JPS60138021A - 真空精製方法 - Google Patents

真空精製方法

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JPS60138021A
JPS60138021A JP24484183A JP24484183A JPS60138021A JP S60138021 A JPS60138021 A JP S60138021A JP 24484183 A JP24484183 A JP 24484183A JP 24484183 A JP24484183 A JP 24484183A JP S60138021 A JPS60138021 A JP S60138021A
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JP
Japan
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vacuum
furnace
impurities
metal
vacuum refining
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JP24484183A
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JPH039172B2 (ja
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Yusaku Masuda
益田　雄策
Masanori Kato
正憲 加藤
Junji Hino
順三 日野
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Eneos Corp
Original Assignee
Nippon Mining Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、真空精製方法に関する。特に銅等に含まれる
砒素、アンチモン、ビスマス等の不純物を揮発及びスラ
グ化して除去する方法に関する。
金属の真空精製方法は、亜鉛、銅等種々提案されている
。しかしながら、効惠良く、砒素。
アンチモン、ビスマス等の不純物を除去する方法がなく
、実施化されることが少なかった。
例えば、＠の真空精製方法においては高真空ａ　Ｉ　Ｔ
ｏｒｒであって、温度１３００℃において処理した場合
極めて良好に砒素、アンチモン、ビスマス等の除去が行
われる。しかし々から、工業的に大規模でαＩ　Ｔｏｒ
ｒの真空状態を維持することが困難であり、この解決方
法が要望されている。
本発明者らは、鋭意検討を進めた結果つぎの発明をする
に至った。
即ち、金属の真空精製方法において、ナトリウム化合物
、カルシウム化合物の内１種以上を前記金属溶体の存在
する炉に投入し、金属中の不純物を除去する方法である
。さらにその具体的実施態様として、特に上記方法中金
属が銅である゛方法を提供する。また、真空度が０．５
〜５．０Ｔｏｒｒ　ｌ処理溶体温度が１１５０℃〜１２
５０℃で、処理する上記処理方法も提供する。さらに、
真空精製を上方に環流式の真空炉を備えた処理炉で行う
上記処理方法も提供する。また真空精製において、す）
　ＩＪウム化合物、カルシウム化合物の内１種以上を真
空炉の金属溶体出口側及び又は真空炉から下部炉への装
入側近傍に添加する上記処理方法を提供する。さらに真
空炉に酸素含有気体を装入する上記処理方法をも提供す
る。
以下本発明について、詳細に説明する。
本発明における対象金属は銅、亜鉛等の重金属であって
、高純度のものを得ようとする場合に適用される。特に
Ａｌ１．　Ｓ’ｂ、　Ｂｉ等の不純物の多い場合に適用
される。
添加剤としては、ナトリウム化合物、カルシウム化合物
の内１種以上を用いる。ナトリウム化合物としては、　
Ｈａ２Ｃ！０３．　ＮａＯＨ，Ｎａ、Ｏ，ＮａＮ０゜等
があり、カルシウム化合物としては、　Ｃａ（ＯＨ）、
。
（ａｏｏ、　、　ＯａＯ等がある。これらの添加剤は、
０．１〜２係前後処理金属に対し添加する。
この添加により真空処理で除去が不十分となるＳｂ、　
Ａｓ、　Ｂｉ等を効率良く除去することができる。
特に工業的に大規模で、真空処理を行う場合は、Ｉ　Ｔ
ｏｒｒ以下の真空度とすることが容易ではないため、Ｉ
　Ｔｏｒｒで容易に除去できない不純物を効率良く除く
ことが望ましい。
さらに溶体温度もあまり高温１２５０℃以上であると工
業的にエネルギー費用が多くなり過ぎ現実的操業が行い
難い。
特に、銅製錬においては数万トン／月という大規模で製
錬を行うため、適切な真空度及び溶体温度で効惠的に不
純物が除かれることが望ましい。
さらに本発明において用いる真空炉はＤＨ型あるいはＲ
Ｈ型等のごとく定置炉の上部に真空炉を設けた炉を用い
ることが望ましい。
また、上記の炉で行う場合は、不純物除去のだめの添加
剤が溶体と良く接触するため、及び真空炉内での揮発面
を減少しないように添加することが好ましい。
例えば、真空炉の金属溶体出口側及び又は真空炉から下
部炉への装入側近傍に添加することが望ましい。
またさらに、揮発除去を幼木的に行うためには、酸素含
有気体を真空炉に装入することにより、不純物の除去が
効率良く行われる。
以上本発明を実施することにより以下の効果を得ること
ができる。
（１）　重金属中の不純物であって、真空処理により揮
発除去し難い物が、真空度があまり低くない場合（Ｉ　
Ｔｏｒｒ程度）であって、溶体温度があまり高温でない
場合であっても、効率的に除去が出来る。
（２）　工業的に実施を行い易い方法である。なぜなら
ば、高真空、高温度下で処理することを要しないためで
ある。
実施例１ 銅の製錬において、精製炉から排出された粗銅を真空度
ＩＴＯｒｒ、溶体温度１２００℃６０分間処理した。こ
の際、真空炉の出口側にＣ！ａ（ＯＨ）１を少量ずつ４
．　ｓ　ｂ　／　Ｔの割合で添加した。
この結果、粗銅中のＳｂ、　Ａｅ、　Ｂｉは、それぞれ
４６１１．７６４，７１４の除去率で除去された。
実施例２ 上記と同様の粗銅に、Ｎａ、Ｃｏ３．　（！ａｏｏ１　
をそれぞれ１０．５１’＋／Ｔ、　４．２１’９／Ｔの
割合で上記と同様の部所に添加したところ１日’ｂ、　
Ａｓ、　Ｂｉの除去率は８１１９４憾、６３係であった
。
比較例 実施例１．実施例２と同様な条件でそれぞれ添加剤を添
加することなく行ったが、Ａθが１５係程度除去された
のみで、Ｓｂ、Ｂｉの除去はほとんど見られなかった。
′ 以上のように本発明により、Ｓｂ、　Ｂｉ、　Ａｓ等の
不純物の除去が効率的に行うことができることを把握し
た。
特許出願人　日本鉱業株式会社

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 （１）　金属の真空精製方法において、す）　ＩＪウム
    化合物、カルシウム化合物の内１種以上を前記金属溶体
    の存在する炉に投入し、金属中の不純物を除去すること
    を特徴とする金属の真空精製方法。 （２、特許請求の範囲第１項の金属が銅であることを特
    徴とする金属の真空精製方法。 （３）　特許請求の範囲第１項の真空度がｃＬ５〜５．
    ０Ｔｏｒｒで、処理溶体温度が１１５０℃〜１２５０℃
    であることを特徴とする金属の真空精製方法。 （４）特許請求の範囲第１項の真空精製を上方に環流式
    の真空炉を備えた処理炉で行うことを特徴とする金属の
    真空精製方法。 （５）　特許請求の範囲第４項の真空精製においてナト
    リウム化合物、カルシウム化合物の内１種以上を真空炉
    の金属溶体出口側及び又は真空炉から下部炉への装入側
    近傍に添加することを特徴とする金属の真空精製方法。 （６）　特許請求の範囲第１項の真空精製において。 真空炉に酸素含有気体を装入することを特徴とする金属
    の真空精製方法。
JP24484183A 1983-12-27 1983-12-27 真空精製方法 Granted JPS60138021A (ja)

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JPS60138021A true JPS60138021A (ja) 1985-07-22
JPH039172B2 JPH039172B2 (ja) 1991-02-07

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