JPS60137352A - 歯科用ｘ線全顎ならびに頭部規格撮影装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は歯顎領域における全顎パノラマＸ線撮影およ
び頭部Ｘ線規格写真撮影を切換え的に行うようにした装
置に関し１％にその複数の撮影様式に対応して、Ｘ線照
射野制限絞シの選択を自動化した歯科用Ｘ線全顎ならび
に頭部規格撮影装置に関するものである。

一般にパノラマ・セファロＸ線撮影装置と称される上記
装置は、歯科用Ｘ線全顎撮影装置（以下パノラマ装置と
記す）と頭部Ｘ線規格写真撮影装置（以下セフ１０装置
と記す）とを１台の装置にまとめたものでおり、一般の
パノラマ装置に比し。

患者の不正咬合の実体把握や顎体の形態学的分析を併せ
行えるので竹に歯科矯止の分野に不可欠のものであり、
広く普及している。この装置は一般のパノラマ装置の撮
影部に側設し、装置の側方に突出された長尺のアームの
先端にセファ０スタット機構と呼ばれる頭部固定機構を
設けている７この機構は患者頭部をその両外耳孔を結ぶ
直線をセファロ撮影Ｘ線照準軸とし、この中心点いいか
えると上記照準軸と垂直面正中線との交点を回転中心と
して回動自在であり、かつこれら回動部をこ近接して頭
部Ｘ線像が投影するカセツテの装填部が被写体との距離
を調整可能にして取付けられている。このパノラマ・セ
ファロ装置によって、たとえば歯列弓のパノラマ撮影を
終えた患者をセファロスタット機構に移し１頭部の正面
・側面および４５°斜位等のたとえば拡大率１１倍の七
７７０撮影を行う際Ｘ線曝射に先立ち必ず行わねばなら
ない操作がある。それはＸ線源の照射野制限絞りの変更
であり、すなわちパノラマ撮影は縦長のスリット状絞り
を用いているのでそのスリットのままでＸ＃を曝射して
も頭部透視像は得られない。すなわちセファロ撮影には
通常のＸ線撮影と同様に頭部の正面および側面の全貌の
透過像を４つ切または６つ切サイズのＸ線フィルムに撮
し得るｔこ足る面積をもつ絞りでなければならない。さ
らｔこくわしくけ正面像ね：垂直面正中線を中心とし対
称体であるので、やや縦長の矩形状絞り（以下正面用マ
スクと記す）を用い、側面像には上記矩形マスクの縦方
向の一辺を頭蓋骨側面形状に対応したフィルター効果を
もたせ円孤状に切欠いた特殊な形状の絞シ（以下側面用
マスクと記す）を用いる。

またセファロ撮影においては前述したように両外耳孔を
結ぶ線がＸ線照準中心軸である関係から。

正面像と側面像とでは投影位置が異なシ、同一フイルム
サイズではいずれかの影像が欠けることになる。そこで
正面時にはカセツテ中心をＸ線照準軸に、側面時にはカ
セツテ中心を患者顔面方向にたとえば３０ｆｉ移動させ
ることによって、正面・側面それぞれの全貌が撮影でき
るのである、このようにパノラマ撮影とセフ１０撮影を
切換え的に行う従来の装置においては、撮影様式が複数
であり、そのためそれら撮影様式の変更に伴うＸ線源側
のスリットやマスクの交換設定、カセツテのノ（ノラマ
側またはセファロ側への装填、さらにセファロ側カセツ
テの撮影部位に対する装填位置設定などの切換え掃作は
１″べて術者が行わねばならず。

この操作は従牙の口内性撮影に比べて煩船でおるだけで
なく１期成りの撮影技量を要するものである。しかしな
がら一般に等間のレントゲン技師のいない市井の歯科医
院に凌］つてはレントゲン技師上回等の技量・１験を要
求することは無理で、たトエば絞シをスリットにしだ１
まセフ１０撮影するなどの操作ミスが往々にして生じ、
撮影のやり直しにＪ：って患者の被＠　ＡＩＪ　ｆｒを
増大させるという問題点がおる。ｔＬ、て歯科医以外の
歯科衛生士などが操作することもあるとりわれでいる現
状においてはなおざらのことでア４）。

この発明は上記の現況に鑑みてなされたものであり、従
来のパノラマ・セファロＸ線撮影装置の撮影様式切換え
時の問題点を解消し、Ｘ線源の照射野制限絞りの交換設
定をセフ１０側カセツテの装填およびその装填位置に連
動して自動的に行うようにすることによって、術者の操
作を単純化し。

作業性を向上させるとともに、操作ミスの生ずるおそれ
が皆無で正確な頭部規格写真が得られる便宜な装置の提
供を目的さするものである。すなわちパノラマ・セファ
ロＸｉ！ｉ！撮影装置においてＸ線源の放射窓前面にパ
ノラマ撮影用スリットと、正面および側面規格撮影用マ
スタとをた古えげ横長の矩形平板上に形成したＸｉ照射
野絞り板を移動自在に殻けるとと亀に規格撮影頭部固定
機構におけるカセツテ装填の有無ならびに装填されたば
めいその位置が正面撮影位置か側面撮影位置かを検知し
、術者の意図する撮影様式を判別する撮影様式判別手段
ならびにこの手段の出力信号によってたとえばサーボモ
ータとか電磁ソレノイドなどの電動駆動体を制御し、前
記絞υ板を移動・回転または入れ替えなどして、前記ス
リットおよびマスクのうち上記撮影様式に適合するもの
を選択し。

Ｘ１１ｉ！源の放射窓前面の所定位置に設定する絞り選
択設定手段を設けたことを特徴とする薗科用Ｘ線全額ｔ
ｒらびに頭部規格撮影装置にかかるものでおる。

以下図面を用いてこの発明の詳細な説明する、第１図は
この発明の実施例パノラマ・セファ０Ｘ線撮影装置の上
方から見た平面図で１図はセフ１０撮影の際の各部の状
態を示しているが、被検者は図示を省略している。図に
おいて基台（１）に棚設した主柱（２）に上下方向を昇
降自在に装着された撮影部（３）には基台（１）と同方
向に突出した架台（４）と。

右側方に長く突出した支持アーム（５）古が設けられて
いる。架台（４）はＸ線源（６）とパノラマ撮影用平板
状カセツテを移動自在に支承するカセツテ支持体（７）
とを両端に対向状に配置した水平アーム（８）が架台内
の回動機構の回動軸（９Ｐ）　（図中（上部位置）に懸
吊されている。この回動軸（９ｐ）が（９ｐ”）まで自
転しなから円孤状に移動することによって水平アーム（
８）ヲ点線で示す位置（８１から時計方向（矢印ａ）に
回動し１．＠者のたとえば歯列弓の断層像ヲＸｍ源（６
１に対向するカセツテ支持体（７ｐ）のカセツテにパノ
ラマ状に撮影する。このときのＸ線源の焦点（６Ｘ′）
からの放射Ｘ線は放射口に設けたスリット状絞り（ｌＯ
）によってビーム状に被写体を照射する２回動軸が（９
ｐ）にて回動が終ると水平アーム（８）は実線で示す（
８）より更に時計方向に廻った位置で停止するので、セ
ファロ撮影に当ってはＸ線照準機構によって上記回転軸
′Ｊ＆：（９ｓ）の位置にもどしく水平アーム２反時ａ
士方向に若干回動させ）、セファロ撮影照準軸（Ｘ８）
にＸ線放射中心軸を正しく一致させる。しかるのちカセ
ツテ支持体（７）を支点０１）を回転中心として矢印（
ｂ１方向に回転させ実線で示す（７８）の位置にて固定
し、上記Ｘ線放射錐外に待避させる。患者を移すセファ
０スタンｌ−様＠　（１２＋は前述した長尺の支持アー
ム（５）の先端に設けた固定台（１３）から突出した１
対のロット０４）と一体重な基台０５）と。

この基台０５）の中心軸０６）を回転中心としてハンド
ル０７１の操作によって４５°または９０６回動する頭
部位置ぎめ機構ＯＦ、）と、基台０５）に対し位置移動
可能な１対の支持ロッド０９１に支承されるセフ１０撮
影用カセツテ保持部（イ）（とによって構成されている
。上記頭部位置ぎめ機構０トＪに設けた１対のイヤーロ
ット（２ｊ）げを結ぶ直線（２１Ｃ）が前述したセファ
ロ撮影照準軸（Ｘｌ＋）の基準軸となる。　１２２）は
カセツテ保持部（２０）に装填されたカセツテであり１
通常８つ切または６つ切サイズのものが用いられる。（
ハ）は自動露出装置のセンサ部である。

つぎに第２図■■によって上記セファロヌタッ）　ｅ＃
１１２１に設けたこの発明の要部の−っである撮影様式
判別手段の検知機構はを餅明する。図は第１図の頭部位
置ぎめ機構（１８！をハンドル（１７を操作して正面撮
影態勢にした状態ｉＸ組側から見た正面図であり１図中
第１図と同記号のものけ詳説を省くとともに第１図で示
せなかった機構についても公知のものけ説明を簡略にす
る。上記基台（１５）と一体重な固定合い）を介して設
けられた回転台（支））の内部機構を介して、上記ハン
ドル（１７１の操作によってイヤーロット（２１）（２
１１の相互間距離（Ｌｌ　’＜患者の両外耳孔間距離に
調整し、つぎに指標（２）によって患者の眼窩下縁を前
記外耳孔中心と同一水平線上に合うようにでこ浩て（２
８）を前後方向に微調整すればセファロ撮影の頭部位置
ぎめが完了する。カセツテ保持部＠）は基板（２０Ｐ）
　、！：　、上部ガイド板（２９ｉと、下部ガイド板（
支））さでなシ、上記検知機構例は基板（２０Ｐ）に設
けられ点線で示す２個の反射形ホトマイクロセンサｃｌ
ｌｌ　（３２１および下部ガイド板（支））に設けた溝
形ホトマイクロセンサＧ３）ならびに上記センサＣ３］
Ｉ　Ｇ２＋を作動せしめるカセツテ■裏面に形成したた
とえば黒ラシャなどの光吸収部（３４）と、七ンサ附）
を作動せしめる弾性部材にてなる遮光板（３５）とで構
成されている。上記（３］１３２１□□□）のセンサは
光結合素子と光電流増幅器との組合せによる高感変非接
触フイツチである。上記の構成によってカセツテ＠を矢
印（Ｃ１方向から挿入し、当υ（３６）にて停止する位
置がセファ０正面撮影位置すなわち、カセツテ中心線（
２２Ｃ）が下部ガイドｃ１］）の中心に設けた表示ｆｃ
ｌのＶ溝に合致する位置でアク、図■で示す遮光板Ｃ１
５１がカセツテ（ハ）に圧下され、センナ（３３（が遮
光信号を出力するとともにセンサ（３１）も反射光が入
射せず、信号を出力する。つぎに側面撮影に移るばあい
、術者はカセツテ＠を右方ヘズラせて、上記中心線を（
２２Ｃ’）の位置すなわち表示々のＶ溝に合わせると、
カセツテ裏面の光吸収部Ｃｌ４）がセンサ（３２）を切
換的に作動させる。このようにして３個のセンサの出力
信号の組合せによって、後述する撮影様式判別回路は（
イ）パノラマ撮影時、カセツテ無の信号、（ロ）セファ
ロ正面時の信号（ハ）セファロ側面時の信号、に）カセ
ツテが装填されているが上記（ロ）←Ｊの何れの位置に
もない　いいかえると無定位のときの信号の４種の信号
を出力する。このため術者の意図する撮影様式な判別す
るだけでなく、上記に）の信号はカセツテの位置合せ完
了後に誤ってカセツテに触れ位置ズレを生じたばあい、
そのままで撮影できないように監視する機能を有するも
のである。

つぎに第３．第４図によってＸ線源（６）の放射窓前面
に設けたＸ線照射野絞り板（４０）の選択設定機構（４
１）を説明する。第３図は第１図で示した水平アーム（
８）の一端に暦吊され、かつ水平アームと１体的に形成
したＸ線源（６）の被写体側から見た正面図でおり、絞
り選択設定機ｍ　ｆ４１＋はその前面カバー（４２）を
破断して内部構造を示している。第４図は第３図のＩＶ
−ＩＴ’の側断面図であり、Ｘ線管はそのＸ線放射窓（
蘭）の位置のみを示し、詳細は省略している。

図において水平アーム（８）の延長でめる懸吊アーム（
８ｆの端部に収容したＸ線源、すなわちＸ線管球（６）
のＸ線放射窓（６Ｗ）の前面にＸ線放射方向と直交する
方向に移動自在のＸ線照射野絞り板（４０）がしけられ
ている、この絞シ板ｆ４０）は鉛板（４３１とまたとえ
ば真鍮板または銅板などのＸ線を所定量吸収するフィル
タ材とを接合し、これに前述し、たパノラマ撮影用の幅
＋８１がたとえば１５酊のスリン）　＋１（ｉ、と、セ
ファロ正面位または４５°斜位撮影用のやや縦長の矩形
状マスク（４５）と、Ｉ￥ｊ殊な形状の側面位撮影用マ
スク（４８１とを配列形成している、ここでマスク（４
６）のＶ−ｖ′断面を第５図に示し、若干説明を加える
。上記鉛板（４３）に接合した真鍮板（４４１に斜面部
（４６Ｆ）を第３図に示す形状に削設しており、これは
患者の側面撮影時に鼻・口もとなどの外貌も併せ撮影す
るためＸ線強度を減衰させるフィルタとなっている。

この軟組織同時撮影の１１１１１面マスクは図示した固
定式に限らず、フィルタ部を可動して患者個有の側貌に
相応しつるものもあれば、また正面用マスク（４５）に
単独のフィルタを挿入出することによってパノラマ用ス
リットと、正面用マスクとによって上記３種（４５°斜
位も含め）の撮影様式に対応することもできる、この絞
り板（４０）はその四隅にすべｐ軸受部（４ηと右端部
に筒状ナツト（４ＩＩ）とをそれぞれ固定しており、上
記軸受部（４ηを貫通し、絞り板（４０）を移動自在に
支承する１対の平行ガイド軸（４９）が懸吊アーム（８
）′の鋳造体に形成した平面部＠）に樹膜した１対の支
柱（５１）と支持板（５２１相互間に架設されている。

上記筒状ナツト＋４８＋に螺合するねじ軸（財）は、そ
の一端を上記平面部間に樹膜した軸受台−）と上記支持
板６２）に設けた軸受ｔ５５）とによって回転自在に支
承されるとともに、同じく支持板（５２）に取付けたた
とえばユニポーラ４相ステツプモータ（５６１の出力軸
と直結さ扛ている。このそ−タ（５６）はたとえば１相
−２相励磁で駆動することによって１ステップ角度９゜
の高精度で回転するものである。絞り板（４０ｊは図示
の位置すなわちパノラマ用スリツ）　００１の中心線が
Ｘ線放射錐中心軸と一致する位置を基準位置とし。

その位置検出機構（５りの遮光板−を右端上部に設けて
いる。この遮光板側紘上記平面部団に取付台ｒ５ｇＩを
介して固定した前述したセンサと同じ溝形ホト・マイク
ロセンサ（６０１ｗ　１Ｍ光または遮光解除し、センサ
（韻）がその信号を制御回路に入力する。絞シ板（４α
は前記の撮影様式判別の検知機構ならびにつぎにのべる
判別回路の作動を介してモータ（５６１の回転によって
矢印（ｄｌに移動され、正面用マスクｆ４５）　ｔたは
側面用マスク（４６）のそれぞれ中心をＸ線放射中心軸
に合致する位置にて停止するのである０図中２点鎖線師
線絞υ析の上記（ｄ１方向移動限界を示す。

つぎに第６．第７図によって撮影様式判別および絞ｐ週
択散定手段の制御回路を説明する。第６図はディジタル
論理回路にて構成した制御回路のブロックでオリ、第７
図はマイクロコンピュータによる制御ブロック図である
。第６図において。

撮影様式判別回路１５１は前述のセフ１０側カセツテ保
持部０８）に設けた検知機構（財）からの信号を、たと
えばカセツテ無（パノラマ操影時）を（１００）。

七７１０正面位置を（０１０）、セファ０ＩＱ　面位置
を（００１）、さらにカセツテが上記正面または側面位
置１こ合わせたのち６Ｍ者などの身体に触れて、正規の
位置がズレるなどして無定位になったげあい（０００）
の信号に変換することによって術者の撮影様式を判別す
る。上記（０００）の信号によって作動する回路が監視
回路である。一方Ｘ線源側の絞シ選択設定機構の制御回
路は（６６）〜（６９）にてなり、装置電源がＯＮされ
るとブロック（資））により絞り板（４０）はワンショ
ットたとえば数麿（ｄ１方向に前進させ、つぎに反転し
て（ｅ１方向に後進せしめる。この動作によって前述し
た絞シ板基準位置検出器（資）のセンサ（６０１が遮光
信号を出力することでスリット（１０）が所定位置に設
定され、ブロック＠輸（ｉｉ９）が作動してパルスモー
タ霞な停止し、上記スリット（１０）によってパノラマ
撮影を行う。つぎにセファロ撮影に移り、上記セファロ
スタットのカセツテが正面位置に正しく装填されておれ
ば（０１０）の信号によってブロック６０）が前進信号
を出力する。

この信号は第３図で示すスリン）　ｔｌｌｌｌとマスク
（財）の距＃（４）駆動するに要するパルスモータ−）
の入力パルス数であるので、このパルス数をブロック隨
にてカウントし、このカウント数がυ０）の出力パルス
数と一致したとき、モーター）を停止することで正面マ
スク（４５：が設定される。同様にして側面マスク（４
６）も更に（１２）前進させることで設定されるのであ
る。しかし、前述したようにカセツテ（２２）の中心線
（２２Ｃ）の装填位置が鄭）（列のＶ溝に正しく装填さ
れなければ判別回路（６５）からは（０００）の信号が
出力さ第１るので後進信号出力回路ｆｆｌ＋が作動して
ゼ・ｐ板（４０を元の位置（第４図の東線位置）にもど
第７、セファ０撮影準備は中断される。このことは正し
い装填后にカセツテにしつで触れ、その位置がズしたば
あいも同様である。第７図は上記制御回路をマイクロコ
ンピュータを用いて構成した一例に示１．　、　フｌ：
Ｉ　７　／ｆｆ２１１ｊｉ　６　図ノ（２４１（６５ｉ
ｆｆＯ）（７１１）ｔａ能ｋ。

６→は同じく（鎚）＠の機能をそれぞれ有し、さらにつ
ぎに示すフローチャートにしめずプログラムを記憶した
メモリｆｆ５１　ｔこは第６図の（６９）の機能も併せ
備えている。第８図はメモリｆｆ５１に記憶させた制御
プログラムのフローチャートまたは第６図の回路のデー
タ処理手順を示すフローチャートであり、ステップ哨）
の判断機能を第３図の基準位置検出機構６７）が果たし
、ステップ（転）はパルスモータｆ５ｆｉｌの停止時ス
リットｔｉｌｌｌが所定位置にあることを判定する機能
でる第１）（ＹＥＳ）でおればパノラマ撮影のＸ線曝射
準備が完了する。撮影はパノラマだけならこれで終了す
るが、ひきつづき七７１０に移ｐ術者がカセツテをセフ
ァロ側のカセツテ保持部（２））に装填する状況によっ
て術者の意図する撮影様式を判別して信号を出力するの
がステップ（８７１で＃　Ｄ　＠８１　（８９１は操作
ミスを判定してステップ（８３１にもどす機能である。

ステップ（財）は正面用マスク（４５：または側面用マ
スク（４６）が正しく設定されたが否かを判定する機能
でろ、９　、（ＹＥＳ）のとき、パノラマ同様セファロ
撮影のＸ線曝射準備完了となる。（Ｎｏ）のときは。

絞シ板（４０）を元の位置にもどす処理をヌテップ価）
輸ニヨって行い、術者が気付いてカセツテを正しく装填
するまで上記作動をくりかえすのである。

以上がこの発明の笑施例であるが、この発明は図示や説
明に限定されるものでないことはいうまでもない、たと
えばパノラマ用カセツテ支持体が円筒ドラムの装置や、
セファロスタット機構が装置の左側に設けた装置でも同
じく適用できるし。

絞シ板が矩形平板でなく１円板または欠円状円板であり
、それらを回転させることによってスリットおよびマス
クを交換する方式にしてもよい。またスリットおよびマ
スクをそれぞれ単独に形成した複数の絞υ板を電磁ソレ
ノイドを用いてあたかも紙芝居的にＸ線放射窓前面に出
入れする機構も考えられるし、この発明のけんちゆうに
属するものである。またセファロ側のカセツテ保持部の
検知機構も必ずしもホト・マイクロセンサに限らず機械
的マイクロスイッチなどいろいろのものが使用できる。

この発明は以上のように構成されているので。

従来のパノラマ・セファ０Ｘ線撮影装置の問題点すなわ
ちパノラマ撮影とセファ０撮影をひきつづき行うばあい
とか、セファロ撮影のみ行うばあいなどにおいてその撮
影様式の変更に対応して術者が行わねばならないカセツ
テおよびＸ線量りに関する複雑な操作を簡略にし、単に
カセツテのセフ１０スタツトへの装填だけを正確に行え
ば、術者の意図している撮影様式を検知し１判断してそ
の様式に適合するスリットおよびマスクを自動的に選択
して、Ｘ線放射窓前面の所定位置に迅速かつ高精度に設
定することによって作業性を向上するとともｔこ人為的
操作スミのおそれが全くなく、シたがって撮り直しによ
る被検者の被曝線量増大を防止し１診断能の高いパノラ
マおよびセファロＸ線写真が容易に得られる便宜な装置
を提供しえたものである。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の実施例歯科用Ｘ線全顎ならびに頭部
規格撮影装置の構成を示す平面図、第２図■は上記装置
のセファロスタット機構のＸ線源側から見た正面図１図
■は上記機構のカセツテ保持部に設けた検知機構の１部
破断図、第３図は上記装置のＸ線源部を被写体側から見
た正面図であり、かつＸ線源前面の絞シ選択設定機構の
構成を示す図、第４図はＸ線源部の側面図であυ、かつ
その一部を破断し、第３図のＩＶ−ＩＶ′側断面を示す
図、第５図は第３図のＸ線照射野絞り板の側面用マスク
のｖ−ｖ’側側面面図第６図は上記装置の撮影様式判別
ならびに絞り選択設定手段を制御するディジタル論理回
路のブロック図、第７図は上記手段の制御をマイクロコ
ンピュータを用いて行つ回路のブロック図、第８図は上
記第７または第８図の制御回路の処理手順を示すフロー
チャートである。 （５］・・・長尺の支持アーム　（６）・・・Ｘ１ｗ源
　（６Ｘ）・・・Ｘ線焦点　（６Ｗ）−Ｘ線放射窓　（
７１・・・パノラマ用カセツテ支持体　（８１・・・水
平アーム　００１・・・パノラマ用スリット０り・・・
規格撮影頭部固定部＠）・・・上記α２のカセツテ保持
部　（２）・・・規格撮影用カセツテ　（財）・・・撮
影様式判別手段の検知機構ニ・・・Ｘ線照射野絞り板　
（４１）・・・絞り選択設定機構（４５１−・・正面規
格撮影用マスク　唯）・・・側面規格撮影用マスク　細
）・・・絞り版移動機構の筒状ナツト（４９）−・・絞
り版移動機構の１対の平行ガイド軸轍・・・絞シ板移動
機構のねじ軸　（５６）・・・電動駆動体（パルスモー
タ）（５η・・・絞シ板選択設定の基準位置検出機構　
（６■・・・撮影様式判別回路兼カセツテ位置監視回路

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 ｌ被検者の頭部をはさんでＸ線源とカセツテとを対向配
   置した水平アームを１頭部回りに回動させ、かつその回
   動の逆方向に前記カセツテを移動せしめ１頭部の全顎を
   パノラマ状に撮影するとともに、長尺の支持アームを介
   して設けた規格撮影頭部固定部のカセツテに切換え的に
   頭部の正・側面規格撮影をするようにした装置において
   、前記Ｘ線源のＸｌｓ放射窓前面にパノラマ撮影用スリ
   ットと、正面および側面規格撮影用マスクとを形成した
   Ｘ＠照照射野ヤシ板移動自在に設けるとともに。 前記頭部固定部におけるカセツテ装填の有無ならびに装
   填したカセツテが正面撮影位置か側面撮影位置を検知し
   、術者の意図する撮影様式を判別する撮影様式判別手段
   ならびにこの手段の出力信号によって電動駆動体を制御
   し、前記絞ｐ板を移動せしめ、前記スリットおよびマス
   クのいずれか１つを選択し、所定位置に設定する絞り選
   択設定手段を設けたことを特徴とする歯科用Ｘ線全顎な
   らびに頭部規格撮影装置。 ２Ｘ線照射野絞υ板が矩形平板であり、スリットおよび
   マスクをその長手方向に配列形成してなる特許請求の範
   囲第１項記載の歯科用Ｘ線全顎ならびに頭部規格撮影装
   置。 ３Ｘ線照射野絞り板が円板または欠円状円板であり、ス
   リットおよびマスクを放射状に配列形成してなる特許請
   求の範囲第１項記載の歯科用Ｘ線全１ならびに頭部規格
   撮影装置。 ４、［動駆動体がパルスモータである特許請求の範囲第
   １項ないし第３項いずれかに記載の歯科用Ｘ１１１ｉ！
   全顎ならびに頭部規格撮影装置。 ５、絞り選択設定手段が絞シ板を設定したのちＸＭ曝射
   時まで、カセツテと絞りとの相対的位置関係を監視し、
   かつ維持する監視回路を付加してなる特許請求の範囲第
   １項ないし第４項のいずれかに記載の歯科用Ｘ線全顎な
   らびに頭部規格撮影装置。