JPS60127779A - タ−ゲツト照射アラインメント装置 - Google Patents

タ−ゲツト照射アラインメント装置

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Publication number
JPS60127779A
JPS60127779A JP58236742A JP23674283A JPS60127779A JP S60127779 A JPS60127779 A JP S60127779A JP 58236742 A JP58236742 A JP 58236742A JP 23674283 A JP23674283 A JP 23674283A JP S60127779 A JPS60127779 A JP S60127779A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
target
centering
incident
laser
laser beam
Prior art date
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Pending
Application number
JP58236742A
Other languages
English (en)
Inventor
Norio Moribe
守部 紀夫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Nippon Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp, Nippon Electric Co Ltd filed Critical NEC Corp
Priority to JP58236742A priority Critical patent/JPS60127779A/ja
Publication of JPS60127779A publication Critical patent/JPS60127779A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/23Arrangements of two or more lasers not provided for in groups H01S3/02 - H01S3/22, e.g. tandem arrangements of separate active media
    • H01S3/2383Parallel arrangements
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/23Arrangements of two or more lasers not provided for in groups H01S3/02 - H01S3/22, e.g. tandem arrangements of separate active media
    • H01S3/2308Amplifier arrangements, e.g. MOPA
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E30/00Energy generation of nuclear origin
    • Y02E30/10Nuclear fusion reactors

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はレーザ核融合装置に関し、特にターゲラl−1
Tljシステムにおいてレーザビームのターゲットに対
するポインティング、センタリング及びフォーカシング
の3機能の内、高精度でセンタリングを行なうためのタ
ーゲット照射アラインメント装置に関する。
従来、この種のターゲット照射アラインメント装置は2
組の集光ミラーを使い第1の集光ミラー(以下センタリ
ングミラーと称する)により第2の集光ミラー(以下ポ
インティングミラーと称する)に対してセンタリングを
行ないポインティングミラーによりターゲットに対する
ポインティングを行なうことで、ターゲットに対するセ
ンタリングとポインティングのアラインメントを実施す
るのが常套手段であった。しかしながら、数100μm
の核燃料ターゲットに対する高精度のセンタリング及び
ポインティングを実現するためには上述の方式ではセン
タリングミラーにより、センタリングのアラインメント
を実施するとボインティングミラーに対するレーザビー
ムの入射角が変化し、必然的にポインティングミラー出
射ビームのターゲットに対する入射方向が変化するため
タ−ゲットに対するボインティングのアラインメントも
影響を受け変化してしまうという欠点があった。
換言すれば従来の方式ではターゲットに対するセンタリ
ングとボインティングを高精度に実現するためには、セ
ンタリングアラインメントとボインティングアラインメ
ントラ交互に何度も実施し、最適のアラインメントに収
束させる必要がおった。
従って、短時間に確実にセンタリング及びボインティン
グのアラインメントラ実施する点で難点となっていた。
本発明の目的は上記の欠点を除去するために、センタリ
ング及びボインティングのアラインメントのクロストー
クを排除し、独立に早く確実に高精度で実施できるよう
Kしたターゲット照射アラインメント装置を提供するも
のである。
即ち、センタリングアラインメントの方式として従来の
ミラーを使用した反射方式に代り、透過方式を採用した
装置を提供することにおる。
本発明によれば、レーザビームを透過する平板をセンタ
リング装置として使用するため、出射ビームの方向を狂
わすことなく、センタリングアラインメントのみを独立
に高精度で実行することが容易に達成できるようKなる
。しかも、光学素子の挿入による非線型収差の増大の恐
れもほとんどないという利点がある。
本発明の装置はアラインメントレーザ、主レーザ発振器
、前置増幅器列及び前記増幅列からのビームを複数に分
岐させた主増幅器列と前記主増幅列の出力ビームをター
ゲットに照射する照射系から構成されるレーザ方式のタ
ーゲット照射装置において前記複数の主増幅器の各々の
入射側にレーザビームを透過する平板の光学素子を前記
光学素子を収容し、レーザビームの出射位置を調整する
ためのジンバル機構とから構成される。
次に本発明の実施例について図面を参照して説明する。
図は本発明によるターゲット照射アラインメント装置の
構成図を示す。
本発明の装置はアラインメントレーザ1と、主レーザ発
振器17と、前置増幅器列2と、ビーム分割器4と、複
数の主増幅器列5.5′と、前記の入射側に配設された
センタリングアライメンタ3,3′と、集光ミラー6.
6’、7.7’及びターゲットシステム8から成る。
センタリングアラインメンタ3,3’ハレーザビームを
透過する平板の光学素子と前記光学素子を収容し、セン
タリングアラインメンタから射出するレーザビームの位
置を調整するためのジンバル機構忙よ多構成される。ま
た、ターゲットシステムはターゲットチャンバ、ターゲ
ット設定装置、ターゲット監視装置、集光レンズ、真空
排気装置(いづれも図示せず)等から構成される通常の
システムである。
アライメントレーザ1からのレーザビーム10は前置増
幅器列2を透過し、レーザビーム11として光線分割器
4に入射する。光線分割器4により複数のビーム(第1
図では簡明のため2ビームの場合について示しである)
12.12’となり、各々のアライメントセクタ3.3
′に入射し、センタリングアライメンタ3,3′により
ビームの変位を受けて出力ビーム13.13’として主
増幅器列5.5′に入射する。主増幅器列5,5′の出
力ビーム14.14’は集光ミラー6、6’ 、 7.
7’によってターゲットシステム8に導かれターゲット
を照射する。センタリングアライメンタ13,13’は
手動式または自動式で駆動され、センタリングセクタ入
射ビームに対し、必要な変位を与え、集光ミラー7、τ
に対してセンタリングアラインメントを行ない以ってタ
ーゲットに対し垂直に入射するように、アラインメント
を実行する。
以上説明したように1本発明はターゲット照射に対する
センタリングのアラインメント装置として、上述のセン
タリングアラインメンタを採用しているため、ターゲッ
ト照射アラインメントにおいて、センタリングとボイン
ティングを独立のアラインメントとして実行できる。よ
って、従来の集光ミラーのみによる方式に比ベセンタリ
ングとボインティングのアラインメン)f確実に、早く
高精度で実施できる効果がある。
【図面の簡単な説明】
図は本発明の一実施例を示す構成図である。 1・・・・・・アライメントレーザ、2・・・・・・前
置増幅器列、3.3’・・・・・・センタリングアライ
ンメンタ、4・・・・・・ビーム分割器、5,5′・・
・・・・主増幅器列、6,6′・・・・・・集光ミラー
(センタリングミラー)、7.7’・・・・・・集光ミ
ラー、8・・・・・・ターゲットシステム、17・・・
・・・レーザ主発振器。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. アラインメントレーザ、主レーザ発振器、前置増幅器列
    及び前記前置増幅器列からのビームを複数に分岐させた
    主増幅器列と前記主増幅器列の出力ビームをターゲット
    に照射する照射系から構成されるレーザ方式のターゲッ
    ト照射装置において、前記複数の主増幅器の各々の入射
    側にレーザビームを透過する平板の光学素子と、前記光
    学素子により前記レーザビームの出射位置を調整できる
    手段とを備えたことを特徴とするターゲット照射アライ
    ンメント装置。
JP58236742A 1983-12-15 1983-12-15 タ−ゲツト照射アラインメント装置 Pending JPS60127779A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58236742A JPS60127779A (ja) 1983-12-15 1983-12-15 タ−ゲツト照射アラインメント装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58236742A JPS60127779A (ja) 1983-12-15 1983-12-15 タ−ゲツト照射アラインメント装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS60127779A true JPS60127779A (ja) 1985-07-08

Family

ID=17005112

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP58236742A Pending JPS60127779A (ja) 1983-12-15 1983-12-15 タ−ゲツト照射アラインメント装置

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JP (1) JPS60127779A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101840736A (zh) * 2010-05-07 2010-09-22 中国科学院自动化研究所 一种视觉引导下的光学玻璃安装装置及安装方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101840736A (zh) * 2010-05-07 2010-09-22 中国科学院自动化研究所 一种视觉引导下的光学玻璃安装装置及安装方法

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