JPS60140318A - 高速スキヤナ用GaP変調器 - Google Patents

高速スキヤナ用GaP変調器

Info

Publication number
JPS60140318A
JPS60140318A JP59258429A JP25842984A JPS60140318A JP S60140318 A JPS60140318 A JP S60140318A JP 59258429 A JP59258429 A JP 59258429A JP 25842984 A JP25842984 A JP 25842984A JP S60140318 A JPS60140318 A JP S60140318A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
crystal
scanning
image signal
modulator
signal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP59258429A
Other languages
English (en)
Inventor
クオ リユン イツプ
ジヨセフ ジヨン ダニエル
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Xerox Corp
Original Assignee
Xerox Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Xerox Corp filed Critical Xerox Corp
Publication of JPS60140318A publication Critical patent/JPS60140318A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/29Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the position or the direction of light beams, i.e. deflection
    • G02F1/33Acousto-optical deflection devices
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41JTYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/435Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material
    • B41J2/47Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using the combination of scanning and modulation of light
    • B41J2/471Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using the combination of scanning and modulation of light using dot sequential main scanning by means of a light deflector, e.g. a rotating polygonal mirror

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Facsimile Scanning Arrangements (AREA)
  • Laser Beam Printer (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明はラスター出力スキャナ用の音替−光学変調器に
関し、特に高速ラスター出力スキャナ用の改良形音替−
光学変調器に関する。
(従来技術) 一般的なラスター出力スキャナでは、通常レーザから発
せられた高強疲の放射ビームが生成すべき像を示す電気
信号に従って選択的に変調され、この変調されたビーム
が記録部材の光導電性表面を横切って走査される。一般
に、ビームの走査は正多角形等の多面回転部材を使って
実施される。
変調を行うため、現在の変調器は一般にガラス又はテル
ル二酸化物から成る0しかしこのような変調器は、制限
された帯域中を有し、電力消St力i大きい0 この種のスキャナでは、スキャナ記録部材の所望な斜出
レベルを得るべきであるなら、特に好ましくない像パッ
クグランドが消去されるべきであるなら、記録部材で一
定の最小強度レベル≠(得られねは外らない。そのため
、変調器によって伝送される走査ビームの強度は、例え
ば変調器やその他系の桐成部品における無効性や非点収
差に基く系中の光州を相殺するのに充分でなければなら
ない。最も厳しい解像度モード、つまりハーフトーン印
刷にとって不可欠な/ピクセルオン//ピクセルオフの
像AIエタノン動作される一般的なパルス像形成スキャ
ナの場合、走査ビームの中心帯域と7次の上下側帯域が
伝送される必要があシ、変調器の帯域中能力がこれを行
うのに充分でなければいけない。ψに、走査エレメント
の面上でビームをトラックするのが好ましく、これは追
加の変調器帯域中を必要とする。
一般的な現在の音響−光学変調器は、ガラス又はテルル
ニー酸化物(T@02)から成る。しかし、これら材料
の基本的逐物質特性のため、これら変調器の動作帯域中
れ制限されておシ、又との種変調器は走査ラインにわた
って必要な強度の走査ビームを伝送し、高速、・高解像
度の像形成に必要な周波数を達成しなから面トラッキン
グを可能とするのに要する帯域中能力を持たない。
(発明の目的と構成) 本発明は上記の問題を解決し、高速/高解像力の走査が
可能であると同時に変調器の動力消費を大巾に減少し得
る改良形変調器を提供するもので、変調器は記録部材、
高強度の電磁放射ビーム、及び配録部材とビームの間に
介在され、ビームを遮断し配録部拐を横切ってビームを
繰返し走査するための複数の面を有する回転走査エレメ
ントを有するスキャナと組合され7更に該変調器は少く
とも500.MHzの周波数で動作可能で、像信号の超
高速処理を与えると共に、記録部材上での同時高速印刷
を可能とする実質上純粋な非ドープリン化ガリウム結晶
から成シ、該変向体結晶は中心帯域と一緒に7次対の上
下側帯域を捕えるため解像モードで動作されるノクルス
像形成スキャナに対し比較的広い帯域を有し、スキャナ
記録部材に充分な光強度を与えて、記録部材を嬉出させ
ると共に像を与え;走査エレメントの面が記録部材上へ
の走査のため、中心帯域及び少くとも7次対の上下側帯
域を捕えるのに充分な回申を有する。
(発明の実施例) 回向中特に第1.−図を参照すれば、本発明の改良形音
曽−光孝変調器を具備するのに適した型で、番号10に
よってその全体を表わした具体例としてのラスタースキ
ャナが示しである。ラスタースキャナ10けラスター出
力スキャナ(RO5)型スキャナから成り、変調器12
により像信号に従って変調された高強度放射つまり光の
ビーム13が、記録部材18の光導電面19を横切って
走査され、記録部材を像の形状に露出する。記録部材1
8は、適切な駆動手段(図示せず)によって矢印11で
示すように、低速走査すなわちY方向に移動されている
。尚、各種のゼログラフィツク及び非ゼログラフィック
記録表面を使用することができる。例えば記録部材18
は、ドラム、ベルト、グレート、光感知性フィルム、被
覆紙ウェブ又は切断シート等で構成し得る。ビーム13
は、レーザ16等電磁放射の適切なビーム源から得られ
る。
当業者には明らかなように、一般的な現在の変調器はビ
ーム13の進路を横切って配置されたガラス(独国マイ
ンツ所在のScl’tott And Gene社製S
F−g変調器等)又はテルルニ酸化物(TaO2)等の
適切な光学材料から成るブロック状エレメント20で構
成されている。変換素子21が変調器エレメント20の
一面に結合され、変換素子21で発生された音響波(番
号22 、22’ で示す)がビーム13の軸と略直角
な軸に沿ってエレメント20中を伝播する。適切な「、
f1発生器24はライン25を介し適切な信号ミキサー
26の一人力に接PiF、された出力を有し、ミキサー
26の出力がライン27と増巾器2Bを介し変換素子2
10入力に接続されている。任意の適切なソースつまり
通信チャネル、メモリ等から得られる像信号は、ライン
29を介しξキサー26の別の入力に接続される。
第2図に示した変陶器は、ブラッグ(sragg)の1
1折モードで動作される。像信号の入力が10#の場合
、ミキサー26が)れ止器24の「、f、出力を抑制す
るため、変調器エレメント20内に非音響波(番号22
で示す)が発生する。この状態で、ビーム13は回折さ
れずにエレメント20を通過し、0次ビーム14として
轡、われる。一方像信号の入力が@/#の場合は、ミキ
サー26が発生器24の「、f、出力を変換素子21へ
導くため、変換素子21によって発生された音響波(番
号22’で示す)がエレメント20を通過する。音44
)波がビーム13を、7次っまし書込みビーム15に回
折する。図示の構成において、7次ビーム15が暑込み
ビームとして使われるのに対し、0次ビーム14は適切
なストツノ43oに衝突する。
7次ビーム15は像形成レンズ32を通優し、回転正多
角形35の形状をした走査エレメントの鏡面34に入射
する。回転正多角形35の鏡面で反射されたビーム1゛
5が記録部材18の光導電面19に入射し、正多角形3
5の回転動がビーム15を高速走査つまシX方向に光導
電面19を横切って実質上掃引し、各掃引毎に像ライン
を選択的に無用する。この結果、変調器12に入力され
た像信号の内容に応じて、導電面上に静電潜像が形成さ
れる。
当業者には明らかなように、記録部材18の光導電面1
9はビーム15による蕗出に先立ちコロトロンによって
一様に帯電されている。ビーム15による話出後、記録
部材1−8の光導電面19上に形成された静電潜像18
が現像され、紙等適切なコピー基材へ転写され、次いで
定着されて永久コピーを与える。転写後、光導電面19
は清掃され、次の帯電前に残っている現像材を除去する
次に第3図を参照すると、・臂ルス像形成スキャナの分
野における通常の技術を有する者には明らかなように、
/ピクセルオン//ピクセルオフ像パターンにおける変
調器12の出力側に現われるiF込みビーム15の光分
布形状が、最大強度の主帯域(つまり中心帯域;番号1
5−0で示す)及び徐々に減少する強度の上下側帯域(
それぞれ番号15+1 、15+2 、 ・・・・・−
15+nと15−1゜15−2.・・・・・・15−n
で示す)として表わしである。ノやルス像形成を可能と
し、最も厳しいスキャナ動作モードと一般に見なされて
いるもの(すなわチ/ビクセルオン//ピクセルオフ像
パターン)を許容するためには、書込みビーム15がビ
ームの主帯域15−0とビームの7次上下側帯域15+
1.15−1から成るのが極めて望ましい。
又それらの帯域を捕えるため、正多角形35の各面34
の巾Wは、主帯域及び7次の上下側帯域15−0.15
+1.15−1を充分に包含するものとされる。
主帯域の中心周波数を/e で表わせば、上下側帯域1
5+1.15+2.・・・・・・15+n及び15−1
 、15−2 、 = 15− nの周波数/inはそ
れぞれ主帯域15−0に対して次の関係からめられる: an =/c±nル 、/=l/T 但しs /v は主帯域から7次の上方(又は下方)側
帯域までの帯線分離周波数、■は連続する像信号間の時
間(Tは第2図に示す)である。
例えばs T = 2 A、A 7 n5ec で俊信
号速度が75 M blts/s@c とすると、主帯
域と7次の上方(又は下方)側帯線間の帯域介離(/v
・)は列6.乙りn5ec つまり3り、5MHzと成
る。従って、7次の上下側帯域15+1.15−1は主
帯替からそれぞれ+37A; MHz 、 −37,!
; MHzだけ肇位し、コ次の上下側帯域15+2.1
5−2は主帯域から+/ / 2.5 MHz 、 −
/ / 2J MHzだけ変位し、等々と成る。主帯域
15−O及び7次の上下側帯#15+1 、15−1を
捕えるのに充分力面中W(周波e範囲)を有する多角形
35にとって必要な帯域中は、次の関係によってめられ
る: W== /、2 A; (,27V)o従ってこ
の場合は、W=2.!r /v = (2,3) (3
7,3) =9 llMHz である0 空間的範囲の点から見ると、血中Ws は次の式%式%
: 但し、λは光の波長、Fは(変―器と正多角形藺)の変
調器後方光学系の爽効焦点距fiVa は変調器内の音
速、1は正多角形の鏝面における光λ射角である。
正多角形を妥尚なサイズとし、RO9の性能を高めるた
めにけ、ビームが記録部材18の光導電面19を横切っ
て走査開始(SOS)位置37から走査中心(COS)
位置38を通り走査終了(EO5)位置39へと走査さ
れるとき、書込みビーム15を正多角形35の移動面3
4上でトラックするのが望ましい。これを行うには、第
1If’i?1を参照すれば明らかなように、追加の帯
域が必要である。すなわち、第1の例において主帯域1
5−〇と7次の上下側帯域15+1.15−1から成る
N込みビーム15を与えるのに約9 llMHzの帯域
中を賛するとすれば、面が薔込みビーム15をトラック
するのに、すなわちビーム15が移動面に入射する点を
変位させ、ビーム入射点を実質上固定した面上に保持す
るのに、更に追加の帝城巾7 j; MHzが必要であ
る。従ってこ\で論じている側において、所要強度の書
込みビーム15を与え、ビームを正多角形35の移動面
34上でトラックするのに必要々全帯域中は、約/ 6
9 MHz(つまり9 ’l MHz +7 !r M
Hz )となる。
高速、高解像力の像形成を可能とするためには、り0θ
MHz又はそれ以上の中心周波数/c が望ましい。第
り図には、CO5位置における中心周波数をSOθMH
zとした場合における上下側帯域周波数f土、とSO5
及EO8位置37.39における中心周波数がそれぞれ
示しである。
特に第S図を参照すると、一般的なガラス変調器(番号
42で表わす)とTe O2変調器(番号43で衣わす
)についてのブラッグ回折の強度曲線が示しである。同
図から明らかなように、強度的#4142 、43.特
にガラス変調器についての強度曲線42は比較的狭い。
この結果、一般的な動作強度レベル(つまり相対強度0
.9)で得られる帯域中は制限されている。すなわちガ
ラス変調器の場合(曲線42)の帯域中は約37 MH
2、T@102変調器の場合(曲線43)の帯域中は約
93 MHzである。
第6,71菌には、上記のガラス及びTeO□ 変調器
で得られる制限された帯域中の影響が各々示しである。
図中ガラス及びTe O2変調器における露出分布は極
めて厳しい/ビクセルオン//ビクセルオフ像ノ母ター
ンについて示してあり、SOS。
cos及びEO5の各位置37,38.39についてそ
れぞれプロットされている。線45が、像のパックグラ
ンド領域における記録部材18の光導電面19で最適な
放電をもたらし、好ましくないパックランドを取除くの
に必要と一般に考えられる露出レベルを表わしている。
ガラス#訳器の醋出分布から明らかなように、この場合
最適なパックグランド露出に必要な強Vレベルはsos
 、cos又EO5位敏のいずれにおいても達せられて
いない。他方一般的なTe O2変調器の場合、量適な
ノぐツクグランド露出に必要な強度レベルはsosとc
osでのみ達せられているが、EO8位置では達せられ
ていない。
更に、ガラスとテルル二酸化物の物質特性により、この
糧の変調器は変換素子から発生された音響音場の強い吸
収物となる傾向を有する。音4f吸収は周波数の平方と
略比例しているので、変調器材料の音響吸収が高け−れ
は使用可能な音響周波数はそわだけ低くなる。又sf’
)ラグ変調器の帯域中は音響中心周波数に比例している
。その結果、ガラス及びテルル二酸化物の両変調器につ
いて上記の帯域中37WIHz、93MHzをそれぞれ
達成するのに必要なガラス及びテルルニ瞬化物型変調器
の量適中心周波# (/C) は比較的低く、一般にガ
ラスの場合/θj MHz 、テルル二酸化物の場合2
4 k MHzである。すなわち、高速・高解像力の走
査に必要な約SθOMHzという高周波数の音響駆動は
使用不能である。
上記から明らかと思われるが、高速・高解像度の像処理
用であると同時に1移動する正多角形上における書込み
ビームの所望な面トラッキングを可能とする上述のよう
なガラス及びTeO2型変調器等現在使われている従来
の変調器の有用性は、これらの型の変調器に固有な材料
と帯域中の制限によって制約されている。更に、現在使
われている変調器の電力消費は比較的大きい。例えば、
上記ガラス型変調器の場合、変調器を駆動するのに必要
が電力は約−ワットである。又T@ 02 型変詞器の
場合、変調器を駆動するのに必要な動力は約/ワットで
ある。
当然理解されるごとく、帯域中が高まることによる顕著
な利点は、変調器の能力がより高速でより多くのデータ
を処理できるようになることにある。インチ毎のスイッ
ト数が増加するため、配録部材でのビームスポットサイ
ズが小さくなり、従って面サイズが増大し、より高い変
調器の帯域を必要とする。
次に図面の第g、9図を参照すれば、番号12’で全体
を示した本発明の改良形変調器が示しである。fa器1
2’ は、前述したガラス及びTeO2型変調器等の現
在使われている変−器より著しく大きい帯域でs !;
 00 MHz又はそれより高い中心周波数において動
作可能であシ、このためよシ小さいスポットサイズを用
いよシ高速で像データを処理することができる。更に、
変調器12’ は大巾に少い電力つまシ約o、lIワッ
トでよく、赤外域において伝送可能である。
第ざ、9図において、変調器12’ の結晶基板50は
高純度(非ドープ)のリン化ガリウム(GaP)結晶又
は幾分n−ドーグされた材料で、好ましくけ3×l0c
IIL 以下のキャリア11とダX / 0” crn
−2以上の転位密劇を有する材料から成る。全体がほぼ
矩形状の基板50は、レーデビーム13が入射する研磨
入力面51と0次及び7次両ビーム14.15がそれぞ
れそこから出射する研磨出力面52を有する。基鈑50
の側面53は、音ψ反射を抑制するため斜めにカットす
るのが好ましい。
例えばリチウムニオブ酸塩(LiNbo3) から成る
ピエゾ電気変換素子60が設けられ、該変換素子60は
頂部及び反対電極63.64の間に挾持されている。所
望の高い中心−波数/C(っま)りθθMHz )を得
るため、ピエゾ電気変換素子60は極めて薄く、約7.
4tμmの厚さを有する。
反対vL極64は、基板50の側面55上に付着された
クロム−金又はニッケルークロム合金から成るのが好ま
しい。反対電極64はインジウム(In)又はスズ(T
I)から成る適切な適合接着剤61で変換素子60へ結
合され、適合接着剤61け両者間にトラップされた埃等
のいかなる微粒子もが極めて薄いピエゾ電気変換素子6
0を歪ませるのを防ぐ役割を果す。結合力を高めるため
、変換素子60が基板50へ圧着される前に、クロム・
−金又はニッケルークロム合金を変換素子60上に付着
してもよい。頂部tlIi、63は、ピエゾ電気変換素
子60の外表面上に付着させた金から成るのが好ましい
〇 ピエゾ電気変換素子60は2車ラインコネクタ68によ
って増巾器28の出力側へ電気的に接続され、コネクタ
68の一方のリード69は頂部電極63へ電気的に接続
されている。アースリードの役割を果す他方のり−ド7
0は、反対電極64へ電気的に接続されている。
第1θ図を参照すると、変調器12′ を用いた場合の
露出分布が、従来形のガラス及びTe O2変調器につ
いて先に示したのと同じ最も厳しい/♂クセルオン//
ビク七シルオフ像パターン関し。
それぞれsos 、cos及びEO8(7)各位[37
138,39につきプロットしである。同図から明らか
なように、変調器12’ で得られる露出レベルはso
sとcosの駒位置37.38について、最適なパック
グランド除去(ライン45で表わす)に必要なレベルを
けるかに上回っている。又変調器12′ で得られる捲
出レベルは、EO8位置39についてもガラス及びTe
O2型変調器で得られるレベルよりはるかに高く、Eo
s位置について変調器121 で得られる露出レベルは
最適なパックグランド除去に必要な露出レベルと略等し
い。
Eに、変調器12′ によって得られる走査線の横断方
向に沿った像の一様性と像のコントラストは、ガラス及
びTeO2型変−器で得られるものより大巾に優れてい
る。
再び第9図を参照すると、変り鳩器12’ による回折
強度曲線が番号49で示しである。これから明らかなよ
うに、変−器12’ の帯域中は約/7SMHzで、現
在最良の変調器つtねTeo2 型置―器の略コ倍であ
る。
以上本発明を例示の構造を参照して説明したが、本発明
は上述の詳細に限定されるものでなく、特許請求の範囲
に記載の範囲に入る変更や変形も本発明に含まれるもの
である。
【図面の簡単な説明】
第1図は像信号の入力に応じて走査ビームを質請する音
響−光学型置1llll器により、記録部材の光導電面
を楊切って高強奪のビームを走査するための回転正多角
形を備えた具体例としてのラスター出力スキャナーを示
す概略図; 第2図は第1嫡に示したスキャナーの変調器部分の拡大
図; 第3図はスキャナ正多角形の一面の拡大図で、走査ビー
ムの中心弗域と7次の上下側帝城を示す図; 第q図線第3図に示した正多角形の面の別の図で、面を
横切ってビームを走査する面トラッキングの結果を示す
図; 第S図はガラス及びテルル二酸化物等一般的な変調器の
周波数応答を本発明の変調器と比較したグラフ; 第6図は一般的なガラス型変調器に関する/ビク士ルオ
ン//ピクセルオフ像ノリーンの露出プロットで、走査
ビームの露出を走査線に沿った各点につきパックグラン
ドの除去に必要な最適強度レベルと比較l−た図; 第7図は一般的なテルルニ酔化物型変調器に関する/ピ
クセルオン//ピクセルオフ像パターンの露出プロット
で、走査ビームの露出を走査線に沿った各点につきパッ
クグランドの除去に必要な最適強度レベルと比較した図
; 第g図は本発明の変1#器の拡大等角投影図;第9図は
第g図に示した変調器の断面図で、変換素子の構造を詳
細に示す図;及び 第70図は本発明の変調器に関する/ピクセルオン//
ビクセルオフ像パターンの露出プロットで、走査ビーム
の露出を走査線に沿った各点につきノ々ツクグランドの
除去に必要な最適強度レベルと比較した図である。 lO・・・・・・スキャナ、12′・・・・・・変調器
、13・・曲ヒーム、18・・・・・・記録部材〜、2
4・・・・・・・・・標準信号発生手段、26・・面信
号混合手段(ミキサー)、29・・曲第1接続手段(ラ
イン)、34・・・・・・走査エレメントの面、35・
・四走査エレメント(回転正多角形)、5o・・曲結晶
基板、60・・・・・・ピエゾ電気変換素子、61・・
・・・・第11接続手段(接着剤)、63.64・・曲
電極、69・・・・・・第、2接続手R(リード)、7
o・曲・第3接続手段(リード)% w・・曲面中。 FIG、 3 FIG、 4 FIG5 “cIfI誘fj ― 安策〜橢■

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 l 記録部材を走査し該記録部材上に像を生成する解像
    モードで動作可能であシ;高強度の電磁放射線ビームを
    出力し、上記記録部材とビーム間に介在された回転走査
    エレメントを含み、該走査エレメントがビームを遮断し
    記録部材を横切ってビームを繰返し走査するための複数
    の面を有するノ4ルス像形成スキャナにおいて:像信号
    に応じて上記ビームを変調し、像信号の信号内容に応じ
    て上記記録部材上に像を形成する音響−光学型置■器を
    備え、この変陶器が、実質上純粋な非ドーグ・リン化ガ
    リウム結晶から成)、少くともSθθMHzの中心動作
    周波数を有し、高速・高解像縦走査のため像信号に応じ
    てビームの高周披変刺を可能にし、更にビームの中心帯
    域と少くと吃ビームの上、下側波帝埴を捕えるため約7
    9!re&4χの動作帯域中を有し、走査エレメント面
    におけるビームの面トラッキングを可能としながら、記
    録部材を上記高層周波数で露出するのに充分な強度を与
    えており、上記走査エレメント面が、ビームの中心及び
    1次の上下11tIIF帯域を捕えるのに充分な回申を
    有し、強度を損わすにビームを記録部材を横切って走査
    していることを特徴とするスキャナ。 コ、前記結晶に動作接続されたピエゾ電気変換素子; 少くとも300 MHzの周波数で安定状態の標準信号
    を生ずる信号発生手段; 7つの入力が上記信号発生手段の出力に接続された信号
    混合手段; 前記像信号用像信号源; 上記信号混合手段の他の入力に像信号源に接続する第1
    の手段7 上記信号混合手段が信号発生手段から出力された標準信
    号を像信号源から出力された像信号に組合せ、変調駆動
    信号を与えるとと;及び上記信号混合手段の変調駆動信
    号出力を上記結晶へ接続することによシ、結晶が像信号
    に応じて結晶中を通る高周波の音曹波を発生するように
    成す第コの手段; を備えた特許請求の範囲第1項記載のスキャナ。 3 前記変換素子がメタル電極間に挾持された薄いピエ
    ゾ層から成り; 前記第コ接続手段が信号混合手段を上記電極の一方に接
    続し; 第3の手段が上記電極の一方を前記結晶に接続し;更に
    、 第ダの手段が他方の電極を結晶に接続し、上記ピエゾ層
    と他方の電極間における異物の存在に伴う薄いピエゾ層
    の歪みを避けるため適合接着剤から成る; 特許請求の範囲第一項記載のスキャナ。 j 入力される高周波の像信号に応じて高強度の走査ビ
    ームを変調し、高速の走査及び像処理を可能とする・千
    ルス像形成及びその他の高速・高解像度スキャナで使用
    するのに適した改良形音響−光学変調器であってニ リン化ガリウム結晶材料から成る基板で、該リン化ガリ
    ウム結晶材料が実質上非ドープで、上記走査ビームの複
    数帯域を通過させると共に、少くともSθθMHzの周
    波数において変V@器が駆動するのを可能として上記の
    高速を達成するのに充分な帯域中能力を与える基板;及
    び上記結晶の一壁面に動作接続され、上記像信号に応じ
    て変調された高周波音波を結晶内において、上記ビーム
    が結晶に入射する方向と略直角な軸に沿って発生さる薄
    層のピエゾ電気−音を変換素子; を備えた変調器。 左 前記帯域中能力が少くとも/θOMHzである特許
    請求の範囲第ダ項記載の変調器。 ム 異物粒状体が前記変換素子と結晶間にトラップされ
    た場合に変換素子が変形するのを防ぐため、変換素子と
    結晶間に適合接着剤を含んだ特許請求の範囲第グ項記載
    の変調器。
JP59258429A 1983-12-15 1984-12-06 高速スキヤナ用GaP変調器 Pending JPS60140318A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US06/561,860 US4577933A (en) 1983-12-15 1983-12-15 Gap modulator for high speed scanners
US561860 1990-08-01

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS60140318A true JPS60140318A (ja) 1985-07-25

Family

ID=24243785

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP59258429A Pending JPS60140318A (ja) 1983-12-15 1984-12-06 高速スキヤナ用GaP変調器

Country Status (2)

Country Link
US (1) US4577933A (ja)
JP (1) JPS60140318A (ja)

Families Citing this family (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4692016A (en) * 1986-03-14 1987-09-08 Fondation Suisse Pour La Recherche En Microtechnique Process for electrophotographic matrix printing and device for carrying out the process
US5172251A (en) * 1990-04-12 1992-12-15 Massachusetts Institute Of Technology Three dimensional display system
US5166944A (en) * 1991-06-07 1992-11-24 Advanced Laser Technologies, Inc. Laser beam scanning apparatus and method
KR19980029976A (ko) * 1996-10-28 1998-07-25 김광호 음향광 변조장치
US6303986B1 (en) 1998-07-29 2001-10-16 Silicon Light Machines Method of and apparatus for sealing an hermetic lid to a semiconductor die
US6956878B1 (en) 2000-02-07 2005-10-18 Silicon Light Machines Corporation Method and apparatus for reducing laser speckle using polarization averaging
US6560248B1 (en) * 2000-06-08 2003-05-06 Mania Barco Nv System, method and article of manufacture for improved laser direct imaging a printed circuit board utilizing a mode locked laser and scophony operation
US6707591B2 (en) 2001-04-10 2004-03-16 Silicon Light Machines Angled illumination for a single order light modulator based projection system
US6747781B2 (en) 2001-06-25 2004-06-08 Silicon Light Machines, Inc. Method, apparatus, and diffuser for reducing laser speckle
US6782205B2 (en) 2001-06-25 2004-08-24 Silicon Light Machines Method and apparatus for dynamic equalization in wavelength division multiplexing
US6829092B2 (en) 2001-08-15 2004-12-07 Silicon Light Machines, Inc. Blazed grating light valve
US6800238B1 (en) 2002-01-15 2004-10-05 Silicon Light Machines, Inc. Method for domain patterning in low coercive field ferroelectrics
US6767751B2 (en) 2002-05-28 2004-07-27 Silicon Light Machines, Inc. Integrated driver process flow
US6728023B1 (en) 2002-05-28 2004-04-27 Silicon Light Machines Optical device arrays with optimized image resolution
US6822797B1 (en) 2002-05-31 2004-11-23 Silicon Light Machines, Inc. Light modulator structure for producing high-contrast operation using zero-order light
US6829258B1 (en) 2002-06-26 2004-12-07 Silicon Light Machines, Inc. Rapidly tunable external cavity laser
US6813059B2 (en) 2002-06-28 2004-11-02 Silicon Light Machines, Inc. Reduced formation of asperities in contact micro-structures
US6714337B1 (en) 2002-06-28 2004-03-30 Silicon Light Machines Method and device for modulating a light beam and having an improved gamma response
US6801354B1 (en) 2002-08-20 2004-10-05 Silicon Light Machines, Inc. 2-D diffraction grating for substantially eliminating polarization dependent losses
US6712480B1 (en) 2002-09-27 2004-03-30 Silicon Light Machines Controlled curvature of stressed micro-structures
US7720226B2 (en) * 2002-11-19 2010-05-18 Essex Corporation Private and secure optical communication system using an optical tapped delay line
US6806997B1 (en) 2003-02-28 2004-10-19 Silicon Light Machines, Inc. Patterned diffractive light modulator ribbon for PDL reduction
US6829077B1 (en) 2003-02-28 2004-12-07 Silicon Light Machines, Inc. Diffractive light modulator with dynamically rotatable diffraction plane
US11237386B2 (en) * 2020-03-11 2022-02-01 Rohr, Inc. Substrate perforation system and method using polygon mirror(s)

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS54162554A (en) * 1978-06-13 1979-12-24 Ricoh Co Ltd Recording method
JPS5885415A (ja) * 1981-11-17 1983-05-21 Furukawa Electric Co Ltd:The レンズ型光変調方式

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3915556A (en) * 1972-04-11 1975-10-28 Westinghouse Electric Corp Tl{hd 3{b AsS{HD 4 {B crystals and acousto-optical systems
US3978426A (en) * 1975-03-11 1976-08-31 Bell Telephone Laboratories, Incorporated Heterostructure devices including tapered optical couplers
US4054363A (en) * 1975-12-15 1977-10-18 Tokyo Institute Of Technology Multi-hetero-structure waveguide type optical integrated circuitry
US4162460A (en) * 1976-05-26 1979-07-24 Agency Of Industrial Science & Technology Optical circuit element
JPS5433748A (en) * 1977-08-22 1979-03-12 Nec Corp Optical integrated circuit of semiconductor
US4380373A (en) * 1980-10-06 1983-04-19 Xerox Corporation Conformable proximity coupled electro-optic devices
US4400740A (en) * 1981-08-24 1983-08-23 Xerox Corporation Intensity control for raster output scanners

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS54162554A (en) * 1978-06-13 1979-12-24 Ricoh Co Ltd Recording method
JPS5885415A (ja) * 1981-11-17 1983-05-21 Furukawa Electric Co Ltd:The レンズ型光変調方式

Also Published As

Publication number Publication date
US4577933A (en) 1986-03-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS60140318A (ja) 高速スキヤナ用GaP変調器
EP0007197B1 (en) Laser scanning utilizing facet tracking and acousto pulse imaging techniques
CA1156750A (en) Acousto-optic device utilizing fresnel zone plate electrode array
EP0008848B1 (en) Apparatus for recording optical data onto a movable light-sensitive material, including an acousto-optic modulator
US4346965A (en) Light modulator/deflector using acoustic surface waves
US4686542A (en) High speed, high resolution raster output scanner
JPH0127406B2 (ja)
JPS62500123A (ja) 複数の光ビ−ムを走査して情報変調するための電気光学的装置
JPH0338571B2 (ja)
JPH0330125B2 (ja)
GB2043375A (en) Method for driving a light scanning apparatus
JP2781023B2 (ja) 振動対策を施したros型印刷機
WO2002103476A2 (en) Method and apparatus for reducing printing artifacts of stitched images
KR100425682B1 (ko) 공간 광변조 어레이 제조방법 및 이를 이용한 레이저 표시장치
US4940304A (en) Optical deflecting apparatus
JPH04507012A (ja) レーザプリンタ用の多チャンネル集積型光モジュレータ
JPS6069624A (ja) 振動減衰機能をもつ小形偏向器
JPS59212822A (ja) 音響光学装置
US4929043A (en) Light beam deflector
JPS6364765B2 (ja)
JPS6053932A (ja) 潜像形成装置
JPS6290628A (ja) レ−ザ走査装置
JPH02931A (ja) 光走査記録装置
JPS60178769A (ja) 画素密度変換可能な光走査装置
JPH01238615A (ja) 音響光学変調器