JPS60144B2 - 鋳湯液面制御装置 - Google Patents

鋳湯液面制御装置

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JPS60144B2
JPS60144B2 JP17170179A JP17170179A JPS60144B2 JP S60144 B2 JPS60144 B2 JP S60144B2 JP 17170179 A JP17170179 A JP 17170179A JP 17170179 A JP17170179 A JP 17170179A JP S60144 B2 JPS60144 B2 JP S60144B2
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JP
Japan
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liquid level
nozzle
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mold
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JP17170179A
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都司 浅野
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Toshiba Corp
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Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、連続鋳造プロセスにおいてモールド内の錆
傷液面しベルを一定に制御する銭湯液面制御装置に関す
る。
連続鋳造において鋳込みを行う場合には、モールド内の
銭湯の液面しベルを一定に保つことが必要とされている
第1図は、従来の銭湯液面制御装置の概略構成を示す模
式図である。タンディッシュー内に貯溜された銭湯2は
、スライド弁3及びノズル4を介してモールド5内に注
入される。上記モールド5内の銭湯2の液面しベルは、
液面しベル検出器7にて検出されている。そして「上記
検出された検出液面レベルは比較器8にて、予め定めら
れた設定液面レベルVpと比較される。この比較結果は
制御器9を介して油圧ユニット101こ供給される。し
かして、前記モールド5内の銭湯2の液面しベルが前記
設定液面レベルVpから外れると上記制御器9及び油圧
ユニット10により前記スライド弁3の関度が制御され
、モールド5内の銭湯2の液面しベルが一定に保たれる
ものとなっている。ところがこの種の装置では、モール
ド5内に一担注入された鏡湯2の液面しベルを液面しベ
ル検出器7で検出し、この検出結果に基づいて前記銭湯
2の注入量を制御しているため、制御としては事後処理
であり時間的遅れを伴った。
このため「きめ細かな制御を行うことはできなかった。
そこで、前記ノズル4内を通流する銭湯2の流速を検出
し、この検出流速値に基づいて前記液面レベルの制御を
さめ細かに行うことが考えられたが、従来この種の流速
を簡易に測定することはできなかつた。本発明は上記事
情を考慮してなされたもので、その目的とするところは
、モールド内の銭湯液面レベルを常に所定レベルに制御
し、かっこの制御を遅れ時間なくさめ細かに行い得る簡
易な構成の錆傷液面制御装置を提供することにある。
まず、この発明の概要を説明する。
この発明は、モールド内の鍵湯の液面しベルと予め定め
られた設定液面レベルVpとの偏差値から最適流速を求
め、ノズル内を通流する鋳湯の流速が上記最適流速にな
るように制御するものである。さらに、上記流速の制御
を行うためにノズルの外周面に交番電流駆動される励磁
コイル及びこの励磁コイルを挟んで同コイルに対して対
称に検知コイルを巻装し、上記検知コイルの各誘起電圧
の差に基づいて前記ノズル内を通流する鋳湯の流速を検
出し、この検出流速値と前記最適流速値とを比較し、カ
スケード制御ループを構成したものである。
以下、この発明の一実施例を図面を参照して説明する。
第2図は同実施例の概略構成を示す模式図である。図中
11は鉄鋼等の溶融物である銭湯12を貯溜したタンデ
イッシュで「 このタンデイッシュ11内の錆湯12は
スライド弁13によりその流量を規定されノズル14を
介してモールド15内に注入される。上記モールド15
内の銭湯12の液面しベルは液面しベル検出器17にて
検出されている。
この液面しベル検出器17の検出液面レベルは比較器1
8にて予め定められた設定液面レベルVpと比較され、
この比較結果(液面偏差)は関数変換器19に供給され
る。関数変換器19は、上記液面偏差に対応した最適流
速値を出力するもので、この出力を設定流速値として比
較器2川こ供給している。なお、上記関数変換器19の
液面偏差と最適流速値との関係は、前記モールド15の
大きさ、ノズル14の径及び銭湯12の流速範囲等から
定められるものである。例えば、上記モールド15の面
積をA、ノズル14の断面積をa、液面偏差をL、最適
流速値をvとするとA dLV=;・石て 奪需要が話デ安藁きき手誉参る器聖馨蓬叢雪ふえもので
よい。
一方、前記ノズル14の中央部には励磁コイル21c及
び検知コイル21a,21bからなる流速検出器21が
酉己設されている。
上記励磁コイル21cは前記ノズル14の外周面に巻菱
されたもので、励磁電源22により交番電流駆動される
。また、前記検知コイル2−、la,21bは上記励磁
コイル21cを挟んで同コイル21cに対して対称に前
記ノズル14にそれぞれ巻装されたもので、これらの各
検知コイル21a,21bには励磁コイル21cの励磁
電流及びノズル14内の銭湯12の流速等に応じた電圧
が誘起される。そして、検知コイル21a,21bの各
譲起電圧は、流速測定演算回路30に供総合される。こ
の流速測定演算回路30は第3図に示す如く加算回路3
1、減算回路32及び補正回路33からなるもので、前
記供給された各議起電圧はそれぞれ上記加算回路31及
び減算回路32に与えられている。加算回路31の出力
電圧、即ち前記各誘起電圧の和電圧及び減算回路32の
出力電圧、即ち前記各誘起電圧の差電圧は加減算回路等
からなる補正回路33に供給され、上記差電圧が上記和
電圧により補正される。そして、補正回路33の出力電
圧が流速測定演算回路30の出力として、即ち検出流速
値として前記比較器2川こ供給される。さて、前記比較
器2川ま前記関数変換器19及び流速測定演算回路30
の各出力を比較し、その比較結果を制御器341こ供給
するものである。また、上記制御器34は、上記比較結
果に応じて油圧ユニット35を制御し、前記スライド弁
13の開度を駆動制御するものである。このように構成
された本装置の作用を説明する。
まず、前記ノズル14内には前記励磁コイル21cによ
りノズル14の軸万向に磁場が生成されている。上記ノ
ズル14内を銭湯12が通流すると、即ち磁場内を液体
金属が磁場方向に移動すると上記磁場の分布は上記液体
金属の移動方向に片寄る。このため、液体金属の流速が
零のときの前記検出コイル21a及び21bの誘起電圧
に比べて、検知コイル21aの誘起電圧の大きさの減少
分は、銭湯12の流速に比例し、検知コイル21bの誘
起電圧の大きさの増分は銭湯12の流速に比例したもの
となる。したがって、検知コイル21a,21bの各誘
起電圧の差電圧、即ち減算回路32の出力電圧VDはV
D;f<V‐d‐。
・W) ‐‐‐‐‐‐‐‐‐(1}となる。但し、
vは鏡湯12の流速、dはノズル14の内径、0は銭湯
12の導電率、wは励磁電源22の角周波数である。こ
のように差電圧VDは流速、内律d、導電率。及び励磁
角周波数wの各値で定まる関数となる。したがって、内
隆d、導電率。及び励磁角周波数wを予め定めた一定値
にしておくことによって、差電圧VDから流速vが検出
されることになる。一方、前記各譲起電圧の和電圧、即
ち加算回路31の出力電圧Vsは、Vs=f(d.〇.
w) ・・・・・・・・・■となる。つまり、
和電圧Vsは流速vに関係なく内蓬d「導電率。及び励
磁角周波数wの各値で定まる関数となる。したがって、
励磁角周波数wを一定とすれば和電圧Vsは内蓬d及び
導電率〇の各値により変化、即ち経時変化を表わすもの
となる。かくして、前記差電圧VDを補正回路33にて
上記和電圧Vsで補正するこ−とによって、経時変化等
による誤差のない正確な流速vが検出されることになる
。そして、この検出流速値が比較器20に供給される。
一方、前記モールド15内の錆湯12の液面しベルは液
面しベル検出器17で検出され、比較器18にて設定液
面レベルVpと比較される。
そして、比較器18による比較結果(液面偏差)を入力
して関数変関器19は上記液面偏差に対する最適流速値
(設定流速値)を出力し、この設定流速値を前記比較器
20‘こ供給する。そして、比較器20の比較結果に基
づいて制御器34及び油圧ユニット35が前記スライド
弁13の関度を設定し、ノズル14内を通流する銭湯1
2の流速を決定することになる。かくして、いま何らか
の要因で前記モールド15内の鏡湯12の液面しベルが
前記設定液面レベルVpより低くなったものとすれば、
関数変換器19による設定流速値が大きくなり、このた
め制御器34及び油圧ユニット35により前記スライド
弁13の開度が大きくなる。
したがって、ノズル14内の銭湯12の流速が大きくな
り、即ちモールド15内に注入される銭湯12の量が多
くなり前記液面レベルが設定液面レベルVpとなるよう
に制御される。また、逆に前記モールド15内の銭湯1
2の液面しベルが設定液面レベルVpより高くなったも
のとすれば、関数変換器19による設定流速値が小さく
なり、制御器34及び油圧ユニット35によりスライド
弁13の関度が小さくなる。したがって、モールド15
内に注入される銭湯12の量が少なくなり前記液面レベ
ルが設定液面レベルVpとなるように制御される。この
ようにして、モールド15内の銭湯12の液面しベルは
常に一定に保たれる。このように本装置によれば、ノズ
ル14に配設した流速検出器21の検知コイル21a,
21bの各誘起電圧の菱電圧VDに基づいて、上記/ズ
ル14内を通流する銭湯12の流速vを容易に検出する
ことができ、さらに上記差電圧Voを上記各誘起電圧の
和電圧Vsで補正することによって、経時変化等による
誤差をなくして上記流速vを極めて正確に検出すること
ができる。
また、モールド15内の銭湯12の液面しベルが設定液
面レベルVpと比較され、この比較結果に応じて設定流
速値が定められ、制御器34及び油圧ユニット36等に
よりスライド弁13の開度を設定することによって、モ
ールド15内の銭湯12の液面しベルを一定に保つこと
ができる。しかも、ノズル14内の鍵湯12の流速は流
速検出器21、流速測定演算回路30、比較器20、制
御器34、油圧ユニット35及びスライド弁13からな
るカスケ−ド制御ループにより制御されるため、モール
ド15の液面しベルの制御を遅れ時間なくさめ細かに行
い得る。また、流速検出器21、流速測定演算回路9』
・及び他の部分は特別な部材や回路等を要せず通常のも
ので容易に実現でき、全体の構成も非常に簡易なものに
なる等の利点がある。なお、この発明は上述した実施例
に限定されるものではない。例えば、前記流速検出器は
、励磁コイル及び検知コイルを交互に配設し、励磁コイ
ルをN個、検知コイルを(N十1)個としてもよい。ま
た、前記補正回路にマイクロ・コンピュータ等を用いて
、装置の汎用性を高めることもできる。さらに、前記ノ
ズルの内径及び銭湯の導電率の変化等の経時変化を無視
できる場合には、前記補正回路を除去してもよい。また
、前記スライド弁には前記モールド内からの銭湯の流出
量を可変制御できる流出量制御器であれば代替使用でき
る。その他、この発明の要旨を逸脱しない範囲で種々変
形して実施することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は従釆装置の一例を示す概略構成図、第2図はこ
の発明の一実施例を示す概略構成図、第3図は同実施例
の流速測定演算回路を示す要部概略構成図である。 11・・・・・・タンデツシュ、12・・・…銭湯、1
3・・・…スライド弁、14……ノズル、15……モー
ルド「 17・・…・液面しベル検出器、18,20・
・・・・・比較器、19・・・・・・関数変換器、21
・・・・・・流速検出器、21a,21b・・・…検出
コイル、21c……励磁コイル、30…・・・流速測定
演算回路、34・・・・・・制御器、35・・・・・・
ユニット。 第2図第3図 第1図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 鋳湯の流出量を可変制御する流出量制御器を介して
    通流される鋳湯をモールド内に注入するノズルと、この
    ノズルの外周面に巻装され交番電流駆動される励磁コイ
    ル及びこの励磁コイルを挾んで上記励磁コイルに対して
    対称に前記ノズルにそれぞれ巻装された検知コイルから
    なり、上記検知コイルに誘起される各誘起電圧の差に基
    づいて前記ノズル内の鋳湯の流速を検出する流速検出部
    と、前記モールド内の鋳湯の液面レベルを検出する液面
    レベル検出器と、上記検出された検出レベルと予め定め
    られた設定液面レベルとの偏差を関数変換する関数変換
    器と、上記関数変換された値を設定流速値とし、この設
    定流速値と前記流速検出部にて検出された検出流速値と
    の偏差に基づいて前記流出量制御器を駆動し、前記モー
    ルド内の鋳湯の液面レベルを前記設定液面レベルに保持
    する制御回路とを具備したことを特徴とする鋳湯液面制
    御装置。
JP17170179A 1979-12-27 1979-12-27 鋳湯液面制御装置 Expired JPS60144B2 (ja)

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AT379534B (de) * 1984-04-05 1986-01-27 Voest Alpine Ag Verfahren zum giessen von metallschmelze sowie vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens
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