JPS60131817A - 高純度二酸化炭素の製造方法 - Google Patents

高純度二酸化炭素の製造方法

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JPS60131817A
JPS60131817A JP58238936A JP23893683A JPS60131817A JP S60131817 A JPS60131817 A JP S60131817A JP 58238936 A JP58238936 A JP 58238936A JP 23893683 A JP23893683 A JP 23893683A JP S60131817 A JPS60131817 A JP S60131817A
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  • Treating Waste Gases (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は二酸化炭素含有ガスから高純度二酸化炭素を製
造する方法に関する。詳しく紘二酸化炭素含有ガスをア
ルカリ性溶液と接触せしめて二酸化炭素を吸収し、二酸
化・炭素含有アルカリ性溶液を加熱して二酸化炭素を放
散せしめる工程から高純度二酸化炭素を製造する方法に
関する。さらに詳しくはエチレンを分子状酸素源として
酸素を用いて、銀触媒の存在下、接触気相酸化してエチ
レンオキシドを製造するいわゆるエチレンの酸素酸化法
において、エチレンと分子状酸素との副反応で生成する
二酸化炭素(以下CO2という)含有ガスから高純度C
0tを製造する方法に関する。
大気圧よシ高い圧力下にC02含有ガスとアルカリ性溶
液と接触せしめてCO,含有吸収液とし。
吸収液を大気圧に近い圧力で操作される放散塔頂部に供
給し、加熱して吸収液中の00.を放散せしめる方法は
米国特許第2886405号に記載されている。しかし
これら方法で得られるCO。
ガス中には吸収時に溶解されるCO,以外の炭化水素、
酸素、窒素、水素等のガスが同伴し不純物の多いC0,
ガスしか得られない。
本発明は前記問題点を解決する方法を見出し本発明を完
成上たものである。
つぎに工゛チレ/オキシドの製造プロセスにおいて、循
環ガス中から高純度のCO,を製造方法について説明す
る。
エチレンと分子状酸素とを銀糸触媒上で反応せ□しめる
と、 C,H4+ylo、→c!電。・曲・曲・・・・曲(1
)で示される主反応でエチレンオキシドが生成し、この
#まかに必ず。
C,H,+ 3 o、−+ 2 Co、+ 211.0
 ・−・・−・(2+で示される副反応により Co、
および水が生成することが知られている。そして、エチ
レンを分子状酸素によシ銀触媒の存在下、接触気相酸化
してエチレンオキシドを製造する方法において。
エチレンオキシドの収率を高めるため、エチレンの反応
率を小さくし、前記反応式(1)で示される主反応が起
る方法、すなわちエチレンの反応率を小さくシ、エチレ
ンオキシドの選択率を大きくする方法が採用され、未反
比エチレンは反 一応帯へ再循環されているのが一般的
である。
このような未反応エチレンを反□応帯へ循環させる方法
において、前記1反応式(1)で生成する主反応生成物
のエチレンオキシドおよび反応式(2)で生成する副反
応生成物のCO,、水並びに循環工程中に多量に導入さ
れる希釈ガスとして(メタン、エタン、窒素、アルゴン
、炭酸ガス)の不活性ガスを分離しなければ、一定のガ
ス組成で反応を遂行することが不可能に陥いる。
この反応生成ガス流からエチレンオキシド。
CO,、水並びに不活性ガスを分離する方法として1次
のエチレンの空気酸化法特公昭46−24004号公報
およびエチレンの酸素酸化法特公昭38−19103号
公報、特公昭38−21063号公1報1特公昭44−
3.0244号公報等の代表的なプロセスが知られてい
る。
エチレンを分子状酸素により銀触媒の存在下、接触気相
酸化して。
る方法において、分子状酸素の供給源としソ。
゛酸素、を用いるエチレンの酸素酸化法においては。
エチレンオキシドを含む反応生成ガスをエチレンオキシ
ド吸収塔に導びき水を主とする吸収液と向流接触させ反
応生成ガス中のエチレンオキシドを吸収液に溶解せしめ
て回収し、吸収液と吸収されなかった未反応のエチレン
、酸素およびCO,、窒素、アルゴン、メタン、エタン
等からなる希釈ガスから、エチレンと分子状酸素との副
反応で生成したCO,を分離して後反応器ヘリサイクル
し、そして反応に使用されたエチレンおよび酸素ならび
に反応帯と吸収工程とのプロセスでわずかに漏出したガ
ス分を補充することによシ反応原料ガス組成を調製し反
応に供することができる。
従来、前記酸素法におけるCO,の分離方法として、エ
チレンオキシド吸収塔頂よりのガスの一部は反応帯へリ
サイクルし、残部をCO,吸収塔へ導びき、アルカリ性
吸収液たとえば熱炭酸カリ水溶液と向流接触させて、C
O,を炭酸カリ水溶液に吸収せしめ、この、炭酸ガスを
、含んだ炭酸カリ水溶液を′C0,放散塔へ導びき、放
散塔で加熱することによシ、CO,を放散分離し、co
2放散塔底の実質的にCO!を放散分離した後の熱炭酸
カリ水溶液は再びCO,吸収塔の吸収液として使用する
方法が採用されている。
しかしながら、前記エチレンの酸素酸化によるエチレン
オキシド製造方法に5おけるco、放散塔頂より放散さ
れるC0.を含むガス中には吸収時に溶解するエチレン
、メタン、エタン、エチレンオキシド等の炭化水素、窒
素、アルゴン等の不活稚ガスおよび酸素が数千ppm程
度混入し、高純度の00.が得られない問題があった。
本発明の目的は前記のような問題点を解決し、高純度二
酸化炭素を製造する方法である。
本発明は二酸化炭酸含有ガスをアルカリ溶液で吸収させ
た吸収液を放散塔の気液接触部上へ供給し、該気液接触
部の上部で発生する放散ガスは分離し該気液接触部以下
で発生する放散ガスを取得することを特徴とする高純度
二酸化炭素の製造方法に関するものである。
本発明の高純度二酸化炭素は、放散塔において、C0,
含有吸収液が最初に供給される気液接触部より下に設け
られた気相部よシ放散ガスを得ることによって本発明の
目的が達成される。
本発明のCO,含有ガスとアルカリ性吸収液とを接触さ
せる際に使用するアルカリ性吸収液としては、炭酸ナト
リパウム、炭酸カリウム、重炭酸ナトリウム、重炭酸カ
リウム、水酸化ナトリラム、水酸化カリウム、モノエタ
ノールアミン。
ジェタノールアミン、トリエタノールアミン等のアルカ
ノールアミン、ジグリコールアミンおよびこれらの水溶
液が使用できる。
本発明の放散塔に供、給する吸収液供給管よシ下部に設
けられた気液接触面を形成する手段としては、バブルキ
ャップトレイ、ユニフラックストレイ、ターボグリッド
トレイ、リップトレイ、フレキシトレイ、シーブトレイ
、パラストトレイ等のトレイがある。同様にラシヒリン
グ、ボールリング、サドル型リング、スパイラルリング
、ステッドマンバッキング、インターロックスメタルバ
ッキング(ツートン社)、カスケードミニリング(トッ
ドウェル社製)等の充填物の層も使用できる。
したがって放散塔としては、トレイ塔および充填塔型の
放散塔が使用され、特に複数個のトレイおよび/または
充填物を備えた塔が好ましい。
本発明の気液接触面よシ下部から放散ガスを取得する方
法としては、放散塔に供給する吸収液供給部の下部に設
けられたトレイとトレイの間の気相部、充填層の気相部
、充填層と充填層の間の気相部が挙げられる。好ましく
は少なくとも一理論段数以上に相当するトレイまたは充
填層より放散ガスを取得することができる。
本発明は天然ガス、ナフサ等の水蒸気改質。
原油の部分酸化1重油の部分酸化、石炭ガス化、アンモ
ニア、メタノール、水素、製鉄工業等の製造プロセスよ
り排出されるco、含有ガスから高純度CO,製造に適
する方法である。
本発明をさらに詳しく説明するために、図面によシ説明
する。図面は本発明の実施態様および使用される装置の
一例を示すもので、本発明を制限するものではない。
本発明による高純度co!製造方法をエチレンオキシド
製造プロセスに使用する場合を例にとって図面を参黒し
ながら説明する。図−1は酸素酸化法の原理を示すフロ
ーシートであって、ライン(1)から供給されるエチレ
ンおよびライン(2)から供給されるメタン、エタン、
窒素等の希釈ガスは、ライン(3)から循環されるエチ
レンおよび酸素、メタン、エタン、窒素、 CO,アル
ゴンよシなる混合ガスと混合さ゛れてジイン(4)にょ
シ反応器(5)で接触気相酸化される。反応器(5)を
出たエチレンオキシドを含有する反応生成ガスは冷却器
(6)で所定の温度に冷却されたのち、圧力2〜40 
kg/cl、aのエチレンオキシド吸収塔(7)の下部
へ導入され、塔頂よシ導入される温度40℃以下の水ま
たはエチレンオキシド放散塔(8)の塔底部よシライン
(9)を経て導入される温度40℃以下のエチレングリ
コール水溶液からなる吸収液と向流接触されて、エチレ
ンオキシドは吸収される。吸収液は、塔底よシラインQ
OIを経てエチレンオキシド放散塔(11塔頂部に供給
され、ここでリボイラーα4)の加熱によりエチレンオ
キシドは放散されて、塔頂上シライン0□□□を経て精
製工程へ送られる。エチレンオキシドを実質的に除去さ
れた塔底液は冷却器(ハ)で冷却されライン(9)よジ
エチレンオキシド吸収塔(7)に吸収液として循環され
る。一方、エチレンオキシド吸収塔(力にはライン(1
1)よシ純酸素が供給され、その一部はラインazよシ
反応器(5)へ循環され、残部はラインaeを経て圧力
2〜’ 0 kg/ff1G、温度80〜120℃に操
作さ糺たCO2吸収塔(LDへ導びかれ、 CO2放散
塔(21)よりライン(20)を経て供給されるアルカ
リ性吸収液と向流接触されてCO2のほかに少量のイナ
ートガスたとえばエチレン、メタン、エタン、酸素、窒
素、アルゴンが吸収される。CO2吸収塔aηの塔頂よ
り未吸収ガスはラインQ0を経てライン(3)へ送られ
、新たに補充されるエチレン、希釈ガス等と混合された
後、反応器(5)へ循環される。
C02吸収塔(17)で00□を吸収したC02濃厚吸
収液はラインα1)を経て圧力0.1〜skg々旬、温
度80〜120℃で操作され、塔底部にリポイ> −(
221を設置したCO,放散塔CI!1)の塔頂部に供
給される。
塔頂部の供液部において吸収液はCO2吸収塔a7)と
CO2放散塔c21)の圧力差によって、圧力フラッシ
ュを起こし吸収液中の10〜30容量チのCO2れる。
圧力フラッシュにより co、の一部を分離高純度CO
,は、気液接触部(24)最上部から下方。
好ましくは、気液接触に必要な一理論段数以上に相当す
る気液接触部の下部の放散塔+21)内部から得られる
。即ち、気液接触部04)でCO,吸収液中のイナート
ガスは、下部から上昇してくるごく微量のイナートガス
を含むCO,と水蒸気とによって向流気液接触を起こし
て放散され、イナートガスの濃度は、極めて低くなる。
従ってこの放散後のガスを取り出せば高純度のco、ガ
スが得られる。
即ち、充填塔の場合は、充填層内及び充填層と充填層の
間から、又は、トレイ塔の場合はトレイとトレイの間か
ら、吸収液を混入しない様にしてガスを抜き出せば高純
度CO1が得られる。
この絵図−1のフローシートでは、得られる高純度CO
3は、CO2吸収塔aηで吸収されたCO。
の20〜90容量チである。
実施例1 図−1において圧力23.5 kl /crlG 、温
度塔頂110℃に操作された充填塔形式のCO,吸収塔
0憤下部に、IO吸収塔(7)よりの未吸収ガスをう重
量%炭酸カリ水溶液を供給し、向流接触せしめた。CO
8吸収塔aηの塔頂より未吸収ガスはラインa枠を経て
反応器(5)に循環した。CO,吸収塔aηの塔底よシ
吸収液はラインIを経て、圧力0.2kliF/CI!
tG、温度100℃に操作されリボイラーQ3によシ加
熱できる充填塔形式のC02放散塔QD。
塔頂部に供給し、ライン(至)より吸収液中のガスを放
散せしめた。ライン(至)より放散させたガスはライン
翰の吸収液中に含まれるガス量の30容量チであった。
CO,放散塔01)の充填層04)と充填層(財)との
室内部よシライン(ハ)を通して残部の放散ガスを得た
。このガス量は吸収塔anで吸収されたC0.量の30
容量−であった。ライン(ハ)よシ得られたガスの組成
は、乾燥CO,に対してエチレン、メタンおよびエタン
等の炭化水素の合計量は0.1容量ppm、酸素2容量
ppm、窒素4容量ppmであった。
比較例 図−1において、実施例1のライン(ハ)よりガスの抜
き出しをしない以外は実施例1と同様の方法で行ない、
CO,放散塔01)の塔頂よりライン(ハ)を経てガス
を放散した。
ライン(ハ)よシ得られたガスの組成は、乾燥CO2に
対して、エチレン3000容量ppm、メタン350O
容量ppm、酸素4000容量ppm であった。
【図面の簡単な説明】
図−1は本発明の高純度二酸化炭素の製造プロセスの一
実施例を示すフローシートである。 (5)反応器 (7)FjO吸収塔 α3 10放散塔 (17) cot吸収塔 CQ) co、放散塔 (ハ)放散ガス2イン (2)充填層 (ハ)高純度C0,ガス取出しライン (ホ)冷却器

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (リ 二酸化炭素含有ガスをアルカリ性溶液で吸収させ
    た吸収液を放散塔の気液接触部上へ供給し、該気液接触
    部の上部で発生する放散ガスは分離し、該気液接触部以
    下で発生する放散ガスを取得することを特徴とする高純
    度二酸化炭素の製造方法。
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