-10-07 フィリップス エレクトロニクス ネムローゼ フェンノートシャップ 電子ビーム装置
JPH0626104B2 (ja) * 1985-03-28 1994-04-06 エヌ・ベー・フイリツプス・フルーイランペンフアブリケン 電子ビーム装置

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