JPS60140318A - 高速スキヤナ用GaP変調器 - Google Patents
高速スキヤナ用GaP変調器Info
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- JPS60140318A JPS60140318A JP59258429A JP25842984A JPS60140318A JP S60140318 A JPS60140318 A JP S60140318A JP 59258429 A JP59258429 A JP 59258429A JP 25842984 A JP25842984 A JP 25842984A JP S60140318 A JPS60140318 A JP S60140318A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
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- G02F1/29—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the position or the direction of light beams, i.e. deflection
- G02F1/33—Acousto-optical deflection devices
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
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- B41J2/471—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using the combination of scanning and modulation of light using dot sequential main scanning by means of a light deflector, e.g. a rotating polygonal mirror
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明はラスター出力スキャナ用の音替−光学変調器に
関し、特に高速ラスター出力スキャナ用の改良形音替−
光学変調器に関する。
関し、特に高速ラスター出力スキャナ用の改良形音替−
光学変調器に関する。
(従来技術)
一般的なラスター出力スキャナでは、通常レーザから発
せられた高強疲の放射ビームが生成すべき像を示す電気
信号に従って選択的に変調され、この変調されたビーム
が記録部材の光導電性表面を横切って走査される。一般
に、ビームの走査は正多角形等の多面回転部材を使って
実施される。
せられた高強疲の放射ビームが生成すべき像を示す電気
信号に従って選択的に変調され、この変調されたビーム
が記録部材の光導電性表面を横切って走査される。一般
に、ビームの走査は正多角形等の多面回転部材を使って
実施される。
変調を行うため、現在の変調器は一般にガラス又はテル
ル二酸化物から成る0しかしこのような変調器は、制限
された帯域中を有し、電力消St力i大きい0 この種のスキャナでは、スキャナ記録部材の所望な斜出
レベルを得るべきであるなら、特に好ましくない像パッ
クグランドが消去されるべきであるなら、記録部材で一
定の最小強度レベル≠(得られねは外らない。そのため
、変調器によって伝送される走査ビームの強度は、例え
ば変調器やその他系の桐成部品における無効性や非点収
差に基く系中の光州を相殺するのに充分でなければなら
ない。最も厳しい解像度モード、つまりハーフトーン印
刷にとって不可欠な/ピクセルオン//ピクセルオフの
像AIエタノン動作される一般的なパルス像形成スキャ
ナの場合、走査ビームの中心帯域と7次の上下側帯域が
伝送される必要があシ、変調器の帯域中能力がこれを行
うのに充分でなければいけない。ψに、走査エレメント
の面上でビームをトラックするのが好ましく、これは追
加の変調器帯域中を必要とする。
ル二酸化物から成る0しかしこのような変調器は、制限
された帯域中を有し、電力消St力i大きい0 この種のスキャナでは、スキャナ記録部材の所望な斜出
レベルを得るべきであるなら、特に好ましくない像パッ
クグランドが消去されるべきであるなら、記録部材で一
定の最小強度レベル≠(得られねは外らない。そのため
、変調器によって伝送される走査ビームの強度は、例え
ば変調器やその他系の桐成部品における無効性や非点収
差に基く系中の光州を相殺するのに充分でなければなら
ない。最も厳しい解像度モード、つまりハーフトーン印
刷にとって不可欠な/ピクセルオン//ピクセルオフの
像AIエタノン動作される一般的なパルス像形成スキャ
ナの場合、走査ビームの中心帯域と7次の上下側帯域が
伝送される必要があシ、変調器の帯域中能力がこれを行
うのに充分でなければいけない。ψに、走査エレメント
の面上でビームをトラックするのが好ましく、これは追
加の変調器帯域中を必要とする。
一般的な現在の音響−光学変調器は、ガラス又はテルル
ニー酸化物(T@02)から成る。しかし、これら材料
の基本的逐物質特性のため、これら変調器の動作帯域中
れ制限されておシ、又との種変調器は走査ラインにわた
って必要な強度の走査ビームを伝送し、高速、・高解像
度の像形成に必要な周波数を達成しなから面トラッキン
グを可能とするのに要する帯域中能力を持たない。
ニー酸化物(T@02)から成る。しかし、これら材料
の基本的逐物質特性のため、これら変調器の動作帯域中
れ制限されておシ、又との種変調器は走査ラインにわた
って必要な強度の走査ビームを伝送し、高速、・高解像
度の像形成に必要な周波数を達成しなから面トラッキン
グを可能とするのに要する帯域中能力を持たない。
(発明の目的と構成)
本発明は上記の問題を解決し、高速/高解像力の走査が
可能であると同時に変調器の動力消費を大巾に減少し得
る改良形変調器を提供するもので、変調器は記録部材、
高強度の電磁放射ビーム、及び配録部材とビームの間に
介在され、ビームを遮断し配録部拐を横切ってビームを
繰返し走査するための複数の面を有する回転走査エレメ
ントを有するスキャナと組合され7更に該変調器は少く
とも500.MHzの周波数で動作可能で、像信号の超
高速処理を与えると共に、記録部材上での同時高速印刷
を可能とする実質上純粋な非ドープリン化ガリウム結晶
から成シ、該変向体結晶は中心帯域と一緒に7次対の上
下側帯域を捕えるため解像モードで動作されるノクルス
像形成スキャナに対し比較的広い帯域を有し、スキャナ
記録部材に充分な光強度を与えて、記録部材を嬉出させ
ると共に像を与え;走査エレメントの面が記録部材上へ
の走査のため、中心帯域及び少くとも7次対の上下側帯
域を捕えるのに充分な回申を有する。
可能であると同時に変調器の動力消費を大巾に減少し得
る改良形変調器を提供するもので、変調器は記録部材、
高強度の電磁放射ビーム、及び配録部材とビームの間に
介在され、ビームを遮断し配録部拐を横切ってビームを
繰返し走査するための複数の面を有する回転走査エレメ
ントを有するスキャナと組合され7更に該変調器は少く
とも500.MHzの周波数で動作可能で、像信号の超
高速処理を与えると共に、記録部材上での同時高速印刷
を可能とする実質上純粋な非ドープリン化ガリウム結晶
から成シ、該変向体結晶は中心帯域と一緒に7次対の上
下側帯域を捕えるため解像モードで動作されるノクルス
像形成スキャナに対し比較的広い帯域を有し、スキャナ
記録部材に充分な光強度を与えて、記録部材を嬉出させ
ると共に像を与え;走査エレメントの面が記録部材上へ
の走査のため、中心帯域及び少くとも7次対の上下側帯
域を捕えるのに充分な回申を有する。
(発明の実施例)
回向中特に第1.−図を参照すれば、本発明の改良形音
曽−光孝変調器を具備するのに適した型で、番号10に
よってその全体を表わした具体例としてのラスタースキ
ャナが示しである。ラスタースキャナ10けラスター出
力スキャナ(RO5)型スキャナから成り、変調器12
により像信号に従って変調された高強度放射つまり光の
ビーム13が、記録部材18の光導電面19を横切って
走査され、記録部材を像の形状に露出する。記録部材1
8は、適切な駆動手段(図示せず)によって矢印11で
示すように、低速走査すなわちY方向に移動されている
。尚、各種のゼログラフィツク及び非ゼログラフィック
記録表面を使用することができる。例えば記録部材18
は、ドラム、ベルト、グレート、光感知性フィルム、被
覆紙ウェブ又は切断シート等で構成し得る。ビーム13
は、レーザ16等電磁放射の適切なビーム源から得られ
る。
曽−光孝変調器を具備するのに適した型で、番号10に
よってその全体を表わした具体例としてのラスタースキ
ャナが示しである。ラスタースキャナ10けラスター出
力スキャナ(RO5)型スキャナから成り、変調器12
により像信号に従って変調された高強度放射つまり光の
ビーム13が、記録部材18の光導電面19を横切って
走査され、記録部材を像の形状に露出する。記録部材1
8は、適切な駆動手段(図示せず)によって矢印11で
示すように、低速走査すなわちY方向に移動されている
。尚、各種のゼログラフィツク及び非ゼログラフィック
記録表面を使用することができる。例えば記録部材18
は、ドラム、ベルト、グレート、光感知性フィルム、被
覆紙ウェブ又は切断シート等で構成し得る。ビーム13
は、レーザ16等電磁放射の適切なビーム源から得られ
る。
当業者には明らかなように、一般的な現在の変調器はビ
ーム13の進路を横切って配置されたガラス(独国マイ
ンツ所在のScl’tott And Gene社製S
F−g変調器等)又はテルルニ酸化物(TaO2)等の
適切な光学材料から成るブロック状エレメント20で構
成されている。変換素子21が変調器エレメント20の
一面に結合され、変換素子21で発生された音響波(番
号22 、22’ で示す)がビーム13の軸と略直角
な軸に沿ってエレメント20中を伝播する。適切な「、
f1発生器24はライン25を介し適切な信号ミキサー
26の一人力に接PiF、された出力を有し、ミキサー
26の出力がライン27と増巾器2Bを介し変換素子2
10入力に接続されている。任意の適切なソースつまり
通信チャネル、メモリ等から得られる像信号は、ライン
29を介しξキサー26の別の入力に接続される。
ーム13の進路を横切って配置されたガラス(独国マイ
ンツ所在のScl’tott And Gene社製S
F−g変調器等)又はテルルニ酸化物(TaO2)等の
適切な光学材料から成るブロック状エレメント20で構
成されている。変換素子21が変調器エレメント20の
一面に結合され、変換素子21で発生された音響波(番
号22 、22’ で示す)がビーム13の軸と略直角
な軸に沿ってエレメント20中を伝播する。適切な「、
f1発生器24はライン25を介し適切な信号ミキサー
26の一人力に接PiF、された出力を有し、ミキサー
26の出力がライン27と増巾器2Bを介し変換素子2
10入力に接続されている。任意の適切なソースつまり
通信チャネル、メモリ等から得られる像信号は、ライン
29を介しξキサー26の別の入力に接続される。
第2図に示した変陶器は、ブラッグ(sragg)の1
1折モードで動作される。像信号の入力が10#の場合
、ミキサー26が)れ止器24の「、f、出力を抑制す
るため、変調器エレメント20内に非音響波(番号22
で示す)が発生する。この状態で、ビーム13は回折さ
れずにエレメント20を通過し、0次ビーム14として
轡、われる。一方像信号の入力が@/#の場合は、ミキ
サー26が発生器24の「、f、出力を変換素子21へ
導くため、変換素子21によって発生された音響波(番
号22’で示す)がエレメント20を通過する。音44
)波がビーム13を、7次っまし書込みビーム15に回
折する。図示の構成において、7次ビーム15が暑込み
ビームとして使われるのに対し、0次ビーム14は適切
なストツノ43oに衝突する。
1折モードで動作される。像信号の入力が10#の場合
、ミキサー26が)れ止器24の「、f、出力を抑制す
るため、変調器エレメント20内に非音響波(番号22
で示す)が発生する。この状態で、ビーム13は回折さ
れずにエレメント20を通過し、0次ビーム14として
轡、われる。一方像信号の入力が@/#の場合は、ミキ
サー26が発生器24の「、f、出力を変換素子21へ
導くため、変換素子21によって発生された音響波(番
号22’で示す)がエレメント20を通過する。音44
)波がビーム13を、7次っまし書込みビーム15に回
折する。図示の構成において、7次ビーム15が暑込み
ビームとして使われるのに対し、0次ビーム14は適切
なストツノ43oに衝突する。
7次ビーム15は像形成レンズ32を通優し、回転正多
角形35の形状をした走査エレメントの鏡面34に入射
する。回転正多角形35の鏡面で反射されたビーム1゛
5が記録部材18の光導電面19に入射し、正多角形3
5の回転動がビーム15を高速走査つまシX方向に光導
電面19を横切って実質上掃引し、各掃引毎に像ライン
を選択的に無用する。この結果、変調器12に入力され
た像信号の内容に応じて、導電面上に静電潜像が形成さ
れる。
角形35の形状をした走査エレメントの鏡面34に入射
する。回転正多角形35の鏡面で反射されたビーム1゛
5が記録部材18の光導電面19に入射し、正多角形3
5の回転動がビーム15を高速走査つまシX方向に光導
電面19を横切って実質上掃引し、各掃引毎に像ライン
を選択的に無用する。この結果、変調器12に入力され
た像信号の内容に応じて、導電面上に静電潜像が形成さ
れる。
当業者には明らかなように、記録部材18の光導電面1
9はビーム15による蕗出に先立ちコロトロンによって
一様に帯電されている。ビーム15による話出後、記録
部材1−8の光導電面19上に形成された静電潜像18
が現像され、紙等適切なコピー基材へ転写され、次いで
定着されて永久コピーを与える。転写後、光導電面19
は清掃され、次の帯電前に残っている現像材を除去する
。
9はビーム15による蕗出に先立ちコロトロンによって
一様に帯電されている。ビーム15による話出後、記録
部材1−8の光導電面19上に形成された静電潜像18
が現像され、紙等適切なコピー基材へ転写され、次いで
定着されて永久コピーを与える。転写後、光導電面19
は清掃され、次の帯電前に残っている現像材を除去する
。
次に第3図を参照すると、・臂ルス像形成スキャナの分
野における通常の技術を有する者には明らかなように、
/ピクセルオン//ピクセルオフ像パターンにおける変
調器12の出力側に現われるiF込みビーム15の光分
布形状が、最大強度の主帯域(つまり中心帯域;番号1
5−0で示す)及び徐々に減少する強度の上下側帯域(
それぞれ番号15+1 、15+2 、 ・・・・・−
15+nと15−1゜15−2.・・・・・・15−n
で示す)として表わしである。ノやルス像形成を可能と
し、最も厳しいスキャナ動作モードと一般に見なされて
いるもの(すなわチ/ビクセルオン//ピクセルオフ像
パターン)を許容するためには、書込みビーム15がビ
ームの主帯域15−0とビームの7次上下側帯域15+
1.15−1から成るのが極めて望ましい。
野における通常の技術を有する者には明らかなように、
/ピクセルオン//ピクセルオフ像パターンにおける変
調器12の出力側に現われるiF込みビーム15の光分
布形状が、最大強度の主帯域(つまり中心帯域;番号1
5−0で示す)及び徐々に減少する強度の上下側帯域(
それぞれ番号15+1 、15+2 、 ・・・・・−
15+nと15−1゜15−2.・・・・・・15−n
で示す)として表わしである。ノやルス像形成を可能と
し、最も厳しいスキャナ動作モードと一般に見なされて
いるもの(すなわチ/ビクセルオン//ピクセルオフ像
パターン)を許容するためには、書込みビーム15がビ
ームの主帯域15−0とビームの7次上下側帯域15+
1.15−1から成るのが極めて望ましい。
又それらの帯域を捕えるため、正多角形35の各面34
の巾Wは、主帯域及び7次の上下側帯域15−0.15
+1.15−1を充分に包含するものとされる。
の巾Wは、主帯域及び7次の上下側帯域15−0.15
+1.15−1を充分に包含するものとされる。
主帯域の中心周波数を/e で表わせば、上下側帯域1
5+1.15+2.・・・・・・15+n及び15−1
、15−2 、 = 15− nの周波数/inはそ
れぞれ主帯域15−0に対して次の関係からめられる: an =/c±nル 、/=l/T 但しs /v は主帯域から7次の上方(又は下方)側
帯域までの帯線分離周波数、■は連続する像信号間の時
間(Tは第2図に示す)である。
5+1.15+2.・・・・・・15+n及び15−1
、15−2 、 = 15− nの周波数/inはそ
れぞれ主帯域15−0に対して次の関係からめられる: an =/c±nル 、/=l/T 但しs /v は主帯域から7次の上方(又は下方)側
帯域までの帯線分離周波数、■は連続する像信号間の時
間(Tは第2図に示す)である。
例えばs T = 2 A、A 7 n5ec で俊信
号速度が75 M blts/s@c とすると、主帯
域と7次の上方(又は下方)側帯線間の帯域介離(/v
・)は列6.乙りn5ec つまり3り、5MHzと成
る。従って、7次の上下側帯域15+1.15−1は主
帯替からそれぞれ+37A; MHz 、 −37,!
; MHzだけ肇位し、コ次の上下側帯域15+2.1
5−2は主帯域から+/ / 2.5 MHz 、 −
/ / 2J MHzだけ変位し、等々と成る。主帯域
15−O及び7次の上下側帯#15+1 、15−1を
捕えるのに充分力面中W(周波e範囲)を有する多角形
35にとって必要な帯域中は、次の関係によってめられ
る: W== /、2 A; (,27V)o従ってこ
の場合は、W=2.!r /v = (2,3) (3
7,3) =9 llMHz である0 空間的範囲の点から見ると、血中Ws は次の式%式%
: 但し、λは光の波長、Fは(変―器と正多角形藺)の変
調器後方光学系の爽効焦点距fiVa は変調器内の音
速、1は正多角形の鏝面における光λ射角である。
号速度が75 M blts/s@c とすると、主帯
域と7次の上方(又は下方)側帯線間の帯域介離(/v
・)は列6.乙りn5ec つまり3り、5MHzと成
る。従って、7次の上下側帯域15+1.15−1は主
帯替からそれぞれ+37A; MHz 、 −37,!
; MHzだけ肇位し、コ次の上下側帯域15+2.1
5−2は主帯域から+/ / 2.5 MHz 、 −
/ / 2J MHzだけ変位し、等々と成る。主帯域
15−O及び7次の上下側帯#15+1 、15−1を
捕えるのに充分力面中W(周波e範囲)を有する多角形
35にとって必要な帯域中は、次の関係によってめられ
る: W== /、2 A; (,27V)o従ってこ
の場合は、W=2.!r /v = (2,3) (3
7,3) =9 llMHz である0 空間的範囲の点から見ると、血中Ws は次の式%式%
: 但し、λは光の波長、Fは(変―器と正多角形藺)の変
調器後方光学系の爽効焦点距fiVa は変調器内の音
速、1は正多角形の鏝面における光λ射角である。
正多角形を妥尚なサイズとし、RO9の性能を高めるた
めにけ、ビームが記録部材18の光導電面19を横切っ
て走査開始(SOS)位置37から走査中心(COS)
位置38を通り走査終了(EO5)位置39へと走査さ
れるとき、書込みビーム15を正多角形35の移動面3
4上でトラックするのが望ましい。これを行うには、第
1If’i?1を参照すれば明らかなように、追加の帯
域が必要である。すなわち、第1の例において主帯域1
5−〇と7次の上下側帯域15+1.15−1から成る
N込みビーム15を与えるのに約9 llMHzの帯域
中を賛するとすれば、面が薔込みビーム15をトラック
するのに、すなわちビーム15が移動面に入射する点を
変位させ、ビーム入射点を実質上固定した面上に保持す
るのに、更に追加の帝城巾7 j; MHzが必要であ
る。従ってこ\で論じている側において、所要強度の書
込みビーム15を与え、ビームを正多角形35の移動面
34上でトラックするのに必要々全帯域中は、約/ 6
9 MHz(つまり9 ’l MHz +7 !r M
Hz )となる。
めにけ、ビームが記録部材18の光導電面19を横切っ
て走査開始(SOS)位置37から走査中心(COS)
位置38を通り走査終了(EO5)位置39へと走査さ
れるとき、書込みビーム15を正多角形35の移動面3
4上でトラックするのが望ましい。これを行うには、第
1If’i?1を参照すれば明らかなように、追加の帯
域が必要である。すなわち、第1の例において主帯域1
5−〇と7次の上下側帯域15+1.15−1から成る
N込みビーム15を与えるのに約9 llMHzの帯域
中を賛するとすれば、面が薔込みビーム15をトラック
するのに、すなわちビーム15が移動面に入射する点を
変位させ、ビーム入射点を実質上固定した面上に保持す
るのに、更に追加の帝城巾7 j; MHzが必要であ
る。従ってこ\で論じている側において、所要強度の書
込みビーム15を与え、ビームを正多角形35の移動面
34上でトラックするのに必要々全帯域中は、約/ 6
9 MHz(つまり9 ’l MHz +7 !r M
Hz )となる。
高速、高解像力の像形成を可能とするためには、り0θ
MHz又はそれ以上の中心周波数/c が望ましい。第
り図には、CO5位置における中心周波数をSOθMH
zとした場合における上下側帯域周波数f土、とSO5
及EO8位置37.39における中心周波数がそれぞれ
示しである。
MHz又はそれ以上の中心周波数/c が望ましい。第
り図には、CO5位置における中心周波数をSOθMH
zとした場合における上下側帯域周波数f土、とSO5
及EO8位置37.39における中心周波数がそれぞれ
示しである。
特に第S図を参照すると、一般的なガラス変調器(番号
42で表わす)とTe O2変調器(番号43で衣わす
)についてのブラッグ回折の強度曲線が示しである。同
図から明らかなように、強度的#4142 、43.特
にガラス変調器についての強度曲線42は比較的狭い。
42で表わす)とTe O2変調器(番号43で衣わす
)についてのブラッグ回折の強度曲線が示しである。同
図から明らかなように、強度的#4142 、43.特
にガラス変調器についての強度曲線42は比較的狭い。
この結果、一般的な動作強度レベル(つまり相対強度0
.9)で得られる帯域中は制限されている。すなわちガ
ラス変調器の場合(曲線42)の帯域中は約37 MH
2、T@102変調器の場合(曲線43)の帯域中は約
93 MHzである。
.9)で得られる帯域中は制限されている。すなわちガ
ラス変調器の場合(曲線42)の帯域中は約37 MH
2、T@102変調器の場合(曲線43)の帯域中は約
93 MHzである。
第6,71菌には、上記のガラス及びTeO□ 変調器
で得られる制限された帯域中の影響が各々示しである。
で得られる制限された帯域中の影響が各々示しである。
図中ガラス及びTe O2変調器における露出分布は極
めて厳しい/ビクセルオン//ビクセルオフ像ノ母ター
ンについて示してあり、SOS。
めて厳しい/ビクセルオン//ビクセルオフ像ノ母ター
ンについて示してあり、SOS。
cos及びEO5の各位置37,38.39についてそ
れぞれプロットされている。線45が、像のパックグラ
ンド領域における記録部材18の光導電面19で最適な
放電をもたらし、好ましくないパックランドを取除くの
に必要と一般に考えられる露出レベルを表わしている。
れぞれプロットされている。線45が、像のパックグラ
ンド領域における記録部材18の光導電面19で最適な
放電をもたらし、好ましくないパックランドを取除くの
に必要と一般に考えられる露出レベルを表わしている。
ガラス#訳器の醋出分布から明らかなように、この場合
最適なパックグランド露出に必要な強Vレベルはsos
、cos又EO5位敏のいずれにおいても達せられて
いない。他方一般的なTe O2変調器の場合、量適な
ノぐツクグランド露出に必要な強度レベルはsosとc
osでのみ達せられているが、EO8位置では達せられ
ていない。
最適なパックグランド露出に必要な強Vレベルはsos
、cos又EO5位敏のいずれにおいても達せられて
いない。他方一般的なTe O2変調器の場合、量適な
ノぐツクグランド露出に必要な強度レベルはsosとc
osでのみ達せられているが、EO8位置では達せられ
ていない。
更に、ガラスとテルル二酸化物の物質特性により、この
糧の変調器は変換素子から発生された音響音場の強い吸
収物となる傾向を有する。音4f吸収は周波数の平方と
略比例しているので、変調器材料の音響吸収が高け−れ
は使用可能な音響周波数はそわだけ低くなる。又sf’
)ラグ変調器の帯域中は音響中心周波数に比例している
。その結果、ガラス及びテルル二酸化物の両変調器につ
いて上記の帯域中37WIHz、93MHzをそれぞれ
達成するのに必要なガラス及びテルルニ瞬化物型変調器
の量適中心周波# (/C) は比較的低く、一般にガ
ラスの場合/θj MHz 、テルル二酸化物の場合2
4 k MHzである。すなわち、高速・高解像力の走
査に必要な約SθOMHzという高周波数の音響駆動は
使用不能である。
糧の変調器は変換素子から発生された音響音場の強い吸
収物となる傾向を有する。音4f吸収は周波数の平方と
略比例しているので、変調器材料の音響吸収が高け−れ
は使用可能な音響周波数はそわだけ低くなる。又sf’
)ラグ変調器の帯域中は音響中心周波数に比例している
。その結果、ガラス及びテルル二酸化物の両変調器につ
いて上記の帯域中37WIHz、93MHzをそれぞれ
達成するのに必要なガラス及びテルルニ瞬化物型変調器
の量適中心周波# (/C) は比較的低く、一般にガ
ラスの場合/θj MHz 、テルル二酸化物の場合2
4 k MHzである。すなわち、高速・高解像力の走
査に必要な約SθOMHzという高周波数の音響駆動は
使用不能である。
上記から明らかと思われるが、高速・高解像度の像処理
用であると同時に1移動する正多角形上における書込み
ビームの所望な面トラッキングを可能とする上述のよう
なガラス及びTeO2型変調器等現在使われている従来
の変調器の有用性は、これらの型の変調器に固有な材料
と帯域中の制限によって制約されている。更に、現在使
われている変調器の電力消費は比較的大きい。例えば、
上記ガラス型変調器の場合、変調器を駆動するのに必要
が電力は約−ワットである。又T@ 02 型変詞器の
場合、変調器を駆動するのに必要な動力は約/ワットで
ある。
用であると同時に1移動する正多角形上における書込み
ビームの所望な面トラッキングを可能とする上述のよう
なガラス及びTeO2型変調器等現在使われている従来
の変調器の有用性は、これらの型の変調器に固有な材料
と帯域中の制限によって制約されている。更に、現在使
われている変調器の電力消費は比較的大きい。例えば、
上記ガラス型変調器の場合、変調器を駆動するのに必要
が電力は約−ワットである。又T@ 02 型変詞器の
場合、変調器を駆動するのに必要な動力は約/ワットで
ある。
当然理解されるごとく、帯域中が高まることによる顕著
な利点は、変調器の能力がより高速でより多くのデータ
を処理できるようになることにある。インチ毎のスイッ
ト数が増加するため、配録部材でのビームスポットサイ
ズが小さくなり、従って面サイズが増大し、より高い変
調器の帯域を必要とする。
な利点は、変調器の能力がより高速でより多くのデータ
を処理できるようになることにある。インチ毎のスイッ
ト数が増加するため、配録部材でのビームスポットサイ
ズが小さくなり、従って面サイズが増大し、より高い変
調器の帯域を必要とする。
次に図面の第g、9図を参照すれば、番号12’で全体
を示した本発明の改良形変調器が示しである。fa器1
2’ は、前述したガラス及びTeO2型変調器等の現
在使われている変−器より著しく大きい帯域でs !;
00 MHz又はそれより高い中心周波数において動
作可能であシ、このためよシ小さいスポットサイズを用
いよシ高速で像データを処理することができる。更に、
変調器12’ は大巾に少い電力つまシ約o、lIワッ
トでよく、赤外域において伝送可能である。
を示した本発明の改良形変調器が示しである。fa器1
2’ は、前述したガラス及びTeO2型変調器等の現
在使われている変−器より著しく大きい帯域でs !;
00 MHz又はそれより高い中心周波数において動
作可能であシ、このためよシ小さいスポットサイズを用
いよシ高速で像データを処理することができる。更に、
変調器12’ は大巾に少い電力つまシ約o、lIワッ
トでよく、赤外域において伝送可能である。
第ざ、9図において、変調器12’ の結晶基板50は
高純度(非ドープ)のリン化ガリウム(GaP)結晶又
は幾分n−ドーグされた材料で、好ましくけ3×l0c
IIL 以下のキャリア11とダX / 0” crn
−2以上の転位密劇を有する材料から成る。全体がほぼ
矩形状の基板50は、レーデビーム13が入射する研磨
入力面51と0次及び7次両ビーム14.15がそれぞ
れそこから出射する研磨出力面52を有する。基鈑50
の側面53は、音ψ反射を抑制するため斜めにカットす
るのが好ましい。
高純度(非ドープ)のリン化ガリウム(GaP)結晶又
は幾分n−ドーグされた材料で、好ましくけ3×l0c
IIL 以下のキャリア11とダX / 0” crn
−2以上の転位密劇を有する材料から成る。全体がほぼ
矩形状の基板50は、レーデビーム13が入射する研磨
入力面51と0次及び7次両ビーム14.15がそれぞ
れそこから出射する研磨出力面52を有する。基鈑50
の側面53は、音ψ反射を抑制するため斜めにカットす
るのが好ましい。
例えばリチウムニオブ酸塩(LiNbo3) から成る
ピエゾ電気変換素子60が設けられ、該変換素子60は
頂部及び反対電極63.64の間に挾持されている。所
望の高い中心−波数/C(っま)りθθMHz )を得
るため、ピエゾ電気変換素子60は極めて薄く、約7.
4tμmの厚さを有する。
ピエゾ電気変換素子60が設けられ、該変換素子60は
頂部及び反対電極63.64の間に挾持されている。所
望の高い中心−波数/C(っま)りθθMHz )を得
るため、ピエゾ電気変換素子60は極めて薄く、約7.
4tμmの厚さを有する。
反対vL極64は、基板50の側面55上に付着された
クロム−金又はニッケルークロム合金から成るのが好ま
しい。反対電極64はインジウム(In)又はスズ(T
I)から成る適切な適合接着剤61で変換素子60へ結
合され、適合接着剤61け両者間にトラップされた埃等
のいかなる微粒子もが極めて薄いピエゾ電気変換素子6
0を歪ませるのを防ぐ役割を果す。結合力を高めるため
、変換素子60が基板50へ圧着される前に、クロム・
−金又はニッケルークロム合金を変換素子60上に付着
してもよい。頂部tlIi、63は、ピエゾ電気変換素
子60の外表面上に付着させた金から成るのが好ましい
〇 ピエゾ電気変換素子60は2車ラインコネクタ68によ
って増巾器28の出力側へ電気的に接続され、コネクタ
68の一方のリード69は頂部電極63へ電気的に接続
されている。アースリードの役割を果す他方のり−ド7
0は、反対電極64へ電気的に接続されている。
クロム−金又はニッケルークロム合金から成るのが好ま
しい。反対電極64はインジウム(In)又はスズ(T
I)から成る適切な適合接着剤61で変換素子60へ結
合され、適合接着剤61け両者間にトラップされた埃等
のいかなる微粒子もが極めて薄いピエゾ電気変換素子6
0を歪ませるのを防ぐ役割を果す。結合力を高めるため
、変換素子60が基板50へ圧着される前に、クロム・
−金又はニッケルークロム合金を変換素子60上に付着
してもよい。頂部tlIi、63は、ピエゾ電気変換素
子60の外表面上に付着させた金から成るのが好ましい
〇 ピエゾ電気変換素子60は2車ラインコネクタ68によ
って増巾器28の出力側へ電気的に接続され、コネクタ
68の一方のリード69は頂部電極63へ電気的に接続
されている。アースリードの役割を果す他方のり−ド7
0は、反対電極64へ電気的に接続されている。
第1θ図を参照すると、変調器12′ を用いた場合の
露出分布が、従来形のガラス及びTe O2変調器につ
いて先に示したのと同じ最も厳しい/♂クセルオン//
ビク七シルオフ像パターン関し。
露出分布が、従来形のガラス及びTe O2変調器につ
いて先に示したのと同じ最も厳しい/♂クセルオン//
ビク七シルオフ像パターン関し。
それぞれsos 、cos及びEO8(7)各位[37
138,39につきプロットしである。同図から明らか
なように、変調器12’ で得られる露出レベルはso
sとcosの駒位置37.38について、最適なパック
グランド除去(ライン45で表わす)に必要なレベルを
けるかに上回っている。又変調器12′ で得られる捲
出レベルは、EO8位置39についてもガラス及びTe
O2型変調器で得られるレベルよりはるかに高く、Eo
s位置について変調器121 で得られる露出レベルは
最適なパックグランド除去に必要な露出レベルと略等し
い。
138,39につきプロットしである。同図から明らか
なように、変調器12’ で得られる露出レベルはso
sとcosの駒位置37.38について、最適なパック
グランド除去(ライン45で表わす)に必要なレベルを
けるかに上回っている。又変調器12′ で得られる捲
出レベルは、EO8位置39についてもガラス及びTe
O2型変調器で得られるレベルよりはるかに高く、Eo
s位置について変調器121 で得られる露出レベルは
最適なパックグランド除去に必要な露出レベルと略等し
い。
Eに、変調器12′ によって得られる走査線の横断方
向に沿った像の一様性と像のコントラストは、ガラス及
びTeO2型変−器で得られるものより大巾に優れてい
る。
向に沿った像の一様性と像のコントラストは、ガラス及
びTeO2型変−器で得られるものより大巾に優れてい
る。
再び第9図を参照すると、変り鳩器12’ による回折
強度曲線が番号49で示しである。これから明らかなよ
うに、変−器12’ の帯域中は約/7SMHzで、現
在最良の変調器つtねTeo2 型置―器の略コ倍であ
る。
強度曲線が番号49で示しである。これから明らかなよ
うに、変−器12’ の帯域中は約/7SMHzで、現
在最良の変調器つtねTeo2 型置―器の略コ倍であ
る。
以上本発明を例示の構造を参照して説明したが、本発明
は上述の詳細に限定されるものでなく、特許請求の範囲
に記載の範囲に入る変更や変形も本発明に含まれるもの
である。
は上述の詳細に限定されるものでなく、特許請求の範囲
に記載の範囲に入る変更や変形も本発明に含まれるもの
である。
第1図は像信号の入力に応じて走査ビームを質請する音
響−光学型置1llll器により、記録部材の光導電面
を楊切って高強奪のビームを走査するための回転正多角
形を備えた具体例としてのラスター出力スキャナーを示
す概略図; 第2図は第1嫡に示したスキャナーの変調器部分の拡大
図; 第3図はスキャナ正多角形の一面の拡大図で、走査ビー
ムの中心弗域と7次の上下側帝城を示す図; 第q図線第3図に示した正多角形の面の別の図で、面を
横切ってビームを走査する面トラッキングの結果を示す
図; 第S図はガラス及びテルル二酸化物等一般的な変調器の
周波数応答を本発明の変調器と比較したグラフ; 第6図は一般的なガラス型変調器に関する/ビク士ルオ
ン//ピクセルオフ像ノリーンの露出プロットで、走査
ビームの露出を走査線に沿った各点につきパックグラン
ドの除去に必要な最適強度レベルと比較l−た図; 第7図は一般的なテルルニ酔化物型変調器に関する/ピ
クセルオン//ピクセルオフ像パターンの露出プロット
で、走査ビームの露出を走査線に沿った各点につきパッ
クグランドの除去に必要な最適強度レベルと比較した図
; 第g図は本発明の変1#器の拡大等角投影図;第9図は
第g図に示した変調器の断面図で、変換素子の構造を詳
細に示す図;及び 第70図は本発明の変調器に関する/ピクセルオン//
ビクセルオフ像パターンの露出プロットで、走査ビーム
の露出を走査線に沿った各点につきノ々ツクグランドの
除去に必要な最適強度レベルと比較した図である。 lO・・・・・・スキャナ、12′・・・・・・変調器
、13・・曲ヒーム、18・・・・・・記録部材〜、2
4・・・・・・・・・標準信号発生手段、26・・面信
号混合手段(ミキサー)、29・・曲第1接続手段(ラ
イン)、34・・・・・・走査エレメントの面、35・
・四走査エレメント(回転正多角形)、5o・・曲結晶
基板、60・・・・・・ピエゾ電気変換素子、61・・
・・・・第11接続手段(接着剤)、63.64・・曲
電極、69・・・・・・第、2接続手R(リード)、7
o・曲・第3接続手段(リード)% w・・曲面中。 FIG、 3 FIG、 4 FIG5 “cIfI誘fj ― 安策〜橢■
響−光学型置1llll器により、記録部材の光導電面
を楊切って高強奪のビームを走査するための回転正多角
形を備えた具体例としてのラスター出力スキャナーを示
す概略図; 第2図は第1嫡に示したスキャナーの変調器部分の拡大
図; 第3図はスキャナ正多角形の一面の拡大図で、走査ビー
ムの中心弗域と7次の上下側帝城を示す図; 第q図線第3図に示した正多角形の面の別の図で、面を
横切ってビームを走査する面トラッキングの結果を示す
図; 第S図はガラス及びテルル二酸化物等一般的な変調器の
周波数応答を本発明の変調器と比較したグラフ; 第6図は一般的なガラス型変調器に関する/ビク士ルオ
ン//ピクセルオフ像ノリーンの露出プロットで、走査
ビームの露出を走査線に沿った各点につきパックグラン
ドの除去に必要な最適強度レベルと比較l−た図; 第7図は一般的なテルルニ酔化物型変調器に関する/ピ
クセルオン//ピクセルオフ像パターンの露出プロット
で、走査ビームの露出を走査線に沿った各点につきパッ
クグランドの除去に必要な最適強度レベルと比較した図
; 第g図は本発明の変1#器の拡大等角投影図;第9図は
第g図に示した変調器の断面図で、変換素子の構造を詳
細に示す図;及び 第70図は本発明の変調器に関する/ピクセルオン//
ビクセルオフ像パターンの露出プロットで、走査ビーム
の露出を走査線に沿った各点につきノ々ツクグランドの
除去に必要な最適強度レベルと比較した図である。 lO・・・・・・スキャナ、12′・・・・・・変調器
、13・・曲ヒーム、18・・・・・・記録部材〜、2
4・・・・・・・・・標準信号発生手段、26・・面信
号混合手段(ミキサー)、29・・曲第1接続手段(ラ
イン)、34・・・・・・走査エレメントの面、35・
・四走査エレメント(回転正多角形)、5o・・曲結晶
基板、60・・・・・・ピエゾ電気変換素子、61・・
・・・・第11接続手段(接着剤)、63.64・・曲
電極、69・・・・・・第、2接続手R(リード)、7
o・曲・第3接続手段(リード)% w・・曲面中。 FIG、 3 FIG、 4 FIG5 “cIfI誘fj ― 安策〜橢■
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 l 記録部材を走査し該記録部材上に像を生成する解像
モードで動作可能であシ;高強度の電磁放射線ビームを
出力し、上記記録部材とビーム間に介在された回転走査
エレメントを含み、該走査エレメントがビームを遮断し
記録部材を横切ってビームを繰返し走査するための複数
の面を有するノ4ルス像形成スキャナにおいて:像信号
に応じて上記ビームを変調し、像信号の信号内容に応じ
て上記記録部材上に像を形成する音響−光学型置■器を
備え、この変陶器が、実質上純粋な非ドーグ・リン化ガ
リウム結晶から成)、少くともSθθMHzの中心動作
周波数を有し、高速・高解像縦走査のため像信号に応じ
てビームの高周披変刺を可能にし、更にビームの中心帯
域と少くと吃ビームの上、下側波帝埴を捕えるため約7
9!re&4χの動作帯域中を有し、走査エレメント面
におけるビームの面トラッキングを可能としながら、記
録部材を上記高層周波数で露出するのに充分な強度を与
えており、上記走査エレメント面が、ビームの中心及び
1次の上下11tIIF帯域を捕えるのに充分な回申を
有し、強度を損わすにビームを記録部材を横切って走査
していることを特徴とするスキャナ。 コ、前記結晶に動作接続されたピエゾ電気変換素子; 少くとも300 MHzの周波数で安定状態の標準信号
を生ずる信号発生手段; 7つの入力が上記信号発生手段の出力に接続された信号
混合手段; 前記像信号用像信号源; 上記信号混合手段の他の入力に像信号源に接続する第1
の手段7 上記信号混合手段が信号発生手段から出力された標準信
号を像信号源から出力された像信号に組合せ、変調駆動
信号を与えるとと;及び上記信号混合手段の変調駆動信
号出力を上記結晶へ接続することによシ、結晶が像信号
に応じて結晶中を通る高周波の音曹波を発生するように
成す第コの手段; を備えた特許請求の範囲第1項記載のスキャナ。 3 前記変換素子がメタル電極間に挾持された薄いピエ
ゾ層から成り; 前記第コ接続手段が信号混合手段を上記電極の一方に接
続し; 第3の手段が上記電極の一方を前記結晶に接続し;更に
、 第ダの手段が他方の電極を結晶に接続し、上記ピエゾ層
と他方の電極間における異物の存在に伴う薄いピエゾ層
の歪みを避けるため適合接着剤から成る; 特許請求の範囲第一項記載のスキャナ。 j 入力される高周波の像信号に応じて高強度の走査ビ
ームを変調し、高速の走査及び像処理を可能とする・千
ルス像形成及びその他の高速・高解像度スキャナで使用
するのに適した改良形音響−光学変調器であってニ リン化ガリウム結晶材料から成る基板で、該リン化ガリ
ウム結晶材料が実質上非ドープで、上記走査ビームの複
数帯域を通過させると共に、少くともSθθMHzの周
波数において変V@器が駆動するのを可能として上記の
高速を達成するのに充分な帯域中能力を与える基板;及
び上記結晶の一壁面に動作接続され、上記像信号に応じ
て変調された高周波音波を結晶内において、上記ビーム
が結晶に入射する方向と略直角な軸に沿って発生さる薄
層のピエゾ電気−音を変換素子; を備えた変調器。 左 前記帯域中能力が少くとも/θOMHzである特許
請求の範囲第ダ項記載の変調器。 ム 異物粒状体が前記変換素子と結晶間にトラップされ
た場合に変換素子が変形するのを防ぐため、変換素子と
結晶間に適合接着剤を含んだ特許請求の範囲第グ項記載
の変調器。
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