JPS60144945A - 半導体集積回路装置の測定方法 - Google Patents

半導体集積回路装置の測定方法

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JPS60144945A
JPS60144945A JP59000609A JP60984A JPS60144945A JP S60144945 A JPS60144945 A JP S60144945A JP 59000609 A JP59000609 A JP 59000609A JP 60984 A JP60984 A JP 60984A JP S60144945 A JPS60144945 A JP S60144945A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
terminal
voltage
transistor
circuit
semiconductor integrated
Prior art date
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Pending
Application number
JP59000609A
Other languages
English (en)
Inventor
Hisaaki Ootsu
大津 寿招
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Nippon Electric Co Ltd
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Publication date
Application filed by NEC Corp, Nippon Electric Co Ltd filed Critical NEC Corp
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Publication of JPS60144945A publication Critical patent/JPS60144945A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L22/00Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は半導体集積回路装置(以下ICと略す)内に形
成されるツェナーダイオードの特性の測定方法に関する
ものである。
ICを設計する場合、外部より印加される電源電圧が変
動しても、回路が安定に動作する様に、安定化電圧回路
を構成することが多い。また、この回路の基準電圧には
、一般的にツェナー・ダイオードが使用されている。
しかし、ツェナー・ダイオードはウェハーのす7’/ス
トレートに存在する結晶欠陥、あるいはホトレジストに
よシ絶縁膜を選択的に形成する際に生ずる絶縁膜のピン
ホールによる絶縁膜上の金属配線と直下の拡散層間のリ
ーク電流の影響等により、ツェナー電圧が異常となった
り、リークが発生し、ICの動作に悪影響をおよぼすこ
とがある。
そこで、ツェナー・ダイオードの特性をチェ・・・りす
ることわ2重要となる。
第1図に一般的な安定化電圧回路の例を示す。
第1図は通常使用状態では、端子1にICに対する最高
電位、端子3には最低電位が外部よシ印加される。端子
1より、たとえば抵抗などによ多構成される回路素子5
全通してツェナー・ダイオード6に電流が供給される。
これにより端子4にはツェナー・ダイオード6による一
定の電圧が発生し、この電圧が電流供給用トランジスタ
7¥C介して、周辺回路9へ安定化された電圧として供
給されることとなる。この時、ツェナー・ダイオードに
リーク電流が生じていれば、端子4の電圧は十分安定化
されず、従って周辺回路9に印加される電圧は不安定な
ものとなる。
第1図において、ツェナー・ダイオード6の特祥をチェ
ックするには、端子4と端子3の間の電圧−電流特性を
測定しなければならない。このままでは、回路素子5お
よび周辺回路8、あるいはトランジスタ7および周辺回
路9を通じて、電流が流れてしまうために、ツェナー・
ダイオード6の特性をチェックすることは不可能である
本発明は、かかる欠点を改善し、IC内に形成されたツ
ェナー・ダイオードを見かけ上、単体で測定することに
よシ、ツェナー・ダイオードの特−性チェックを行うこ
とを可能とし、特性不良となったツェナー9ダイオード
を含°むICのチップを除去する方法を提供するもので
ある。
以下、第1図を用いて、本発明による測定方法を説明す
る。ツェナm−ダイオード6の特性をチェックするには
端子3を最低電位(Vsとする)K設定し、端子4に電
圧−電流特性をチェックするための電圧(v4とする)
を印加するわけだが、この時、端子1の電圧(Vrとす
る)と、端子2の電圧(Vzとする)をそれぞれ(1)
 、 (2)式の様に設定する。
V 1 = V 4 ・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・(1)V4<Vt+V
nx(TRo −−”°−−−−−°−°−°−°°(
2)ここでVnr、(TR1)はトランジスタ7のペー
ス・エミッタ間順方向動作電圧(1) 、 (2)式の
様に電圧設定を行うことによシ、端チェと端子4の間は
同電位となり、かかる両端子間に接続されている回路素
子5には電流が流れず、かつトランジスタ7のペース・
エミッタ間にはトランジスタ7がオンスるための電圧が
与えられないため、トランジスタ7は常にオフしており
、端子4よりトランジスタ7を通じて、周辺回路9へ電
流が流れることはない0 従って、端子4と端子3の間の電圧−電流特性をチェッ
クすることは、そのままツェナー・ダイオード6の特性
をチェックすることになる。
【図面の簡単な説明】
第1図は安定化電圧回路を含む半導体集積回路装置を示
す回路図である。 1〜4・・・・・・ICベレット上にアルミノくラドと
して形成された端子、5・・・・・・回路素子、6・・
・・・・ツェナm−ダイオード、7・・・・・・トラン
ジスタ、8,9・・・・・・周辺回路、10・・・・・
・安定化電圧回路。 hl 圀

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 第1の端子と第3の端子の間に第1の回路が接続され、
    第2の端子と第3の端子の間に第2の回路が接続され、
    前記第1の端子と第4の端子の間に回路素子が接続され
    、前記第4の端子と前記第3の端子の間にツェナー、ダ
    イオードが接続され、前記第1の端子にコレクター、前
    記第2の端子にエミッタ、前記第4の端子にベースが接
    続されているトランジスタをもって構成される回路を含
    む半導体集積回路装置の前記第1の端子と前記第4の端
    子とに各々別の電圧源から同一の電圧を印加し、前記第
    2の端子に前記トランジスタのエミッタ・ペース間順方
    向動作電圧と前記第1と第4の端子に印加された電圧と
    の和の電圧よシやや大きい電圧を印加し、前記第4の端
    子と前記第30端子の間の電圧−電流特性を測定するこ
    とを特徴とする半導体集積回路装置の測定方法。
JP59000609A 1984-01-06 1984-01-06 半導体集積回路装置の測定方法 Pending JPS60144945A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61231737A (ja) * 1985-04-05 1986-10-16 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置の製造方法
US7862649B2 (en) 2007-03-15 2011-01-04 Ngk Insulators, Ltd. Particulate matter detection device and particulate matter detection method

Cited By (3)

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JPH0452618B2 (ja) * 1985-04-05 1992-08-24 Mitsubishi Electric Corp
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