JPS60135847A - 面分析装置 - Google Patents
面分析装置Info
- Publication number
- JPS60135847A JPS60135847A JP58248330A JP24833083A JPS60135847A JP S60135847 A JPS60135847 A JP S60135847A JP 58248330 A JP58248330 A JP 58248330A JP 24833083 A JP24833083 A JP 24833083A JP S60135847 A JPS60135847 A JP S60135847A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- rays
- sample surface
- spectrometer
- wavelength
- Prior art date
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- Granted
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/22—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
- G01N23/225—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material using electron or ion
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
イ・産業上の利用分野
本発明は試料面における化合物の分布状態を２次元的に
分析する装置に関する。
分析する装置に関する。
口・従来技術
試料面を２次元的に走査して分析する装置としてはＸ線
マイクロアナライザがあるが、この装置はＸ線分光器を
試料中の検出しようとする元素の特性Ｘ線の波長に合せ
ておき、試料面を電子ビームで走査するものであるから
、元素の面分析はできるが、化合物の分析の場合、Ｘ線
分光器の方を波長走査するので、実際上Ｘ線マイクロア
ナライザによる化合物分析は面分析でなく点分析しかで
きなかった。
マイクロアナライザがあるが、この装置はＸ線分光器を
試料中の検出しようとする元素の特性Ｘ線の波長に合せ
ておき、試料面を電子ビームで走査するものであるから
、元素の面分析はできるが、化合物の分析の場合、Ｘ線
分光器の方を波長走査するので、実際上Ｘ線マイクロア
ナライザによる化合物分析は面分析でなく点分析しかで
きなかった。
ハ・ 目 的
本発明はＸ線マイクロアナライザで化合物の面分析を行
なうことを目的とする。
なうことを目的とする。
ニ、構 成
本発明は元素間の結合状態の違いによって元素の特性Ｘ
線の波長がシフトし、或は特性Ｘ線ピークの半値幅が変
化し、或はＬα線とＬβ線の強度比が変化する仁とを利
用し、試料面に２次元的に測定点を配置し、各測定点に
おいて二以上の波長のＸ線検出強度を測定し、その結果
にデータ処理を施して試料面における構成元素の結合状
態の分布即ち化合物の分布状態を測定するもので、Ｘ線
分光器は波長走査を行わない点に特徴を有し、一つの波
長に固定して試料面の走査を行い、次に波長を変えて再
び試料面の走査を行うと云う繰返し法によるか複数のＸ
線分光器を５異る波長に設定して試料面の一回の走査で
必要なデータを採取するか何れかの方法を用い得る。
線の波長がシフトし、或は特性Ｘ線ピークの半値幅が変
化し、或はＬα線とＬβ線の強度比が変化する仁とを利
用し、試料面に２次元的に測定点を配置し、各測定点に
おいて二以上の波長のＸ線検出強度を測定し、その結果
にデータ処理を施して試料面における構成元素の結合状
態の分布即ち化合物の分布状態を測定するもので、Ｘ線
分光器は波長走査を行わない点に特徴を有し、一つの波
長に固定して試料面の走査を行い、次に波長を変えて再
び試料面の走査を行うと云う繰返し法によるか複数のＸ
線分光器を５異る波長に設定して試料面の一回の走査で
必要なデータを採取するか何れかの方法を用い得る。
ホ・実施例
第１図は本発明の一実施例を示す。１は試料、２は試料
を励起する電子ビーム、３は試料から放射されたＸ線、
４は分光結晶で５はＸ線検出器である。６は制御用コン
ピュータで、出力インターフェース７を介して、試料ス
テージ８及びＸ線分光器９を駆動し、また入力インター
フェース１０を介してＸ線検出器５の出力を読込みメモ
リＭ１、Ｍ２等に記憶させる。 。
を励起する電子ビーム、３は試料から放射されたＸ線、
４は分光結晶で５はＸ線検出器である。６は制御用コン
ピュータで、出力インターフェース７を介して、試料ス
テージ８及びＸ線分光器９を駆動し、また入力インター
フェース１０を介してＸ線検出器５の出力を読込みメモ
リＭ１、Ｍ２等に記憶させる。 。
第２図は制御コンピュータ６の動作を示す０コンピユー
タ６は試料面を第３図に示すようにＰ１１〜Ｐｎｎのｎ
２個の微小領域に分け、試料ステージ８を駆動して、こ
れらの微小領域を順次電子ビーム２の照射点に移動させ
、その時のＸ線検出器５の出力を読込んで行く。第２図
において、装置をスタートさせると、初期化動作ビ）で
ステージ位置を指定する指数ｉ、ｊが１にセットされ、
次いでＸ線分光器９が予め指定しである第１の波長λ１
の位置に駆動され（ロ）、ステージ８がｐＨの位置に駆
動（−’ｌされて測定が開始され、初回はＸ線検出器出
力データはメモリのＭ１チャンネルに格され（ホ）、Ｘ
線分光器９を予め指定しである第２の波長λ２の位置へ
駆動（へ）して動作はＡ点に戻シ、上述と同じ動作が繰
返され、２回目の測定データはメモリのＭ２チャンネル
に格納（チ）され、２回目の測定終了がステップに）で
検知されると、コンピュータ６はメモリＭｌ、Ｍ２に格
納されているデ′ −夕を読出して演算を行い、試料上
のｐＨ〜Ｐｎｎの各領域における化合物を判定して表示
装置１１によって表示する。
タ６は試料面を第３図に示すようにＰ１１〜Ｐｎｎのｎ
２個の微小領域に分け、試料ステージ８を駆動して、こ
れらの微小領域を順次電子ビーム２の照射点に移動させ
、その時のＸ線検出器５の出力を読込んで行く。第２図
において、装置をスタートさせると、初期化動作ビ）で
ステージ位置を指定する指数ｉ、ｊが１にセットされ、
次いでＸ線分光器９が予め指定しである第１の波長λ１
の位置に駆動され（ロ）、ステージ８がｐＨの位置に駆
動（−’ｌされて測定が開始され、初回はＸ線検出器出
力データはメモリのＭ１チャンネルに格され（ホ）、Ｘ
線分光器９を予め指定しである第２の波長λ２の位置へ
駆動（へ）して動作はＡ点に戻シ、上述と同じ動作が繰
返され、２回目の測定データはメモリのＭ２チャンネル
に格納（チ）され、２回目の測定終了がステップに）で
検知されると、コンピュータ６はメモリＭｌ、Ｍ２に格
納されているデ′ −夕を読出して演算を行い、試料上
のｐＨ〜Ｐｎｎの各領域における化合物を判定して表示
装置１１によって表示する。
鉄の表面の酸化状態を調べる場合、鉄のＬα線とＬβ線
の強度比は鉄単体の場合、２価の酸化状態の場合、３価
の酸化状態゛の場合で夫々異っている。そこで初回の測
定ではＸ線分光器を鉄のＬαの位置にセットし、− ＃二回目の測定でＬβの位置にセットする。演算はＰ’
ｌｌ〜Ｐｎｎの各点のＬα、Ｌβの測定値の比を算出し
て、鉄単体、２価、３価の酸化状態の判定を行い、単体
を０．２価を２．３価を３の数字で表わしてｐＨ〜Ｉ’
ｎｎに対応させて印字出力すると、試料面の酸化状態の
分布地図ができる。カラーブラウン管でカラー化表示す
ることもできる。
の強度比は鉄単体の場合、２価の酸化状態の場合、３価
の酸化状態゛の場合で夫々異っている。そこで初回の測
定ではＸ線分光器を鉄のＬαの位置にセットし、− ＃二回目の測定でＬβの位置にセットする。演算はＰ’
ｌｌ〜Ｐｎｎの各点のＬα、Ｌβの測定値の比を算出し
て、鉄単体、２価、３価の酸化状態の判定を行い、単体
を０．２価を２．３価を３の数字で表わしてｐＨ〜Ｉ’
ｎｎに対応させて印字出力すると、試料面の酸化状態の
分布地図ができる。カラーブラウン管でカラー化表示す
ることもできる。
上の実施例ではＸ線分光器は一台で波長位置を切換えて
複数回測定を繰返しているが、試料の周囲に複数個のＸ
線分光器を配置して一回の測定動作で必要なデータを採
取するようにすることも可能である。また試料面の走査
は試料ステージを動かすのでなく、電子ビームを偏向さ
せて走査してもよい。
複数回測定を繰返しているが、試料の周囲に複数個のＸ
線分光器を配置して一回の測定動作で必要なデータを採
取するようにすることも可能である。また試料面の走査
は試料ステージを動かすのでなく、電子ビームを偏向さ
せて走査してもよい。
へ、効 果
本発明によればＸ線分光器で波長走査を行わないから、
試料面を走査しても実用的な時間内で試料面の化合物分
析が完了でき、腐食試験片とか現用装置の表面から剥し
たような実サンプルでもそのま＼、表面の化学的変化を
２次元的に表現できる０
試料面を走査しても実用的な時間内で試料面の化合物分
析が完了でき、腐食試験片とか現用装置の表面から剥し
たような実サンプルでもそのま＼、表面の化学的変化を
２次元的に表現できる０
第１図は本発明の一実施例のブロック図、第２図は動作
のフローチャート、第３図は試料面の分析点の配列を示
す図である。 １・・・試料、２・・・電子ビーム、３・・・Ｘ線、４
・・・分光結晶、５・・・Ｘ線検出器、６・・・制御コ
ンピュータ、７・・・出力インターフェース、８・・・
試料ステージ、９・・・Ｘ線分光器、１０・・・入力イ
ンターフェース、Ｍｌ、Ｍ２・・・メモリ。 代理人 弁理士 縣 浩 介
のフローチャート、第３図は試料面の分析点の配列を示
す図である。 １・・・試料、２・・・電子ビーム、３・・・Ｘ線、４
・・・分光結晶、５・・・Ｘ線検出器、６・・・制御コ
ンピュータ、７・・・出力インターフェース、８・・・
試料ステージ、９・・・Ｘ線分光器、１０・・・入力イ
ンターフェース、Ｍｌ、Ｍ２・・・メモリ。 代理人 弁理士 縣 浩 介
Claims (1)
- 試料面を電子ビームで照射し、試料から放射されるＸ線
を分光する分析装置で、試料面に２次元的に測定点を設
定し、各測定点において夫々複数の固定された波長点で
Ｘ線強度を測定し、各測定点毎に、複数の波長のＸ線の
測定強度間で演算を行って化合物判定を行い、その結果
を２次元表示することを特徴とする面分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58248330A JPH0627718B2 (ja) | 1983-12-26 | 1983-12-26 | 面分析方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58248330A JPH0627718B2 (ja) | 1983-12-26 | 1983-12-26 | 面分析方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60135847A true JPS60135847A (ja) | 1985-07-19 |
| JPH0627718B2 JPH0627718B2 (ja) | 1994-04-13 |
Family
ID=17176474
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58248330A Expired - Lifetime JPH0627718B2 (ja) | 1983-12-26 | 1983-12-26 | 面分析方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0627718B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61281953A (ja) * | 1985-06-07 | 1986-12-12 | Shimadzu Corp | 状態カラ−マツピング装置 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51119289A (en) * | 1974-11-29 | 1976-10-19 | Agency Of Ind Science & Technol | Method of determining the heterogenous sample of micro-particles |
-
1983
- 1983-12-26 JP JP58248330A patent/JPH0627718B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51119289A (en) * | 1974-11-29 | 1976-10-19 | Agency Of Ind Science & Technol | Method of determining the heterogenous sample of micro-particles |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61281953A (ja) * | 1985-06-07 | 1986-12-12 | Shimadzu Corp | 状態カラ−マツピング装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0627718B2 (ja) | 1994-04-13 |
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