JPS6013786B2 - 多結晶フエライトの精密研摩方法 - Google Patents
多結晶フエライトの精密研摩方法Info
- Publication number
- JPS6013786B2 JPS6013786B2 JP56017249A JP1724981A JPS6013786B2 JP S6013786 B2 JPS6013786 B2 JP S6013786B2 JP 56017249 A JP56017249 A JP 56017249A JP 1724981 A JP1724981 A JP 1724981A JP S6013786 B2 JPS6013786 B2 JP S6013786B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polishing
- polycrystalline ferrite
- polishing method
- fine powder
- polycrystalline
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B1/00—Processes of grinding or polishing; Use of auxiliary equipment in connection with such processes
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、多結晶フェライト材料の表面を精密平面に
加工する精密研摩方法に関する。
加工する精密研摩方法に関する。
磁気ヘッド用材料としてパーマロィ、フェライト、セン
ダスト等が用いられ、磁気特性、耐摩耗性、精密加工性
等の点からそれぞれ特長があり、記録波長、メディアと
の関係、磁気ヘッドの用途によって使い分けられている
。
ダスト等が用いられ、磁気特性、耐摩耗性、精密加工性
等の点からそれぞれ特長があり、記録波長、メディアと
の関係、磁気ヘッドの用途によって使い分けられている
。
また、オーディオ用、ビデオ用およびコンピューター用
等の磁気ヘッドは磁気記録密度の向上が求められ、この
ためＩＣテクノロジーを用いた製造方法による磁気ヘッ
ドが最適と考えられている。
等の磁気ヘッドは磁気記録密度の向上が求められ、この
ためＩＣテクノロジーを用いた製造方法による磁気ヘッ
ドが最適と考えられている。
例えば、薄膜ヘッド用の基板には、メタルよりもフェラ
イトが通しており、単結晶よりも安価な多結晶フェライ
トを用いるのが最も有効とされている。
イトが通しており、単結晶よりも安価な多結晶フェライ
トを用いるのが最も有効とされている。
かかる基板はその坂上に磁気回路を構成する磁性材料及
び非磁性材料あるいは磁界検出用のＬ素子等をメッキ、
蒸着、スパッタ一等で形成するため、基板表面の平滑性
およびフェライト磁性基板の磁気特性を向上させる必要
から無歪の加工が要求される。
び非磁性材料あるいは磁界検出用のＬ素子等をメッキ、
蒸着、スパッタ一等で形成するため、基板表面の平滑性
およびフェライト磁性基板の磁気特性を向上させる必要
から無歪の加工が要求される。
これまでの研摩方法としてはダイヤモンドを砥粒とする
機械研摩が多用されてきた。
機械研摩が多用されてきた。
さらにメカノケミカル研摩方法によって化学的な歪取り
加工が可能となり、単結晶材料の研摩にＳｉ０２の微細
粉末を使用したメカノケミカル研摩が適用されている。
しかし、多結晶材料の場合は当然結晶方位による化学的
浸蝕速度がそれぞれ異なるため、このメカノケミカル研
摩の適用は困難となり、一般的な加工条件では必ず結晶
段差が発生し、目的に合致しないと考えられる。
加工が可能となり、単結晶材料の研摩にＳｉ０２の微細
粉末を使用したメカノケミカル研摩が適用されている。
しかし、多結晶材料の場合は当然結晶方位による化学的
浸蝕速度がそれぞれ異なるため、このメカノケミカル研
摩の適用は困難となり、一般的な加工条件では必ず結晶
段差が発生し、目的に合致しないと考えられる。
また、多結晶材料の超精密平面を高能率で得るためには
、さらにパウダーの性状等が限定されてくる。この発明
は多結晶フェライト素材を精密平面に加工する精密研摩
方法を提案するものである。
、さらにパウダーの性状等が限定されてくる。この発明
は多結晶フェライト素材を精密平面に加工する精密研摩
方法を提案するものである。
すなわちこの発明はかかるメカノケミカル研摩において
、一般に大きな結晶段差が発生し不適当と考えられてい
るＭｇＯパウダーを使用した研摩方法であるが、粒径が
０．００１〜０．０５仏ｍのＭｇ０微粉末を純水中に懸
濁させた液を用い多結晶フェラィト素材をポリッシュす
ることによって精密平面を得ることができる。詳しく説
明すると、所定材質からなるポリシャーをＭｇ○微粉末
の純水中懸濁液中で回転可能に構成し、このポリシャー
表面に被研摩材料を拘持した回転部材を所定荷重をかけ
て被研摩材料を当接させ、これらを回転させ液中でポリ
ツシュするものである。
、一般に大きな結晶段差が発生し不適当と考えられてい
るＭｇＯパウダーを使用した研摩方法であるが、粒径が
０．００１〜０．０５仏ｍのＭｇ０微粉末を純水中に懸
濁させた液を用い多結晶フェラィト素材をポリッシュす
ることによって精密平面を得ることができる。詳しく説
明すると、所定材質からなるポリシャーをＭｇ○微粉末
の純水中懸濁液中で回転可能に構成し、このポリシャー
表面に被研摩材料を拘持した回転部材を所定荷重をかけ
て被研摩材料を当接させ、これらを回転させ液中でポリ
ツシュするものである。
この方法によって多結晶フェライト素材を精密平面に加
工することができる。ポリシャー材質、その回転数等は
適宜選定すればよい。さらにＭ奴微粉末の純水中懸濁液
をアルカリ性領域で使用すると加工能率が向上する。ま
た、Ｍｇｑ微粉末量を純水に懸濁させて、０．５〜２０
Ｖｏそ％とすることによって加工能率が向上する。
工することができる。ポリシャー材質、その回転数等は
適宜選定すればよい。さらにＭ奴微粉末の純水中懸濁液
をアルカリ性領域で使用すると加工能率が向上する。ま
た、Ｍｇｑ微粉末量を純水に懸濁させて、０．５〜２０
Ｖｏそ％とすることによって加工能率が向上する。
次にＭｇ○微粉末の性状について説明すると、Ｍｇ○微
粉末の１２吸着量が４０〜１２仇ｈｇ′ｇの範囲にある
と、化学的浸蝕速度が多結晶フェライトのどの結晶方位
においても一致するため、結晶段差も含めて表面粗さが
３０Ａ以下の良好な表面状態が得られる。
粉末の１２吸着量が４０〜１２仇ｈｇ′ｇの範囲にある
と、化学的浸蝕速度が多結晶フェライトのどの結晶方位
においても一致するため、結晶段差も含めて表面粗さが
３０Ａ以下の良好な表面状態が得られる。
ここでＬ吸着量とはＭｇ０微粉末のボアを含めて表面積
と表面吸着力を測定したもので、１２吸着量の小さい方
が粒径が球状に整っている。
と表面吸着力を測定したもので、１２吸着量の小さい方
が粒径が球状に整っている。
またその測定方法はＪＩＳＫ６２２１に規定されるゴム
用カーボンブラックのよう素吸着量試験方法に準じたも
のである。Ｍｇ０微粉末１２吸着量が４０ｍｇ′ｇ未満
では結晶異方性による加工段差が発生し、ポリッシュ時
の加圧力、ポリシャーの材質、回転数を変えても極めて
良い結果は得られない。
用カーボンブラックのよう素吸着量試験方法に準じたも
のである。Ｍｇ０微粉末１２吸着量が４０ｍｇ′ｇ未満
では結晶異方性による加工段差が発生し、ポリッシュ時
の加圧力、ポリシャーの材質、回転数を変えても極めて
良い結果は得られない。
また１２吸着力が１２瓜ｈｇ／ｇを超える場合には該懸
濁液に加工性がほとんどなく、量産加工には適用できな
い。以下に具体的な実施例によってこの発明方法を説明
する。
濁液に加工性がほとんどなく、量産加工には適用できな
い。以下に具体的な実施例によってこの発明方法を説明
する。
まず、Ｍｇｑ散粉末に粒径が１００Ａで１２吸着量が７
８ｈｇ′ｇのものを使用して、純水に５ｖｏク％となる
よう懸濁させて研摩液とした。
８ｈｇ′ｇのものを使用して、純水に５ｖｏク％となる
よう懸濁させて研摩液とした。
ポリシャーには、クロス、Ｓｎ−板を使用し４比ｐｍの
回転数で回転させ、被研摩物のＭｎ−Ｚｎ多結晶フェラ
イト素材に０．３ｋ９／地の荷重をかけ先の研摩液中で
ポリツシユした。その結果、表面粗さが３０△以下で結
晶段差は２０Ａの極めて良好な精密平面が得られ、加工
能率も良好であった。
回転数で回転させ、被研摩物のＭｎ−Ｚｎ多結晶フェラ
イト素材に０．３ｋ９／地の荷重をかけ先の研摩液中で
ポリツシユした。その結果、表面粗さが３０△以下で結
晶段差は２０Ａの極めて良好な精密平面が得られ、加工
能率も良好であった。
次に、Ｍｇｑ微粉末に粒径１００Ａで１２吸着量が２２
ｍｇ／ｇと１２９ｈｇ′ｇの２種類を用い、純水にそれ
ぞれ５ｖｏｌ％となるよう懸濁させ研摩液とした。
ｍｇ／ｇと１２９ｈｇ′ｇの２種類を用い、純水にそれ
ぞれ５ｖｏｌ％となるよう懸濁させ研摩液とした。
ポリシャーには、Ｓｎ、クロスを使用し４仇ｐｍの回転
数で回転させ、被研摩物のＭｎ−Ｚｎ多結晶フェライト
に０．５ｋ９′地の荷重をかけ上記の２種の研摩液中で
それぞれポリツシユした。その結果、１２吸着量が２狐
ｇ′ｇのＭｇ０微粉末を用いた研摩液の場合は、表面粗
さ５０Ａ以上結晶段差２００Ａ以上であり、結晶段差が
大きくなった。
数で回転させ、被研摩物のＭｎ−Ｚｎ多結晶フェライト
に０．５ｋ９′地の荷重をかけ上記の２種の研摩液中で
それぞれポリツシユした。その結果、１２吸着量が２狐
ｇ′ｇのＭｇ０微粉末を用いた研摩液の場合は、表面粗
さ５０Ａ以上結晶段差２００Ａ以上であり、結晶段差が
大きくなった。
また、１２吸着量が１２９ｍｇ／ｇの場合は、表面粗さ
５０△以上、結晶段差１５０△以上であったが、加工能
率が非常に低下した。以上に詳述したように、従来多結
晶フェライト素材のメカノケミカル研摩に不適とされて
いたＭｇ○微粉末を、上述した種々の特定の条件である
いは種々条件をそれぞれ加重してポリツシュすることに
よって、種々の精度の精密平面を有した多結晶フェライ
ト素材を得ることができる。
５０△以上、結晶段差１５０△以上であったが、加工能
率が非常に低下した。以上に詳述したように、従来多結
晶フェライト素材のメカノケミカル研摩に不適とされて
いたＭｇ○微粉末を、上述した種々の特定の条件である
いは種々条件をそれぞれ加重してポリツシュすることに
よって、種々の精度の精密平面を有した多結晶フェライ
ト素材を得ることができる。
Claims (1)
- １ 多結晶フエライト素材を、粒径０．００１μｍ〜０
．０５μｍで１＿２吸着量４０ｍｇ／ｇ〜１２０ｍｇ／
ｇの性質を有するＭｇＯ微粉末を０．５ｖｏｌ％〜２０
ｖｏｌ％となるように純水中に懸濁させた懸濁液を用い
、アルカリ性領域でポリツシユすることを特徴とする多
結晶フエライトの精密研摩方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56017249A JPS6013786B2 (ja) | 1981-02-06 | 1981-02-06 | 多結晶フエライトの精密研摩方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56017249A JPS6013786B2 (ja) | 1981-02-06 | 1981-02-06 | 多結晶フエライトの精密研摩方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57132961A JPS57132961A (en) | 1982-08-17 |
| JPS6013786B2 true JPS6013786B2 (ja) | 1985-04-09 |
Family
ID=11938670
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56017249A Expired JPS6013786B2 (ja) | 1981-02-06 | 1981-02-06 | 多結晶フエライトの精密研摩方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6013786B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0346549Y2 (ja) * | 1985-10-28 | 1991-10-01 | ||
| JPH0479484U (ja) * | 1990-11-22 | 1992-07-10 | ||
| JPH0536304Y2 (ja) * | 1986-12-17 | 1993-09-14 |
-
1981
- 1981-02-06 JP JP56017249A patent/JPS6013786B2/ja not_active Expired
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0346549Y2 (ja) * | 1985-10-28 | 1991-10-01 | ||
| JPH0536304Y2 (ja) * | 1986-12-17 | 1993-09-14 | ||
| JPH0479484U (ja) * | 1990-11-22 | 1992-07-10 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57132961A (en) | 1982-08-17 |
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